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本实用新型公开了一种溅射真空电子束蒸镀装置，该装置包括真空溅射室、布置在真空溅射室内的阳极和阴极靶材，布置在真空溅射室内的基片支座，基片支座的下方固定设置有基片，基片与阴极靶材相对布置；真空溅射室的底部上设置有惰性气体入口管和水蒸气入口管，...
该专利属于天津市大阳光大新材料股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过天津市大阳光大新材料股份有限公司授权不得商用。

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