一种采用气体冷却的刻蚀样品台制造技术

本实用新型专利技术公开一种采用气体冷却的刻蚀样品台，包括一升降底台，在升降底台的顶部设置有浅槽；升降底台上方设置有卡盘，卡盘底部设置有环形胶垫，升降底台顶部设置有环形密封垫；样品置于升降底台的顶部盖住所述浅槽，且随升降底台上升的过程中被压设在环形密封垫与环形胶垫之间，所述空腔中充有冷却的惰性气体。本实用新型专利技术实现了密封气体对刻蚀样品的冷却。

An etching sample platform using gas cooling

The utility model discloses a sample table by means of etching gas cooling, including a lifting base, in a shallow groove is arranged on the top end of the lifting platform; lifting the bottom set above the chuck, chuck is arranged at the bottom part of the annular rubber pad, the lifting base is arranged on the top of the annular gasket; samples were placed in the elevator bottom top cover Taiwan the shallow groove, and with the increase in the lifting process of base pressure was located in the annular seal and the annular pad between the cavity filled with inert gas cooling. The utility model realizes the cooling of the sealed gas to the etched sample.

【技术实现步骤摘要】
一种采用气体冷却的刻蚀样品台
本技术涉及一种离子刻蚀设备，具体涉及一种采用气体对光刻样品进行冷却的样品台。
技术介绍
在感应耦合等离子体刻蚀(ICP)、反应离子刻蚀(RIE)等刻蚀设备中，为了保证光刻胶在刻蚀过程中不会因受到轰击升温变质与软化，需要对刻蚀样品进行冷却。而在某些应用中，为了防止刻蚀腔体不经常暴露大气，保证良好的工作环境，样品往往通过另外的预真空室(load-lock室)用机械手自动送入刻蚀室，及从刻蚀室自动取出。采用的load-lock技术送入的样品(或样品盘)是自然放在样品台上的，尽管样品台可以通过水冷技术冷却，但由于样品或样品盘与水冷工作台间，从微观角度讲不可能很平整，只能形成点接触或微面接触，接触面积较小从而使冷水不可能很好地对样品或样品托盘进行冷却。因此，有人采用在样品盘底部与工作台之间通入冷却氦气的方式对样品盘背面进行吹拂，达到冷却的效果。但是，如何能够使得样品盘底部与工件台之间形成局部密封，保证气体的密封性，不至于使氦气泄漏到真空腔体内，也不至于使样品被吹拂起来，是至关重要的。
技术实现思路
因此，本技术提供一种采用气体冷却的刻蚀样品台，实现光刻胶样品的冷却,使样品本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种采用气体冷却的刻蚀样品台，其特征在于：包括一升降底台，在所述升降底台的顶部设置有浅槽；所述升降底台周围布置有立柱，在所述立柱上固定有卡盘，所述卡盘位于所述升降底台的正上方；所述卡盘底部设置有环形胶垫，所述升降底台顶部环绕所述浅槽设置有环形密封垫；样品置于所述升降底台的顶部，盖住所述浅槽，且随所述升降底台一同上升的过程中被压设在所述环形密封垫与环形胶垫之间，使所述浅槽形成一密封空腔；所述空腔中充有冷却的惰性气体。

【技术特征摘要】
1.一种采用气体冷却的刻蚀样品台，其特征在于：包括一升降底台，在所述升降底台的顶部设置有浅槽；所述升降底台周围布置有立柱，在所述立柱上固定有卡盘，所述卡盘位于所述升降底台的正上方；所述卡盘底部设置有环形胶垫，所述升降底台顶部环绕所述浅槽设置有环形密封垫；样品置于所述升降底台的顶部，盖住所述浅槽，且随所述升降底台一同上升的过程中被压设在所述环形密封垫与环形胶垫之间，使所述浅槽形成一密封空腔；所述空腔中充有冷却的惰性气体。2.根据权利要求1所述的刻蚀样品台，其特征在于：所述立柱有3-4根，均布于所述升降底台的四周，所述卡盘由卡爪和压环构成，其中所述卡爪等数量地设置于各所...

【专利技术属性】
技术研发人员：关江敏，赵一，徐靖，
申请(专利权)人：北京创世威纳科技有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11