气体分布装置及具有其的浆态床反应器制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了气体分布装置及具有其的浆态床反应器。气体分布装置包括：进气管，所述进气管具有进气口和出气口；均布件，所述均布件设在所述进气管上，所述均布件内设有气体通道，所述气体通道与所述出气口连通，所述气体通道的底壁上设有多个均气孔，所述多个均气孔绕所述进气管的周向间隔分布；扰流件，所述扰流件设在所述进气管上且位于所述均布件的下方，所述扰流件被构造成扰动空气流动。根据本实用新型专利技术的气体分布装置，可在较低压降下实现釜体内的气体的均匀分布，并能有效解决釜体内固体颗粒的沉积问题。

Gas distribution device and slurry bed reactor with the same

The utility model discloses a gas distribution device and a slurry bed reactor with the same. The gas distribution device comprises an air inlet pipe, the inlet pipe has an air inlet and an air outlet; uniform, the uniform piece is arranged on the air inlet pipe, the uniform in the air channel, the gas channel and the outlet communicates with a plurality of holes are arranged, the bottom wall the gas channel, the plurality of holes are around the intake pipe circumferentially spaced; the spoiler, the spoiler is arranged on the air inlet pipe and is located in the uniform parts below, the spoiler is configured to air flow disturbance. According to the gas distribution device of the utility model, the uniform distribution of gas in the kettle can be realized under the lower pressure drop, and the deposition problem of the solid particles in the kettle can be effectively solved.

