The utility model discloses a device for removing CVD film deposited on the inner wall of the reaction chamber, the device includes a nozzle, nozzle to be inserted into the CVD reaction chamber, and towards the wall spraying high pressure steam or hot water; including high temperature and high pressure steam generator, high temperature and high pressure steam generator and nozzle through pipe, and the outlet end of pipeline and camber adjustable nozzle by a metal connector detachably connected, so that the nozzle direction can be adjusted; the pipeline is provided with a flow regulating controller; a cover body, a cover body for covering the opening in the CVD reaction chamber, the cover body is provided with a hole, the hole for penetrating nozzle. The use of the device is convenient and efficient, and can effectively avoid scratching when cleaning the inner wall of the cavity.
【技术实现步骤摘要】
一种去除CVD反应腔体内壁沉积膜的装置
本技术涉及沉积膜清洗
,特别涉及一种去除CVD反应腔体内壁沉积膜的装置。
技术介绍
CVD(Chemicalvapordeposition,化学气相沉积)是反应物质在气态条件下发生电离或分解,在衬底表面上或者附近反应并在其上生成固态物质沉积,进而制得固体材料的工艺技术。微波等离子体CVD是利用微波激发等离子体实现化学气相沉积的一种工艺,具有产量大、质量高、成本低的优点。其原理是,利用微波在反应器中发生共振,形成强的电磁场中心区域,使该反应器中的气体电离,形成等离子体,然后在衬底表面上形成固态物质沉积。使用微波等离子体CVD在沉积各种半导体薄膜和绝缘薄膜时,使用的化学气相沉积腔体的内表面或者腔体内的反应器的表面上会形成一层沉积薄膜,该沉积薄膜是生长过程中不希望得到的副产物。例如,在生长金刚石的微波等离子体CVD腔体的内表面会形成一层类金刚石薄膜(DLC,DiamondLikeCarbon),该薄膜不仅影响腔体对微波的反射效果,还会因为该薄膜在金刚石生长过程中的脱落而引起等离子体中发生电火花,这可能引起金刚石样品表面出现杂质,也可能使金刚石薄膜出现不需要的掺杂;在MOCVD(MetalOrganicChemicalVaporDeposition,金属有机化合物化学气相沉淀)设备中,在生长样品的上方,腔体或者反应器的内表面会形成Ⅲ-V族薄膜或者其它沉积,该薄膜或沉积不但会影响反应气体的流向,还会因这些堆积物的脱落影响样品的表面状态和薄膜生长;其它的CVD中也有这样的现象。在研究上述问题的过程中,专利技术人发现,现有技 ...
【技术保护点】
一种去除CVD反应腔体内壁沉积膜的装置,其特征在于,该装置包括喷头(7),所述喷头(7)用于伸入CVD反应腔体(6)中,并朝向其内壁喷洒高压蒸汽或者热水;还包括高温高压蒸汽发生器(1),所述高温高压蒸汽发生器(1)与喷头(7)通过管道(3)连接,且管道(3)的出口端与喷头(7)通过弯度可调节金属接头可拆卸连接,以使喷头(7)方向可调节;所述管道(3)上设置有调节流量控制器(2);还包括罩体(5),所述罩体(5)用于覆盖于CVD反应腔体(6)的开口,所述罩体(5)上开设有开孔,该开孔用于喷头(7)穿入。
【技术特征摘要】
1.一种去除CVD反应腔体内壁沉积膜的装置,其特征在于,该装置包括喷头(7),所述喷头(7)用于伸入CVD反应腔体(6)中,并朝向其内壁喷洒高压蒸汽或者热水;还包括高温高压蒸汽发生器(1),所述高温高压蒸汽发生器(1)与喷头(7)通过管道(3)连接,且管道(3)的出口端与喷头(7)通过弯度可调节金属接头可拆卸连接,以使喷头(7)方向可调节;所述管道(3)上设置有调节流量控制器(2);还包括罩体...
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