一种彩膜基板、显示面板和显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开一种彩膜基板、显示面板和显示装置，涉及显示技术领域，以在阻止小分子有机彩色色阻材料扩散到液晶的同时，降低保护层与彩色滤光层之间具有良好的粘附性。该彩膜基板包括衬底基板以及形成在衬底基板表面的彩色滤光层；彩色滤光层背离衬底基板的表面设有保护层，保护层中含有有机材料和无机材料，且沿着远离彩色滤光层背离衬底基板的表面，保护层中无机材料的含量先逐渐增加，然后逐渐降低。所述显示面板包括上述技术方案所提的彩膜基板。本发明专利技术提供的彩膜基板用于显示装置中。

Color film substrate, display panel and display device

The invention discloses a color film substrate, a display panel and a display device, which relates to the display technology field, so as to prevent the small molecule organic color color resistance material from diffusing into the liquid crystal, and simultaneously to reduce the good adhesion between the protective layer and the color filter layer. The color film substrate comprises a substrate and a color filter layer formed on the substrate surface of the substrate; a color filter layer surface from substrate substrate is provided with a protective layer, the protective layer containing organic and inorganic materials, and the color filter layer from the substrate along away from the surface of the substrate, the protection of the content of inorganic material layer in the first and then increased gradually. Decreased gradually. The display panel includes the color film substrate proposed by the technical proposal. The color film substrate provided by the invention is used in the display device.

