The invention discloses a polishing liquid and a preparation method thereof, wherein the preparation method comprises the following steps: sulfuric acid, nitric acid, hydrochloric acid, defoaming agent, water, and auxiliary oxidant mixed into A mixture; the mixture of A and heating, adding copper sulfate and silica, stirring and mixing after standing, get the polishing liquid, solves the oxidation rate of polishing liquid ordinary slow lead polishing effect is poor, preferential corrosion is not obvious problems.
【技术实现步骤摘要】
一种抛光液及其制备方法
本专利技术涉及抛光液，特别涉及一种抛光液及其制备方法。
技术介绍
抛光液是一种不含任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂，具有良好的去油污，防锈，清洗和增光性能，并能使金属制品超过原有的光泽。普通的抛光液的氧化速度慢，导致抛光效果较差，择优腐蚀不明显。因此，提供一种氧化速度快、抛光效果和择优腐蚀效果明显的抛光液及其制备方法是本专利技术亟需解决的问题。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供一种抛光液及其制备方法，解决了普通的抛光液的氧化速度慢，导致抛光效果较差，择优腐蚀不明显的问题。为实现上述目的，本专利技术提供以下的技术方案：一种抛光液，其中，所述抛光液包括硫酸、硝酸、盐酸、硫酸铜、消泡剂、水、二氧化硅和辅助氧化剂，其中，相对于100重量份的硫酸，所述硝酸的含量为20-30重量份，所述盐酸的含量为5-10重量份，所述硫酸铜的含量5-15重量份，所述消泡剂的含量为2-5重量份，所述水的含量为50-70重量份，所述二氧化硅的含量为2-8重量份，所述辅助氧化剂的含量为1-4重量份。优选的，所述消泡剂为乳化硅油、聚氧丙烯甘油醚和聚氧丙烯中的一种或多种。优选的，所述辅助氧化剂由过氧化氢和水组成，且过氧化氢和水的体积比为1:2-3。本专利技术还提供了一种抛光液的制备方法，其中，所述制备方法包括：（1）将硫酸、硝酸、盐酸、消泡剂、水、和辅助氧化剂搅拌混合形成混合液A；（2）将所述混合液A加热，并加入硫酸铜和二氧化硅，搅拌混合、静置后得到所述抛光液，其中，相对于100重量份的硫酸，所述硝酸的含量为20-30重量份，所述盐酸的含量为5-10重量份...
【技术保护点】
一种抛光液，其特征在于，所述抛光液包括硫酸、硝酸、盐酸、硫酸铜、消泡剂、水、二氧化硅和辅助氧化剂，其中，相对于100重量份的硫酸，所述硝酸的含量为20‑30重量份，所述盐酸的含量为5‑10重量份，所述硫酸铜的含量5‑15重量份，所述消泡剂的含量为2‑5重量份，所述水的含量为50‑70重量份，所述二氧化硅的含量为2‑8重量份，所述辅助氧化剂的含量为1‑4重量份。
【技术特征摘要】
1.一种抛光液，其特征在于，所述抛光液包括硫酸、硝酸、盐酸、硫酸铜、消泡剂、水、二氧化硅和辅助氧化剂，其中，相对于100重量份的硫酸，所述硝酸的含量为20-30重量份，所述盐酸的含量为5-10重量份，所述硫酸铜的含量5-15重量份，所述消泡剂的含量为2-5重量份，所述水的含量为50-70重量份，所述二氧化硅的含量为2-8重量份，所述辅助氧化剂的含量为1-4重量份。2.根据权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述消泡剂为乳化硅油、聚氧丙烯甘油醚和聚氧丙烯中的一种或多种。3.根据权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述辅助氧化剂由过氧化氢和水组成，且过氧化氢和水的体积比为1:2-3。4.一种抛光液的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：（1）将硫酸、硝酸、盐酸、消泡剂、水、和辅助氧化剂搅拌混合形成混合液A；（2）将所述混合液A加热，并加入硫...
【专利技术属性】
技术研发人员：王飞，
申请(专利权)人：合肥博之泰电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽,34
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