一种开放式光罩存储装置制造方法及图纸

技术编号:16398634 阅读:92 留言:0更新日期:2017-10-17 19:16
本发明专利技术公开了一种开放式光罩存储装置,包括存储箱体,所述存储箱体一侧的下部为敞口结构,该敞口结构的正上方设有出风口,由该出风口流出的气流向下运动,形成气墙并覆盖所述敞口结构;所述存储箱体内的上部设有化学过滤器、风机和空气过滤器;所述存储箱体内的下部设有至少1层光罩承载架,光罩承载架的外侧临近所述敞口结构,光罩承载架的内侧与存储箱体构成回风通道。本发明专利技术通过将存储箱体一侧的设计为敞口结构,通过该敞口结构进行光罩的拿取和存放,从而避免了现有技术中门的存在而带来的搬运不便的问题。

An open mask storage device

The invention discloses an open mask storage device comprises a storage box body, one side of the lower part of the storage box is open, just above the open structure is provided with an air outlet, the air flows out from the outlet of the downward movement, the formation of gas and wall covering the opening structure; the upper part of the storage the box body is provided with a chemical filter, blower and air filter; the lower part of the storage box body is provided with at least 1 mask bearing frame, bearing lateral frame mask near the open structure, mask bearing frame and the inner side of the storage box a return channel. The design of the storage box side is an open structure, through the open structure of the mask handling and storage, thus avoiding the existing technology in the presence of the inconvenient transportation problem.

【技术实现步骤摘要】
一种开放式光罩存储装置
本专利技术涉及一种存储装置,具体涉及一种开放式光罩存储装置。
技术介绍
光罩,业内又称光掩模版、掩膜版,英文名称MASK或reticle,材质由石英玻璃、金属铬组成,该产品是用于将图案透过光刻工艺反复将图形复制于生产的产品上,被广泛应用于近代电子、半导体、平面显示器、LED等产业。由于光罩的图形的反复复制特性,从量产角度来看,光罩的图形,不容许有多出来或消失的图形。当前微电子制造技术迅速发展,因此相应的产品对生产环境的要求也越来越高。对微电子制造业来说,空气中的分子级空气污染物(或气载分子污染物,简称AMC)和颗粒物一样会危害产品并直接导致成品率降低。分子级空气污染物以气态形式存在,高效空气粒子过滤器(HEPA)或者超高效空气粒子过滤器(ULPA)根本无法过滤掉AMC。所以微电子厂房内分子级空气污染的控制越来越重要。目前,AMC国际分类标准有ITRS、SEMI、ISO14644-8和JACA35等标准,而最常用的是SEMI(国际半导体技术与材料协会SEMIF21-1102)。标准对AMC分四类:酸性AMC(MA)、碱性AMC(MB)、凝结物AMC(MC)、及掺本文档来自技高网...
一种开放式光罩存储装置

【技术保护点】
一种开放式光罩存储装置,其特征在于:包括存储箱体(1),所述存储箱体一侧的下部为敞口结构,该敞口结构的正上方设有出风口(7),由该出风口流出的气流向下运动,形成气墙并覆盖所述敞口结构;所述存储箱体内的上部设有化学过滤器(8)、风机(3)和空气过滤器;所述存储箱体内的下部设有至少1层光罩承载架(9),光罩承载架的外侧临近所述敞口结构,光罩承载架的内侧与存储箱体构成回风通道(10);从空气过滤器出来的洁净气体由出风口向下运动,部分洁净气体流经光罩承载架进入所述回风通道,回风通道的出口与所述化学过滤器、空气过滤器连通,从而形成气流循环。

【技术特征摘要】
1.一种开放式光罩存储装置,其特征在于:包括存储箱体(1),所述存储箱体一侧的下部为敞口结构,该敞口结构的正上方设有出风口(7),由该出风口流出的气流向下运动,形成气墙并覆盖所述敞口结构;所述存储箱体内的上部设有化学过滤器(8)、风机(3)和空气过滤器;所述存储箱体内的下部设有至少1层光罩承载架(9),光罩承载架的外侧临近所述敞口结构,光罩承载架的内侧与存储箱体构成回风通道(10);从空气过滤器出来的洁净气体由出风口向下运动,部分洁净气体流经光罩承载架进入所述回风通道,回风通道的出口与所述化学过滤器、空气过滤器连通,从而形成气流循环。2.根据权利要求1所述的开放式光罩存储装置,其特征在于:所述存储箱体上还设有新鲜空气补入口(11)。3.根据权利要求1所述的开放式光罩存储装置,其特征在于:所述存储箱体内的上部依次设有化学过滤器、风机和空气过滤器。4.根据权利要求1所述的开放式光罩存储装置,其特征在于:所述存储箱体内还设有温度控制装置(12)。5.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨政谕
申请(专利权)人:亚翔系统集成科技苏州股份有限公司
类型:发明
国别省市:江苏,32

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