用于精密生产的环境保持系统及方法技术方案

本发明专利技术公开一种用于精密生产的环境保持系统及方法，其主要包含一输送卡匣及一制程处理设备。所述输送卡匣内设有一第一环境保持装置以保持一正压环境，所述制程处理设备内设有一第二环境保持装置以保持一正压环境及恒温/恒湿环境，当所述输送卡匣与所述制程处理设备结合后，可使所述输送卡匣的一容置空间暴露于所述制程处理设备的一作业空间内，并取出待加工产品放置于所述制程处理设备进行制程加工作业。因此，无论是在储存、搬运还是在生产过程中，都能有效提高产品的洁净度。

Environmental maintenance system and method for precision production

The invention discloses a method for precision production environment keeping system and method, which mainly comprises a conveying cassette and a processing device. The conveying in box is provided with a first device to keep the environment maintain a positive pressure environment, the processing device is provided with a second environment keeping device to maintain positive pressure and temperature / humidity environment, when the transportation cassette with the processing equipment after the combination of the conveying cartridges an accommodating space is exposed to the process equipment operation space, and then processed products placed on the processing equipment of processing operations. Therefore, whether in storage, handling or in the production process, can effectively improve the cleanliness of the product.

【技术实现步骤摘要】
用于精密生产的环境保持系统及方法
本专利技术涉及一种半导体与平板显示
，特别是涉及一种在无尘室等级的精密生产环境下提升洁净度的系统及方法
技术介绍
近年来，人们对液晶显示面板要求越来越高，超薄、重量轻、低耗电，可以提供更艳丽的色彩和更清晰的影像的低温多晶硅(LowTemperaturePoly-silicon，LTPS)等高阶面板越来越受到青睐。但是，LTPS等高价面板生产遇到良率不高的技术瓶颈。其中很大一部分原因在于无尘室环境的洁净度(空气污染物如灰尘、酸碱气体、有机物、硼元素等)以及温度和湿度等无法达到分辨率要求。一直以来，制造液晶显示组件、半导体组件(集成电路)等电子组件的工厂，为了保证产品的洁净度，现有的做法通过设计无尘室，主要是采用气流(AirFlow)的理念形成一封闭型式的环境，利用空气过滤单元(FanFilterUnit，FFU)产生洁净气体将原本环境内部的脏空气带走，再由滤网过滤脏空气内的微粒子(Particle)，进而达到符合无尘等级的环境。无尘室内自动仓储系统、装载卸载装置、缓存装置、基板平台等使用的回风均采用整个无尘室大环境的气流循环方式。然而，因无尘室环境较大，各设备间气流循环时相互干扰，产品在仓储、搬运及生产过程中极易受到环境洁净度的影响，其无尘等级仅能维持到Class10(0.3u)(1立方米空气中大于0.3um大小的颗粒不超过10颗)。而未来高分辨率LTPS/OLED等高价产品则可能要求Class1(0.1u)的洁净度(1立方米空气中大于0.1um大小的颗粒不超过1颗)。因此造成现有技术无法解决LTPS/IGZO/AM-OLED等高精密产品生产洁净度、温湿度等达不到要求的问题。有鉴于此，有必要提供一种用于精密生产的环境保持系统及方法，以解决现有无尘室环境的洁净度不足的问题。
技术实现思路
本专利技术的主要目的在于提供一种用于精密生产的环境保持系统及方法，其主要包含一输送卡匣及一制程处理设备。所述输送卡匣与所述制程处理设备可以分别或在结合后保持良好的环境的洁净度，无论是在储存、搬运还是在生产过程中，都能有效提高产品的洁净度，并解决LTPS/IGZO/OLED等高精密产品生产洁净度、温湿度等达不到要求的问题。为达上述目的，本专利技术提供一种用于精密生产的环境保持系统，其包含：一输送卡匣，其包含一容置空间、一可开关的第一活动舱门及一第一环境保持装置，其中所述容置空间用于承载至少一待加工产品；所述第一活动舱门设于所述容置空间的一侧边以使所述容置空间形成密封，所述第一环境保持装置使所述容置空间内保持一正压环境；及一制程处理设备，其包含一作业空间、一可开关的第二活动舱门、一内部运输单元及一第二环境保持装置，其中所述作业空间用于加工所述待加工产品；所述第二活动舱门设于所述作业空间的一侧边；当所述输送卡匣的第一活动舱门与所述制程处理设备的第二活动舱门结合并打开时；所述输送卡匣的容置空间暴露于所述制程处理设备的作业空间内；所述内部运输单元用于在所述容置空间及所述作业空间之间来回运送所述待加工产品；当所述第二活动舱门关闭时，所述作业空间形成密封，所述第二环境保持装置使所述作业空间内保持一正压及恒温/恒湿环境。