气体分布装置及浆态床反应器制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了气体分布装置及浆态床反应器。气体分布装置包括：进气管，所述进气管具有进气口和出气口；均布件，所述均布件设在所述进气管上，所述均布件内设有气体通道，所述气体通道与所述出气口连通，所述气体通道的底壁上设有多个均气孔，所述多个均气孔绕所述进气管的周向间隔分布；多个向下延伸的喷气管，每个所述喷气管的上端设在所述均布件上且与所述气体通道连通，每个所述喷气管具有开口朝下的喷气口，每个所述喷气口位于所述均气孔的下方。根据本实用新型专利技术的气体分布装置，可在较低压降和能耗下实现釜体内的气体的均匀分布，并能有效解决釜体内固体颗粒的沉积的问题。

Gas distribution device and slurry bed reactor

The utility model discloses a gas distribution device and a slurry bed reactor. The gas distribution device comprises an air inlet pipe, the inlet pipe has an air inlet and an air outlet; uniform, the uniform piece is arranged on the air inlet pipe, the uniform in the air channel, the gas channel and the outlet communicates with a plurality of holes are arranged, the bottom wall the gas channel, the plurality of holes are around the intake pipe circumferentially spaced; a plurality of jet downwardly extending tube, each of the upper jet tube are arranged on the cloth and communicated with the gas channel, each of the jet pipe with an opening downward jet in each of the nozzles located in the pore below. According to the gas distribution device of the utility model, the uniform distribution of the gas in the kettle can be realized under the condition of lower pressure drop and energy consumption, and the problem of the deposition of solid particles in the kettle can be effectively solved.

【技术实现步骤摘要】
气体分布装置及浆态床反应器
本技术涉及浆态床反应器
，尤其是涉及一种气体分布装置及浆态床反应器。
技术介绍
浆态床反应器是一种重要的气-液-固多相反应装置，尤其适用于乙炔加氢制乙烯、费托合成等多相催化反应。一般地，浆态床反应器存在布气不均、固体颗粒沉积等缺点，这影响了浆态床反应器的釜体内物料反应的效果，严重时会造成生产无法进行而停工。虽然，有的浆态床反应器解决了釜体内气体均布问题，但是却没能解固体颗粒的沉积问题，而且浆态床反应器的压损较大，能耗较高。另一些浆态床反应器虽然可以解决固体颗粒沉积问题，但是气体均布效果较差。
技术实现思路
本技术旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本技术提出一种气体分布装置，当气体分布装置应用在浆态床反应器上时，可实现均匀布气，且能有效地防止固体颗粒沉积。本技术还提出一种浆态床反应器，包括上述的气体分布装置。根据本技术实施例的气体分布装置，包括：进气管，所述进气管具有进气口和出气口；均布件，所述均布件设在所述进气管上，所述均布件内设有气体通道，所述气体通道与所述出气口连通，所述气体通道的底壁上设有多个均气孔，所述多个均气孔绕所述进气管的周本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种气体分布装置，其特征在于，包括：进气管，所述进气管具有进气口和出气口；均布件，所述均布件设在所述进气管上，所述均布件内设有与所述出气口连通的气体通道，所述气体通道上设有多个开口朝下的均气孔；多个向下延伸的喷气管，每个所述喷气管的上端设在所述均布件上且与所述气体通道连通，每个所述喷气管具有开口朝下的喷气口，每个所述喷气口位于所述均气孔的下方。

【技术特征摘要】
1.一种气体分布装置，其特征在于，包括：进气管，所述进气管具有进气口和出气口；均布件，所述均布件设在所述进气管上，所述均布件内设有与所述出气口连通的气体通道，所述气体通道上设有多个开口朝下的均气孔；多个向下延伸的喷气管，每个所述喷气管的上端设在所述均布件上且与所述气体通道连通，每个所述喷气管具有开口朝下的喷气口，每个所述喷气口位于所述均气孔的下方。2.根据权利要求1所述的气体分布装置，其特征在于，每个所述喷气管沿竖直方向向下延伸。3.根据权利要求1所述的气体分布装置，其特征在于，所述均布件包括多个环状的套环和多个连接杆，多个所述套环在径向方向上依次套设，每个所述套环的底壁上设有多个沿周向分布的所述均气孔，相邻的所述套环通过所述连接杆连通，位于最内侧的所述套环通过所述连接杆与所述进气管连通。4.根据权利要求3所述的气体分布装置，其特征在于，每个所述套环的同一侧的多个所述连接...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘周恩，吴黎阳，苏二强，余海鹏，李少雨，黄伟，史雪君，史东军，吴道洪，
申请(专利权)人：神雾科技集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11