球体抛光设备制造技术

技术编号:16537359 阅读:22 留言:0更新日期:2017-11-10 17:53
本发明专利技术属于抛光设备领域,具体涉及球体抛光设备,包括上抛光模具、下抛光模具;上抛光模具的一面设有第一半球形凹槽;下抛光模具的一面设有第二半球形凹槽;上抛光模具与下抛光模具上下对应布置,并且第一半球形凹槽与第二半球形凹槽能共同形成用于容纳球体的容纳腔;上抛光模具能在外力的作用下绕容纳腔的中心轴线转动;下抛光模具能在外力的作用下绕容纳腔的中心轴线转动。其能实现各类材质球体的抛光加工,且得到抛光后的球体表面精密度高。

Ball polishing equipment

The invention belongs to the field of polishing equipment, in particular to a sphere polishing equipment, including mold polishing, polishing mold; polishing mold is provided with a first side of a hemispherical groove; polishing mold side has second hemispherical grooves; polishing die and mould polishing on the corresponding layout, and the first and second hemispherical hemispherical grooves groove can form a holding cavity for holding the ball for the central axis of rotation; polishing die under the action of external force around the cavity; polishing die under the action of external force around the central axis line of the rotating cavity. It can achieve polishing of various material spheres, and the polished ball surface has high precision.

【技术实现步骤摘要】
球体抛光设备
本专利技术属于抛光设备领域,具体涉及球体抛光设备。
技术介绍
抛光是使用物理机械或化学药品降低物体表面粗糙度的工艺。抛光技术主要在精密机械和光学工业中使用。抛光后的工件表面光滑具有良好的反射效果。工件抛光后会减少厚度并容易划伤,必须使用细丝绒布,麂皮,天鹅毛和专用清洗剂清洁表面。为实现对球体进行抛光,现有技术中有采用研磨方法,如中国专利CN103846630A提出“一种带止口的薄壁金属材料半球壳制造方法”所述方法通过机械加工实心金属球,采用四轴球体研磨方法对金属球进行研磨抛光,通过电火花线切割将金属半球壳割开,采用电火花成型加工对内半球面加工,通过micro-CT与小半球面研磨技术对半球壳壁厚进行修正,再通过电火花铣削加工止口,获得带止口的薄壁难加工金属材料半球壳。但这种方式加工得到的球体表面精密度不高,且在加工脆性材料时,容易损伤脆性球体。现有技术中如中国专利CN203210149U提出的“一种石材圆球精磨抛光机”,其公开了由升降立柱、横向轨道、横向调节电机、升降调节电机、磨抛电机、磨抛头卡座、球体支撑传动轮、传动轮减速齿轮箱、减速齿轮箱电机、传动轮电磁离合器、球体旋转托盘、托盘立轴、托盘支架、托盘旋转电机、托盘旋转减速箱、托盘旋转电滑环组相互连接组成,磨抛位置由升降调节电机进行调整,磨抛头的进给由横向调节电机控制,采用可驱动旋转的球体支撑轮、四个球体支撑轮固定在旋转托盘上面,在球体水平旋转的同时;由球体支撑传动轮驱动球体、分别进行X方向、Y方向的转动,由于球体在水平、X、Y方向多维转动。但其对于小而精密的球体则不能实现精密抛光,同时对于一些硬度角度的球体也不能实现好的抛光。现有技术中没有一种简单有效的方式实现对脆性球体的精密抛光。
技术实现思路
本专利技术提供一种球体抛光设备,其能实现各类材质球体的抛光加工,且得到抛光后的球体表面精密度高。为实现上述技术目的,本专利技术采取具体技术方案为,球体抛光设备,包括上抛光模具、下抛光模具;上抛光模具的一面设有第一半球形凹槽;下抛光模具的一面设有第二半球形凹槽;上抛光模具与下抛光模具上下对应布置,并且第一半球形凹槽与第二半球形凹槽能共同形成用于容纳球体的容纳腔;上抛光模具能在外力的作用下绕容纳腔的中心轴线转动;下抛光模具能在外力的作用下绕容纳腔的中心轴线转动。作为本专利技术改进的技术方案,还包括滤孔,所述滤孔设于下抛光模具上,并位于第二半球形凹槽的最低位置处。作为本专利技术改进的技术方案,上抛光模具上用于形成第一半球形凹槽的面为弹性面,上抛光模具上设有通气孔,通过向通气孔鼓吹气体能实现控制第一半球形凹槽与待抛光球体的接触面与摩擦力。作为本专利技术改进的技术方案,还包括两片抛光布;其中一片抛光布设置于第一半球形凹槽中,并能完全贴合第一半球形凹槽的内表面;其中另一片抛光布设置于第二半球形凹槽中,并能完全贴合第二半球形凹槽的内表面。作为本专利技术改进的技术方案,抛光布通过夹持机构固定于抛光模具上。作为本专利技术改进的技术方案,夹持机构包括夹持部与固定部;夹持部上带有环形通孔,环形通孔的尺寸与半球形凹槽槽口的尺寸一致;固定部位于夹持部的端部,用于将夹持部固定于抛光模具上。有益效果本申请采用上下两个抛光模具形成球体的容纳腔,并通过上下两个抛光模具相对独立转动实现对球体的抛光,其在对球体进行抛光过程中是通过面接触进行抛光的(现有技术中是通过线接触实现球体的抛光),在抛光过程中稳定性更高,且球体表面更加均匀化,同时还不会对球体造成损伤。综上,本申请的装置能适用于各类材质球体的抛光。附图说明图1本申请实施例1的装置结构示意图;图2本申请实施例2的装置结构示意图;图中,1、通气孔;2、上抛光模具;3、弹性面;4、第一抛光布;5、下抛光模具;6、第二抛光布;7、滤孔;8、球体;9、第一夹持机构;10、第二夹持机构。具体实施方式为使本申请实施例的目的和技术方案更加清楚,下面将结合本申请实施例对本申请的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例是本申请的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于所描述的本申请的实施例,本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。本
技术人员可以理解,除非另外定义,这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本申请所属领域中的普通技术人员的一般理解相同的意义。还应该理解的是,诸如通用字典中定义的那些术语应该被理解为具有与现有技术的上下文中的意义一致的意义,并且除非像这里一样定义,不会用理想化或过于正式的含义来解释。本申请中所述的“连接”的含义可以是部件之间的直接连接也可以是部件间通过其它部件的间接连接。本实施例中,通气孔1、上抛光模具2、弹性面3、第一抛光布4、下抛光模具5、第二抛光布6、滤孔7、球体8、第一夹持机构9、第二夹持机构10。球体抛光设备,包括上抛光模具、下抛光模具;上抛光模具的一面设有第一半球形凹槽;下抛光模具的一面设有第二半球形凹槽;上抛光模具与下抛光模具上下对应布置,并且第一半球形凹槽与第二半球形凹槽能共同形成用于容纳球体的容纳腔;上抛光模具能在外力的作用下绕容纳腔的中心轴线转动;下抛光模具能在外力的作用下绕容纳腔的中心轴线转动。具体使用时通过控制上抛光模具与下抛光模具的相对转速,实现球体相对抛光模具(具体是指上抛光模具、下抛光模具)发生转动,球体进而与容纳腔的内避免相互接触发生摩擦,实现对球体的抛光,进一步的第一半球形凹槽的内壁铺设有第一抛光布,第一抛光布通过第一夹持机构夹持与上抛光模具上;第二半球形凹槽的内部铺设有第二抛光布,第二抛光布通过第二夹持机构夹持与下抛光模具上;这样抛光过程中球体是与抛光布发生摩擦,在铺设有抛光布时,优选的容纳腔的尺寸略大于球体的尺寸,以保证容纳腔与球体间的摩擦力不会过大。夹持机构包括夹持部与固定部;夹持部上带有环形通孔,环形通孔的尺寸与半球形凹槽槽口的尺寸一致;固定部位于夹持部的端部,用于将夹持部固定于抛光模具上。为了实现不同程度的抛光,这里可进行粗抛光与精抛光,粗抛光是在第一半球形凹槽与第二半球形凹槽中铺设一层抛光粉,通过抛光粉实现对球体的粗抛光;精抛光是在下抛光模具上设置滤孔,所述滤孔设于下抛光模具上,并位于第二半球形凹槽的最低位置处;使用时通过滤孔向抛光布上注射抛光液,在球体转动的过程中,抛光液在球体的转动过程中均匀的分散于容纳腔中,进而实现在抛光液的作用下对球体进行抛光,同时抛光产生的抛光屑会在重力的作用下被带至滤孔处进而通过滤孔流出。为了控制容纳腔与球体的摩擦力,这里讲上抛光模具上用于形成第一半球形凹槽的面为弹性面,上抛光模具上设有通气孔,通过向通气孔鼓吹气体能实现控制第一半球形凹槽与待抛光球体的接触面与摩擦力。具体工作过程:包括如下步骤,步骤一、在外力的作用下分离上抛光模具与下抛光模具,并分别向上抛光模具的第一半球形凹槽中固定一块抛光布、向下抛光模具的第二半球形凹槽中固定一块抛光布;步骤二、分别向两块抛光布上撒一层抛光粉,并将球体置入第二半球形凹槽中;步骤三、在外力的作用下控制上抛光模具向下抛光模具中移动,并保证上抛光模具上的第一半球形凹槽能覆盖于球体露出第二半球形凹槽的部分;步骤四、控制上抛光模具与下抛光模具沿同一轴线发生转动,并使得本文档来自技高网
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球体抛光设备