在本专利技术的一实施例中，所述第一环境保持装置包含一第一空气过滤单元，其使所述容置空间内保持一正压环境。在本专利技术的一实施例中，所述第二环境保持装置包含一第二空气过滤单元及一温湿度控制单元，所述第二空气过滤单元使所述制程处理设备内保持一正压环境，所述温湿度控制单元使所述制程处理设备内保持一恒温/恒湿环境。在本专利技术的一实施例中，所述内部运输单元为一机械手臂。在本专利技术的一实施例中，所述制程处理设备是一化学气相沉积(CVD)设备或一准分子激光退火(ELA)设备。为达上述目的，本专利技术另提供一种用于精密生产的环境保持方法，其包含以下步骤：(a)提供一输送卡匣，其包含一容置空间、一可开关的第一活动舱门及一第一环境保持装置，其中所述容置空间承载多个待加工产品；关闭所述第一活动舱门使所述容置空间形成密封，运作所述第一环境保持装置使所述容置空间内保持一正压环境；(b)提供一制程处理设备，其包含一作业空间、一可开关的第二活动舱门、一内部运输单元及一第二环境保持装置；并运作所述第二环境保持装置使所述作业空间内保持一正压及恒温/恒湿环境；(c)使用一外部运输单元将所述输送卡匣运送至所述制程处理设备；(d)结合所述输送卡匣的第一活动舱门与所述制程处理设备的第二活动舱门并同时打开，使所述输送卡匣的容置空间暴露于所述制程处理设备的作业空间内；(e)使用所述内部运输单元取出所述容置空间内的所述待加工产品，并放置于所述制程处理设备的作业空间内；及(f)运作所述制程处理设备以对所述待加工产品进行制程加工作业。在本专利技术的一实施例中，所述第一环境保持装置包含一第一空气过滤单元，其使容置空间内保持一正压环境。在本专利技术的一实施例中，所述第二环境保持装置包含一第二空气过滤单元及一温湿度控制单元，所述第二空气过滤单元使所述制程处理设备内保持一正压环境，所述温湿度控制单元使所述制程处理设备内保持一恒温/恒湿环境。在本专利技术的一实施例中，所述制程处理设备是一化学气相沉积(CVD)设备或一准分子激光退火(ELA)设备。在本专利技术的一实施例中，所述内部运输单元为一机械手臂。在本专利技术的一实施例中，所述外部运输单元为一自动仓储系统的运输单元。【附图说明】图1：本专利技术实施例的一种用于精密生产的环境保持系统的示意图。图2A至2F：本专利技术实施例的一种用于精密生产的环境保持方法的动作示意图。【具体实施方式】为让本专利技术上述目的、特征及优点更明显易懂，下文特举本专利技术实施例，并配合附图，作详细说明。为让本专利技术上述目的、特征及优点更明显易懂，下文特举本专利技术较佳实施例，并配合附图，作详细说明如下。再者，本专利技术所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等，仅是参照附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本专利技术，而非用以限制本专利技术。附图和说明被认为在本质上是示出性的，而不是限制性的。在图中，结构相似的单元是以相同标号表示。另外，为了理解和便于描述，附图中示出的每个组件的尺寸和厚度是任意示出的，但是本专利技术不限于此。在附图中，为了清晰起见，夸大了层、膜、面板、区域等的厚度。在附图中，为了理解和便于描述，夸大了一些层和区域的厚度。将理解的是，当例如层、膜、区域或基底的组件被称作“在”另一组件“上”时，所述组件可以直接在所述另一组件上，或者也可以存在中间组件。另外，在说明书中，除非明确地描述为相反的，否则词语“包括”将被理解为意指包括所述组件，但是不排除任何其它组件。此外，在说明书中，“在......上”意指位于目标组件上方或者下方，而不意指必须位于基于重力方向的顶部上。请参照图1，其是本专利技术实施例的一种用于精密生产的环境保持系统的示意图。本专利技术实施例的一种用于精密生产的环境保持系统100，其可包含：一输送卡匣10及一制程处理设备20。所述输送卡匣10其包含一容置空间11、一可开关的第一活动舱门12及一第一环境保持装置13，其中所述容置空间11用于承载至少一待加工产品200；本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于精密生产的环境保持系统，其特征在于，其包含：一输送卡匣，其包含一容置空间、一可开关的第一活动舱门及一第一环境保持装置，其中所述容置空间用于承载至少一待加工产品；所述第一活动舱门设于所述容置空间的一侧边以使所述容置空间形成密封，所述第一环境保持装置使所述容置空间内保持一正压环境；及一制程处理设备，其包含一作业空间、一可开关的第二活动舱门、一内部运输单元及一第二环境保持装置，其中所述作业空间用于加工所述待加工产品；所述第二活动舱门设于所述作业空间的一侧边；当所述输送卡匣的第一活动舱门与所述制程处理设备的第二活动舱门结合并打开时；所述输送卡匣的容置空间暴露于所述制程处理设备的作业空间内；所述内部运输单元用于在所述容置空间及所述作业空间之间来回运送所述待加工产品；当所述第二活动舱门关闭时，所述作业空间形成密封，所述第二环境保持装置使所述作业空间内保持一正压及恒温/恒湿环境。

