The utility model discloses a vacuum electron beam sputtering deposition device, the device comprises a vacuum sputtering chamber, vacuum sputtering chamber arranged in the anode and cathode material, substrate support disposed in a vacuum sputtering chamber, below the substrate support is fixedly provided with the substrate, the substrate and the cathode target opposite; vacuum the sputtering chamber is arranged at the bottom of the inert gas entrance pipe and steam entrance pipe, side reaction gas nozzle is arranged between the substrate and the cathode target area; the side wall of the vacuum sputtering chamber is arranged on the vacuum pump. The device adopts the water vapor as the catalyst, can significantly improve the deposition rate, but also by the addition of reaction gas, can rapid oxidation of metal target, new adhesion and rapidly oxidized atoms, the chemical reaction, the formation of oxide film, improve film quality, avoid falling film.
【技术实现步骤摘要】
一种溅射真空电子束蒸镀装置
本技术涉及溅射镀膜
,尤其涉及一种溅射真空电子束蒸镀装置。
技术介绍
现有技术中,为了在基片上沉积薄膜,需要将基片放置在真空室里,真空室中填充着处于低压的溅射气体,在基片附近设置靶材,靶材与负极或阴极电连接。在真空室中,还设置有正极或者阳极。向阴极施加-100伏特和-1000伏特之间的高负电压,引起了溅射气体的电离,在阴极靶材上方形成等离子体放电。带正电荷的溅射气体离子轰击带负电荷的阴极靶材,引起靶材的原子被溅射在空间中,朝向基片飞行,并粘附在基片上。现有技术中的这种溅射方式存在缺陷,最突出的问题是形成的薄膜表面疏松,高低不平,在显微镜下能观察到针孔结构,容易造成薄膜脱落。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种溅射真空电子束蒸镀装置,所要解决的技术问题是如何提高成膜质量,避免薄膜脱落。本技术所述的溅射真空电子束蒸镀装置包括真空溅射室、布置在真空溅射室内的阳极和阴极靶材,布置在真空溅射室内的基片支座,基片支座的下方固定设置有基片,基片与阴极靶材相对布置;真空溅射室的底部上设置有惰性气体入口管和水蒸气入口管,反应气体喷嘴设置在基片与阴极靶材之间的区域的一侧;真空溅射室的侧壁上设置有真空泵。所述的反应气体喷嘴与设置在真空溅射室的外部的氧气瓶连接。所述的惰性气体入口管与设置在真空溅射室的外部的氩气瓶连接。所述的水蒸气入口管向真空溅射室中输入的水蒸气的分压力为5×10-6托和5×10-4托之间的范围内。所述阴极靶材上施加有直流电压、脉冲直流电压、交流电压、或射频电压。本技术的技术方案具有如下优点:本技术所述的溅射真空电子束蒸镀装置采用 ...
【技术保护点】
一种溅射真空电子束蒸镀装置,其特征在于,所述的溅射真空电子束蒸镀装置包括真空溅射室、布置在真空溅射室内的阳极和阴极靶材,布置在真空溅射室内的基片支座,基片支座的下方固定设置有基片,基片与阴极靶材相对布置;真空溅射室的底部上设置有惰性气体入口管和水蒸气入口管,反应气体喷嘴设置在基片与阴极靶材之间的区域的一侧;真空溅射室的侧壁上设置有真空泵。
【技术特征摘要】
1.一种溅射真空电子束蒸镀装置,其特征在于,所述的溅射真空电子束蒸镀装置包括真空溅射室、布置在真空溅射室内的阳极和阴极靶材,布置在真空溅射室内的基片支座,基片支座的下方固定设置有基片,基片与阴极靶材相对布置;真空溅射室的底部上设置有惰性气体入口管和水蒸气入口管,反应气体喷嘴设置在基片与阴极靶材之间的区域的一侧;真空溅射室的侧壁上设置有真空泵。2.如权利要求1所述的溅射真空电子束蒸镀装置,其特征在于,所述的反应气体喷嘴与设置...
【专利技术属性】
技术研发人员:田守文,
申请(专利权)人:天津市大阳光大新材料股份有限公司,
类型:新型
国别省市:天津,12
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