The utility model discloses a silicon laser edge equipment, including silicon wafer and drive for placement in the horizontal plane and the rotation of the rotating platform along the circumference of the rotating platform layout of laser generator, laser head of the laser generator side circumference of silicon wafer to launch on hair removal of silicon PN junction periphery shot. The utility model adopts the laser generator and can drive the rotation of the wafer rotation platform, can effectively remove the surrounding silicon PN junction, the front and back of the N type N type silicon silicon battery disconnect, prevent short circuit, photoelectric conversion efficiency and does not affect the battery, and can ensure the battery positive side edge of good appearance; the structure of the utility model simple, low cost, especially suitable for photovoltaic solar industry cost sensitive, easy to spread, is expected to replace the wet etching equipment industry; etching process of the utility model is especially suitable for high performance double N type amorphous silicon solar battery, the process is greatly simplified double N type battery.
【技术实现步骤摘要】
一种硅片激光刻边设备
本技术涉及一种硅片激光刻边设备。
技术介绍
在光伏太阳能行业,太阳能电池的制造需要经过制绒、扩散、刻蚀、镀膜、丝网印刷和烧结这六大工序。其中,制绒和刻蚀属于化学刻蚀工艺。制绒的目的是在硅片的正面形成有利于太阳光吸收的绒面;刻蚀的目的是去掉硅片四周的PN结,避免太阳能电池的正面和背面发生短路,但却不能刻蚀硅片正面的PN结。目前,业界主要采用水平链式湿法刻蚀设备对硅片进行刻蚀,该设备的工作原理是将硅片放置在刻蚀酸槽的旋转滚轮上,控制刻蚀酸液的液位,使药液只浸润硅片的侧面和背面,滚轮带动硅片通过刻蚀酸槽,完成硅片周边PN结和背面PN结的刻蚀,防止电池短路。但是,水平链式湿法刻蚀设备在湿法刻蚀过程中存在着以下缺陷:⑴在湿法刻蚀过程中,不能完全避免酸液浸润到硅片的正面边缘,因此,仍然会存在影响电池的光电转换效率的问题,同时也会带来电池片正面边缘外观不良的问题。⑵湿法刻蚀包括强酸刻蚀、碱洗、DI水洗、风干等多个处理步骤,需要药液的供应和排放、安全和环保设施,设备庞大复杂,设备和工艺成本高昂。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种结构简单、成本低廉、不会影响电池 ...
【技术保护点】
一种硅片激光刻边设备,其特征在于:它包括用于放置硅片并可带动硅片在水平面内旋转的旋转平台和沿旋转平台外围圆周布置的激光发生器,激光发生器的发射头对准硅片的侧面圆周以便发射头发射的激光去除硅片周边的PN结。
【技术特征摘要】
1.一种硅片激光刻边设备,其特征在于:它包括用于放置硅片并可带动硅片在水平面内旋转的旋转平台和沿旋转平台外围圆周布置的激光发生器,激光发生器的发射头对准硅片的侧面圆周以便发射头发射的激光去除硅片周边的PN结。2.根据权利要求1所述的硅片激光刻边设备,其特征在于:所述旋转平台主要由水平设置的转盘、与转盘下盘面连接的传动机构和用于驱动转盘旋转的驱动电机组成,所述驱动电机通过传动机构传动驱动转盘旋转。3.根据权利要求2所述的硅片激光刻边设备,其特征在于:所述转盘内部中空,在所述转盘的上表面设有用于吸附固定硅片的真空吸附孔,所述真空吸附孔与转盘内部相通且和抽真空装置连接。4.根据权利要求3所述的硅片激光刻边设备...
【专利技术属性】
技术研发人员:何达能,方结彬,陈刚,
申请(专利权)人:浙江爱旭太阳能科技有限公司,广东爱康太阳能科技有限公司,
类型:新型
国别省市:浙江,33
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