【技术实现步骤摘要】
一种彩膜基板、显示面板和显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种彩膜基板、显示面板和显示装置。
技术介绍
薄膜晶体管液晶显示器(ThinFilmTransistorLiquidCrystalDisplay，缩写为TFT-LCD)广泛应用在手机、平板电脑、电视等产品上，如图1所示，薄膜晶体管液晶3显示器主要包括彩膜基板1、阵列基板2以及形成在彩膜基板1和阵列基板2之间的液晶3。如图1和图2所示，而常见的彩膜基板1包括衬底基板10，以及形成在衬底基板10上的彩色滤光层11，且彩色滤光层11背离衬底基板10的表面还形成有保护层12和配向层4；其中，保护层12和配向层4一般采用有机材料制成，且目前彩色滤光层11中的彩色色阻112在高温条件下分子运动比较剧烈，当彩色色阻112所使用的材料为小分子有机彩色色阻材料时，小分子有机彩色色阻材料容易穿过光刻胶保护层12和配向层4扩散到液晶3中，导致薄膜晶体管液晶3显示器所显示的画面出现亮点、异物不良(图2中白色圆圆所围成的区域)，严重影响了薄膜晶体管液晶3显示器的生产良率及产品信赖性。为了防止小分子有机彩色色阻材料在高温条件下扩散到液晶3中，人们采用无机材料制作保护层12，以阻隔小分子有机彩色色阻材料从保护层12扩散到液晶3中。但是，由于彩色滤光层11采用有机材料制成，使得彩膜基板1中的保护层12与彩色滤光层11的物理参数匹配性能差异比较大，导致保护层12容易从彩色滤光层11的表面剥离而破裂。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种彩膜基板、显示面板和显示装置，以在阻止小分子有机彩色色阻材料扩散到液晶的同时，降低保护层与彩色滤光层之间具有良好的粘附性。为了实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种彩膜基板，该彩膜基板包括衬底基板，以及形成在衬底基板表面的彩色滤光层；所述彩色滤光层背离所述衬底基板的表面设有保护层，所述保护层中含有有机材料和无机材料，且沿着远离所述彩色滤光层背离所述衬底基板的表面，所述保护层中无机材料的含量先逐渐增加，然后逐渐降低。与现有技术相比，本专利技术提供的彩膜基板中，沿着远离彩色滤光层背离衬底基板的表面，保护层中无机材料的含量先逐渐增加，然后逐渐降低，使得沿着远离彩色滤光层背离衬底基板的表面，保护层中有机材料的含量先逐渐降低，然后逐渐增加。这样一来保护层表面的有机材料含量就比较高，而保护层内部无机材料含量比较高。当本专利技术提供的彩膜基板受到外力时，保护层表面的有机材料能够缓冲并吸收保护层内部的无机材料所产生的应力，而且，由于保护层表面的材料和彩色滤光层的材料均为有机材料，具有良好的物理参数匹配性，因此，当本专利技术提供的彩膜基板受到外力时，保护层表面所产生的应力与彩色滤光层所产生的应力比较接近，这使得保护层与彩色滤光层之间的剥离可能性大大降低。不仅如此，当保护层表面的材料和彩色滤光层的材料均为有机材料，其所具有的良好物理参数匹配性能，也能够使得彩膜基板中的保护层和彩色滤光层具有相似的热膨胀系数，这也从另外一方面减小了保护层与彩色滤光层之间的剥离可能性。另外，本专利技术提供的彩膜基板中，由于沿着远离彩色滤光层背离衬底基板的表面，保护层中无机材料的含量先逐渐增加，然后逐渐降低，使得保护层表面的有机材料含量就比较高，而保护层内部无机材料含量比较高。如果彩色滤光层中的彩色色阻所使用的材料为小分子有机彩色色阻材料，在彩膜基板处在高温条件时，小分子有机彩色色阻材料虽然能够通过保护层表面的有机材料进入保护层内部，但是由于保护层内部的无机材料含量比较高，因此，这些进入保护层内部的无机材料很难穿过保护层内部的无机材料，到达保护层远离彩色滤光层的表面。因此，本专利技术提供的彩膜基板中，通过对保护层中有机材料和无机材料的含量调节，还能够保证保护层对小分子有机彩色色阻材料的阻隔能力，从而防止小分子有机彩色色阻材料通过保护层扩散到液晶中。本专利技术还提供了一种显示面板，该显示面板包括上述技术方案所述彩膜基板，所述彩膜基板中，所述保护膜背离所述彩色滤光层的表面设有配向膜。与现有技术相比，本专利技术提供的显示面板的有益效果与上述技术方案提供的彩膜基板的有益效果相同，在此不做赘述。本专利技术还提供了一种显示装置，包括上述技术方案提供的显示面板。与现有技术相比，本专利技术提供的显示装置的有益效果与上述技术方案提供的彩膜基板的有益效果相同，在此不做赘述。附图说明此处所说明的附图用来提供对本专利技术的进一步理解，构成本专利技术的一部分，本专利技术的示意性实施例及其说明用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的不当限定。在附图中：图1为现有技术中薄膜晶体管液晶显示器的主体结构示意图；图2为现有技术中薄膜晶体管液晶显示器的画面示意图；图3为本专利技术实施例提供的第一种彩膜基板应用于显示面板的结构示意图；图4为本专利技术实施例提供的第一种彩膜基板中保护层的膜厚与材料含量的曲线图；图5为本专利技术实施例提供的第二种彩膜基板应用于显示面板的结构示意图；图6为本专利技术实施例提供的第二种彩膜基板中保护层的膜层序号与膜质比的曲线图。附图标记：1-彩膜基板，10-衬底基板；11-彩色滤光层，111-黑矩阵；112-彩色色阻，12-保护层；121-第一子保护膜，122-第二子保护膜；123-第三子保护膜，124-第四子保护膜；125-第五子保护膜，2-阵列基板；3-液晶，30-隔垫物；4-配向层。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。请参阅图3和图5，本专利技术实施例提供的彩膜基板1，包括衬底基板10，以及形成在衬底基板10表面的彩色滤光层11，彩色滤光层11背离衬底基板的表面设有保护层12，保护层12中含有有机材料和无机材料，且沿着远离彩色滤光层11背离衬底基板的表面，保护层12中无机材料的含量先逐渐增加，然后逐渐降低。可以理解的是，本专利技术实施例在没有特殊说明的时候，所指出的含量可以为质量含量，也可以为体积含量，而衬底基板10一般为透光玻璃或柔性基底，当然也可以是其他能过作为基底的基板，彩色滤光层11可包括黑矩阵111以及设在黑矩阵111开口区的彩色色阻112，一般来说黑矩阵111由遮光性有机材料制成，彩色色阻112一般由彩色有机树脂材料制成。当制作彩膜基板1中的保护层12时，可通过等离子体增强化学气相沉积法(PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition，缩写为PECVD)或原子层沉积(Atomiclayerdeposition，缩写为ALD)法制作。具体的，将有机材料和无机材料分别用不同的管道引入成膜设备中，并通过控制二者的流量调节调节保护层12中有机材料和无机材料的含量。基于上述实施例提供的彩膜基板1中，沿着远离彩色滤光层11背离衬底基板10的表面，保护层12中无机材料的含量先逐渐增加，然后逐渐降低，使得沿着远离彩色滤光层11背离衬底基板10的表面，保护层12中有机材料的含量先逐渐降低，然后逐渐增加；这样一来保护层12表面的有机材料含量就比较高，而保护层12内部无机材料含量比较高。当上述实施例提本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩膜基板，包括衬底基板，以及形成在衬底基板表面的彩色滤光层；其特征在于，所述彩色滤光层背离所述衬底基板的表面设有保护层，所述保护层中含有有机材料和无机材料，且沿着远离所述彩色滤光层背离所述衬底基板的表面，所述保护层中无机材料的含量先逐渐增加，然后逐渐降低。

【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板，包括衬底基板，以及形成在衬底基板表面的彩色滤光层；其特征在于，所述彩色滤光层背离所述衬底基板的表面设有保护层，所述保护层中含有有机材料和无机材料，且沿着远离所述彩色滤光层背离所述衬底基板的表面，所述保护层中无机材料的含量先逐渐增加，然后逐渐降低。2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述有机材料为有机聚合物二氧化硅、有机氮氧化硅、有机铝化合物中的一种或多种；所述无机材料为二氧化硅、氮化硅、氧化铝中的一种或多种。3.根据权利要求1或2所述的彩膜基板，其特征在于，所述保护层为单层膜；所述单层膜中无机材料的最高含量为100％，所述单层膜中无机材料的最低含量为0％；所述单层膜中有机材料的最高含量为100％，所述单层膜中有机材料的最低含量为0％。4.根据权利要求3所述的彩膜基板，其特征在于，所述单层膜中无机材料质量含量大于85％的部分的厚度至少为0.5μm。5.根据权利要求1或2所述彩膜基板，其特征在于，所述保护层包括多层子保护膜，...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐朝哲，高志扬，李纪，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11