一种显示基板的制作方法、显示基板及显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术实施例提供一种显示基板的制作方法、显示基板及显示装置，在显示基板上，覆盖显示基板上的信号线的钝化层上形成光刻胶层，并通过对光刻胶层进行蚀刻，从而使得相邻的两个信号线在位于显示基板的周边区中的端部之间形成光刻胶垫。这样，在显示基板的周边区中，在相邻的两个信号线的端部之间形成位于钝化层上的光刻胶垫，在显示基板进行电路绑定或者对位贴合的时候，可以使得位于端部上方的钝化层以及位于光刻胶垫下方的钝化层受到压力大致相等，从而使得钝化层整体来说受力均匀，大大降低钝化层发生脱落和断裂的情况。

Method for manufacturing display substrate, display substrate and display device

The embodiment of the invention provides a display substrate and display device manufacturing method, substrate, display on the substrate, forming a photoresist layer covering the passivation layer on the substrate of the display signal line, and through etching the photoresist layer, so that the two adjacent signal lines in the end of the surrounding area is located between the display substrate in forming a photoresist pad. So, in the surrounding area of the display substrate, photoresist pad of the passivation layer is formed between the end of the two adjacent signal lines, the display circuit binding or aligning and bonding substrate can make a passivation layer located above the ends and a passivation layer located below the photoresist pad under pressure generally equal, so that the passivation layer overall uniform stress, greatly reduce the passivation layer and fracture occurred off the.

【技术实现步骤摘要】
一种显示基板的制作方法、显示基板及显示装置
本专利技术涉及图像处理
，尤其涉及一种显示基板的制作方法、显示基板及显示装置。
技术介绍
随着全球信息社会的兴起增加了对各种显示装置的需求。因此，对各种平面显示装置的研究和开发投入了很大的努力，如液晶显示装置(LCD)、等离子显示装置(PDP)、场致发光显示装置(ELD)以及真空荧光显示装置(VFD)。而液晶显示装置因其功耗小、成本低、无辐射和易操作等特点，已越来越多的走进人们的生活、工作中，并广泛应用于各个领域，如家庭、公共场所、办公场及个人电子相关产品等。目前，液晶显示装置一般是单独制作薄膜晶体管阵列基板和对向基板，再将二者对位贴合并注入液晶来制成显示面板，然后装入外壳中来得到显示装置。一般的，薄膜晶体管阵列基板包括纵横交错设置的多条数据线以及多条扫描线，与扫描线和数据线连接的多个薄膜晶体管以及起保护作用的覆盖数据线、扫描线和薄膜晶体管的钝化层，而数据线和扫描线在薄膜晶体管阵列基板的周边区中的端部需要通过钝化层上设置的开孔与驱动器进行绑定连接，但是由于数据线和扫描线甚至其他膜层的存在，使得钝化层存在段差，并且在周边区中进行绑定或者本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显示基板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：提供一衬底基板，并在所述衬底基板上形成信号线及覆盖所述信号线和所述衬底基板的钝化层，所述信号线的端部位于所述显示基板的周边区；铺设一层覆盖所述钝化层的光刻胶层，并使用灰色调或半色调掩膜图案化所述光刻胶层，以得到光刻胶掩膜层，所述光刻胶掩膜层在所述周边区中包括保留区、暴露出所述钝化层的去除区及位于所述保留区及所述去除区之间的部分保留区；利用所述光刻胶掩膜层为掩膜板图案化所述钝化层，通过所述去除区在所述钝化层上开设暴露出所述端部的通孔；图案化所述光刻胶掩膜层，保留所述保留区的部分光刻胶以形成位于相邻的两个端部之间的光刻胶垫。

【技术特征摘要】
1.一种显示基板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：提供一衬底基板，并在所述衬底基板上形成信号线及覆盖所述信号线和所述衬底基板的钝化层，所述信号线的端部位于所述显示基板的周边区；铺设一层覆盖所述钝化层的光刻胶层，并使用灰色调或半色调掩膜图案化所述光刻胶层，以得到光刻胶掩膜层，所述光刻胶掩膜层在所述周边区中包括保留区、暴露出所述钝化层的去除区及位于所述保留区及所述去除区之间的部分保留区；利用所述光刻胶掩膜层为掩膜板图案化所述钝化层，通过所述去除区在所述钝化层上开设暴露出所述端部的通孔；图案化所述光刻胶掩膜层，保留所述保留区的部分光刻胶以形成位于相邻的两个端部之间的光刻胶垫。2.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述图案化所述光刻胶掩膜层，保留所述保留区的部分光刻胶以形成位于相邻的两个端部之间的光刻胶垫的步骤，包括：灰化所述光刻胶掩膜层；去除所述部分保留区中的光刻胶，并减薄所述保留区的光刻胶以得到光刻胶垫，其中，所述保留区中减薄的光刻胶的厚度与去除的所述部分保留区中对应位于所述端部上方的光刻胶的厚度相同。3.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述去除区对应位于所述端部上方，且所述去除区在所述衬底基板上的正投影位于所述端部在所述衬底基板上的正投影之内。4.如权利要求1所述的制作方法，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：宫奎，段献学，房凯迪，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11