【技术实现步骤摘要】
气体分布装置及具有其的浆态床反应器
本技术涉及浆态床反应器
，尤其是涉及一种气体分布装置及具有其的浆态床反应器。
技术介绍
浆态床反应器是一种重要的气-液-固多相反应装置，尤其适用于乙炔加氢制乙烯、费托合成等多相催化反应。一般地，浆态床反应器存在布气不均、固体颗粒沉积等缺点，这影响了浆态床反应器的釜体内物料反应的效果，严重时会造成生产无法进行而停工。虽然，有的浆态床反应器解决了釜体内气体均布问题，但是却没能解固体颗粒的沉积问题，而且浆态床反应器的压损较大，能耗较高。另一些浆态床反应器虽然可以解决固体颗粒沉积问题，但是气体均布效果较差。
技术实现思路
本技术旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本技术提出一种气体分布装置，当气体分布装置应用在浆态床反应器上时，可实现均匀布气，且能有效地防止固体颗粒沉积。本技术还提出一种浆态床反应器，包括上述的气体分布装置。根据本技术实施例的气体分布装置，包括：进气管，所述进气管具有进气口和出气口；均布件，所述均布件设在所述进气管上，所述均布件内设有气体通道，所述气体通道与所述出气口连通，所述气体通道的底壁上设有多个均气孔，所述多个均气孔绕所述进气管的周向间隔分布；扰流件，所述扰流件设在所述进气管上且位于所述均布件的下方，所述扰流件被构造成扰动空气流动。根据本技术实施例的气体分布装置，可在较低压降下实现釜体内的气体的均匀分布，并能有效解决釜体内固体颗粒的沉积的问题。根据本技术的一些实施例，所述扰流件为设在所述进气管的外周壁上的叶片以随所述进气管同步转动。具体地，所述叶片为多个，多个所述叶片设在套筒上，所述套筒外套固定在所述进气管上。根据本技术的一些实施例，所述扰流件包括多个喷气管路，所述多个喷气管路绕所述进气管的周向间隔分布，每个所述喷气管路与所述进气管连通且每个所述喷气管路具有开口朝下的喷气口。具体地，所述扰流件包括多个沿所述进气管的周向间隔分布的公用喷气管，每个所述公用喷气管沿径向延伸且设在所述进气管上以与所述进气管连通，每个所述公用喷气管上设有多个竖直向下延伸的子喷气管，每个所述子喷气管和相应的所述公用喷气管限定出一个所述喷气管路。根据本技术的一些实施例，所述均布件包括多个环状的套环和多个连接杆，多个所述套环在径向方向上依次套设，每个所述套环的底壁上设有多个沿周向分布的所述均气孔，相邻的所述套环通过所述连接杆连通，位于最内侧的所述套环通过所述连接杆与所述进气管连通。可选地，每个所述套环上的多个所述均气孔沿周向均匀间隔分布。根据本技术的一些实施例，所述均布件包括多个沿径向延伸的连通管路，每个所述连通管路设在所述进气管上以与所述进气管连通，每个所述连通管路上设有至少一个布气管，每个所述布气管的底壁上设有多个所述均气孔。可选地，每个所述布气管水平延伸且与相应的所述连通管路垂直设置。根据本技术实施例的浆态床反应器，包括：釜体；上述的气体分布装置，所述气体分布装置设在所述釜体内，所述进气口伸出所述釜体。根据本技术实施例的浆态床反应器，可在较低压降下实现釜体内的气体的均匀分布，并能有效解决釜体内固体颗粒的沉积问题。附图说明图1是根据技术一些实施例的浆态床反应器的示意图；图2是根据本技术另一些实施例的浆态床反应器的示意图；图3是根据图2所示的A-A方向的剖视图；图4是根据图2所示的B-B方向的剖视图；图5是根据本技术又一些实施例的浆态床反应器的示意图；图6是根据图5所示的C-C方向的剖视图。附图标记：浆态床反应器1000；气体分布装置100；进气管1；进气口11；出气口12；均布件2；气体通道21；均气孔211；套环22；连接杆23；连通管路24；布气管25；扰流件3；叶片31；喷气管路32；子喷气管321；喷气口3211；公用喷气管322；釜体200；排气口201。具体实施方式下面详细描述本技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本技术，而不能理解为对本技术的限制。在本技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本技术的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。在本技术中，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接或彼此可通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。在本技术中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“上方”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“下方”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。下面参考图1-图6描述根据本技术实施例的气体分布装置100。气体分布装置100可用在浆态床反应器1000上以起到均匀布气的作用。当然，可以理解的是，气体分布装置100还可以用在其它的结构上以实现均匀布气的目的。为了便于描述，以下将气体分布装置100应用在浆态床反应器1000中进行说明。如图1-图2以及图5所示，根据本技术实施例的浆态床反应器1000，可以包括釜体200和气体分布装置100。其中，气体分布装置100可设在釜体200内，釜体200内盛装有液固混合物，釜体200上设有排气口201。例如，釜体200的顶壁上设有排气口201。如图1-图6所示，根据本技术实施例的气体分布装置100，可以包括进气管1、均布件2和扰流件3。具体地，进气管1具有进气口11和出气口12，当气体分布装置100位于釜体200内时，进气口11伸出釜体200。具体而言，如图1、图2和图5所示，进气管1从釜体200的底壁伸入釜体200内，且进气口11伸出釜体200。由此，气体(例如乙炔与氢气混合成的反应气)可从进气口11进入到进气管1内，并从出气口12排出。均布件2设在进气管1上，例如，如图1、图2和图5所示，均布件2设在进气管1的上端。均布件2内设有气体通道21，气体通道21与出气口12连通，气体通道21的底壁上设有多个均气孔211，多个均气孔211绕进气管1的周向间隔分布，由此，从出气口12本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种气体分布装置，其特征在于，包括：进气管，所述进气管具有进气口和出气口；均布件，所述均布件设在所述进气管上，所述均布件内设有气体通道，所述气体通道与所述出气口连通，所述气体通道的底壁上设有多个均气孔，所述多个均气孔绕所述进气管的周向间隔分布；扰流件，所述扰流件设在所述进气管上且位于所述均布件的下方，所述扰流件被构造成扰动空气流动。

【技术特征摘要】
1.一种气体分布装置，其特征在于，包括：进气管，所述进气管具有进气口和出气口；均布件，所述均布件设在所述进气管上，所述均布件内设有气体通道，所述气体通道与所述出气口连通，所述气体通道的底壁上设有多个均气孔，所述多个均气孔绕所述进气管的周向间隔分布；扰流件，所述扰流件设在所述进气管上且位于所述均布件的下方，所述扰流件被构造成扰动空气流动。2.根据权利要求1所述的气体分布装置，其特征在于，所述扰流件为设在所述进气管的外周壁上的叶片以随所述进气管同步转动。3.根据权利要求2所述的气体分布装置，其特征在于，所述叶片为多个，多个所述叶片设在套筒上，所述套筒外套固定在所述进气管上。4.根据权利要求1所述的气体分布装置，其特征在于，所述扰流件包括多个喷气管路，所述多个喷气管路绕所述进气管的周向间隔分布，每个所述喷气管路与所述进气管连通且每个所述喷气管路具有开口朝下的喷气口。5.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴道洪，刘周恩，史雪君，余海鹏，苏二强，李少雨，吴黎阳，黄伟，史东军，
申请(专利权)人：神雾科技集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11