【技术保护点】
球体抛光设备,其特征在于,包括上抛光模具、下抛光模具;上抛光模具的一面设有第一半球形凹槽;下抛光模具的一面设有第二半球形凹槽;上抛光模具与下抛光模具上下对应布置,并且第一半球形凹槽与第二半球形凹槽能共同形成用于容纳球体的容纳腔;上抛光模具能在外力的作用下绕容纳腔的中心轴线转动;下抛光模具能在外力的作用下绕容纳腔的中心轴线转动。

【技术特征摘要】
1.球体抛光设备,其特征在于,包括上抛光模具、下抛光模具;上抛光模具的一面设有第一半球形凹槽;下抛光模具的一面设有第二半球形凹槽;上抛光模具与下抛光模具上下对应布置,并且第一半球形凹槽与第二半球形凹槽能共同形成用于容纳球体的容纳腔;上抛光模具能在外力的作用下绕容纳腔的中心轴线转动;下抛光模具能在外力的作用下绕容纳腔的中心轴线转动。2.根据权利要求1所述的球体抛光设备,其特征在于,还包括滤孔,所述滤孔设于下抛光模具上,并位于第二半球形凹槽的最低位置处。3.根据权利要求1所述的球体抛光设备,其特征在于,上抛光模具上用于形成第一半球形凹槽的面为弹性面,上抛光模具上设有通气孔...

【专利技术属性】
技术研发人员:钱国东
申请(专利权)人:无锡厚发自动化设备有限公司
类型:发明
国别省市:江苏,32

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