【技术特征摘要】
1.一种用于精密生产的环境保持系统，其特征在于，其包含：一输送卡匣，其包含一容置空间、一可开关的第一活动舱门及一第一环境保持装置，其中所述容置空间用于承载至少一待加工产品；所述第一活动舱门设于所述容置空间的一侧边以使所述容置空间形成密封，所述第一环境保持装置使所述容置空间内保持一正压环境；及一制程处理设备，其包含一作业空间、一可开关的第二活动舱门、一内部运输单元及一第二环境保持装置，其中所述作业空间用于加工所述待加工产品；所述第二活动舱门设于所述作业空间的一侧边；当所述输送卡匣的第一活动舱门与所述制程处理设备的第二活动舱门结合并打开时；所述输送卡匣的容置空间暴露于所述制程处理设备的作业空间内；所述内部运输单元用于在所述容置空间及所述作业空间之间来回运送所述待加工产品；当所述第二活动舱门关闭时，所述作业空间形成密封，所述第二环境保持装置使所述作业空间内保持一正压及恒温/恒湿环境。2.如权利要求1所述的环境保持系统，其特征在于：所述第一环境保持装置包含一第一空气过滤单元，其使所述容置空间内保持一正压环境。3.如权利要求1所述的环境保持系统，其特征在于：所述第二环境保持装置包含一第二空气过滤单元及一温湿度控制单元，所述第二空气过滤单元使所述制程处理设备内保持一正压环境，所述温湿度控制单元使所述制程处理设备内保持一恒温/恒湿环境。4.如权利要求1所述的环境保持系统，其特征在于：所述内部运输单元为一机械手臂。5.如权利要求1所述的环境保持系统，其特征在于：所述制程处理设备是一化学气相沉积(CVD)设备或一准分子激光退火(ELA)设备。6.一种用于精密生产的环境保持方法，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：李小丁，
申请(专利权)人：深圳市辰中科技有限公司，瑞泽科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44