一种检测金属线短路的测试结构制造技术

本实用新型专利技术提供一种检测金属线短路的测试结构，包括第一梳齿结构、第二梳齿结构以及蛇形结构，所述第一梳齿结构和第二梳齿结构相对交错设置，所述蛇形结构位于第一梳齿结构和第二梳齿结构之间的间隙之中，测试结构还包括：测试金属线段，测试金属线段位于所述第一梳齿结构、第二梳齿结构以及蛇形结构的上方；金属插塞，所述金属插塞连接测试金属线段和第一梳齿结构、连接测试金属线段和第二梳齿结构以及连接测试金属线段和蛇形结构。本实用新型专利技术的检测金属线短路的测试结构能发现头对头金属线层连接缺陷，且在不破坏失效点的情况下能迅速定位，提高了测试效率和晶圆良率，节约人力成本。

A testing structure for detecting metal wire short circuit

The utility model provides a test structure for detecting metal line short circuit, including the first comb structure, second comb structure and snake structure, the first comb structure and second comb structure is relatively arranged alternately, the snake structure located in the gap between the first and second comb comb structure, test structure also includes a metal test line in the test, the metal line structure, second first comb comb structure and serpentine structure above; metal plug, the metal plug connection test metal line and the first comb structure, connection test line and second metal comb structure and metal connection test line and snake structure. Test the structure of the utility model to detect metal line short circuit can be found in head to head the metal line layer connection defects, and can quickly locate in the failure points, improve the test efficiency and wafer yield, save manpower cost.

【技术实现步骤摘要】
一种检测金属线短路的测试结构
本技术涉及半导体
，特别是涉及一种检测金属线短路的测试结构。
技术介绍
集成电路制造技术是一个复杂的工艺，技术更新很快。表征集成电路制造技术的一个关键参数为最小特征尺寸，即关键尺寸(criticaldimension，CD)，随着半导体技术的不断发展，器件的关键尺寸越来越小，正是由于关键尺寸的减小才使得每个芯片上设置百万个器件成为可能。随着半导体器件尺寸的不断缩小，所述器件的逻辑区故障排除(Logicareadebug)变得更加困难，因为故障区域或者说是缺陷点(weakpoint)很难查找，包括有源区(AA)、接触插塞(CT)、金属插塞(Via)及金属桥连(metalbridge)缺陷等。在28nm技术节点的测试结构(Testkey)设计里，芯片上都会用梳齿-蛇形结构来监视金属线层的开路和短路问题。但由于制程不断缩小，有的客户要求的测试结构面积很大，导致很难把样品表面磨平，特别对于28nm技术磨平成功率不高。例如，为了很好的监测第一金属线层的断路和短路接触状况，现有的做法包括以下：a)用OBIRCH/EMMI定位，但28nm节点的金属线很细，对于很本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种检测金属线短路的测试结构，包括第一梳齿结构、第二梳齿结构以及蛇形结构，所述第一梳齿结构和所述第二梳齿结构相对交错设置，所述蛇形结构位于所述第一梳齿结构和所述第二梳齿结构之间的间隙之中，其特征在于，所述测试结构还包括：测试金属线段，所述测试金属线段位于所述第一梳齿结构、所述第二梳齿结构以及所述蛇形结构的上方；金属插塞，所述金属插塞连接所述测试金属线段和所述第一梳齿结构，所述金属插塞连接所述测试金属线段和所述第二梳齿结构，所述金属插塞连接所述测试金属线段和所述蛇形结构。

【技术特征摘要】
1.一种检测金属线短路的测试结构，包括第一梳齿结构、第二梳齿结构以及蛇形结构，所述第一梳齿结构和所述第二梳齿结构相对交错设置，所述蛇形结构位于所述第一梳齿结构和所述第二梳齿结构之间的间隙之中，其特征在于，所述测试结构还包括：测试金属线段，所述测试金属线段位于所述第一梳齿结构、所述第二梳齿结构以及所述蛇形结构的上方；金属插塞，所述金属插塞连接所述测试金属线段和所述第一梳齿结构，所述金属插塞连接所述测试金属线段和所述第二梳齿结构，所述金属插塞连接所述测试金属线段和所述蛇形结构。2.根据权利要求1所述的检测金属线短路的测试结构，其特征在于，所述第一梳齿结构、所述第二梳齿结构以及所述蛇形结构位于同一平面上，且互不接触。3.根据权利要求1所述的检测金属线短路的测试结构，其特征在于，所述第一梳齿结构和所述第二梳齿结构均包括多个并排平行的金属梳齿以及一个连接所述多个并排平行的金属梳齿一端的金属横杠。4.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨梅，
申请(专利权)人：中芯国际集成电路制造北京有限公司，中芯国际集成电路制造上海有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11