充电部件、处理盒和图像形成装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及充电部件、处理盒和图像形成装置。所述充电部件包含支持部件、设置在所述支持部件上的导电性弹性层和设置在所述导电性弹性层上的正表面层。周期短于0.1mm的凹凸部和周期为0.1mm以上的凹凸部分布在所述充电部件的整个外周面上，并满足以下条件(1)和(2)：(1)所述周期短于0.1mm的凹凸部的平均高度为5μm～8μm；并且(2)所述周期为0.1mm以上的凹凸部的平均高度为6μm～30μm。所述外周面上的高度分布的最大频度值的半值宽度为1μm～3μm。

【技术实现步骤摘要】
充电部件、处理盒和图像形成装置
本专利技术涉及充电部件、处理盒和图像形成装置。
技术介绍
专利文献1公开了一种充电部件，其包含轴、弹性橡胶层和表面层，其中，弹性橡胶层具有最大高度为12.4μm～28.3μm的凹凸部，表面层具有最大高度为1.5μm～7.9μm的凹凸部。专利文献2公开了一种充电部件，其包含导电性基体、导电性弹性层和表面层，其中，表面层具有源自细颗粒的凹凸部，表面层的十点表面粗糙度Rz为10μm～20μm，轮廓凹凸部的平均间隔Sm为10μm～20μm。专利文献3公开了一种充电辊，其包含芯条、导电性弹性体层和正表面层，其中，正表面层的外周面粗糙度以扫描白光干涉仪测量的面积十点平均粗糙度计为1.5μm～8μm。[专利文献1]日本特开2015-45788号公报[专利文献2]日本特开2012-118449号公报[专利文献3]日本特开2007-225995号公报
技术实现思路
本专利技术的一个目的是提供一种充电部件，与充电部件的外周面上的高度分布的最大频度值的半值宽度超过3μm的情况相比，其具有容易由感光体驱动的性质，并且可减少在感光体由仅施加DC电压的充电部件进行接触充电时微小色线的产生。实现上述目的的具体措施的实例包括以下方面。根据本专利技术的第一方面，提供了一种充电部件，其包含：支持部件；设置在所述支持部件上的导电性弹性层；和设置在所述导电性弹性层上的正表面层，其中，周期短于0.1mm的凹凸部和周期为0.1mm以上的凹凸部分布在所述充电部件的整个外周面上，并满足以下条件(1)和(2)：(1)所述周期短于0.1mm的凹凸部的平均高度为5μm～8μm；并且(2)所述周期为0.1mm以上的凹凸部的平均高度为6μm～30μm，并且其中，所述外周面上的高度分布的最大频度值的半值宽度为1μm～3μm。根据本专利技术的第二方面，在第一方面的充电部件中，所述周期短于0.1mm的凹凸部的平均高度可以为5.5μm～7.5μm。根据本专利技术的第三方面，在第一方面的充电部件中，所述周期短于0.1mm的凹凸部的平均高度可以为6μm～7μm。根据本专利技术的第四方面，在第一方面的充电部件中，所述周期为0.1mm以上的凹凸部的平均高度可以为8μm～25μm。根据本专利技术的第五方面，在第一方面的充电部件中，所述周期为0.1mm以上的凹凸部的平均高度可以为10μm～20μm。根据本专利技术的第六方面，在第一方面的充电部件中，所述周期短于0.1mm的凹凸部的平均周期可以为5μm以上。根据本专利技术的第七方面，在第一方面的充电部件中，所述周期短于0.1mm的凹凸部的平均周期可以为15μm以下。根据本专利技术的第八方面，在第一方面的充电部件中，所述周期为0.1mm以上的凹凸部的平均周期可以为0.25mm以上。根据本专利技术的第九方面，在第一方面的充电部件中，所述周期为0.1mm以上的凹凸部的平均周期可以为0.45mm以下。根据本专利技术的第十方面，在第一方面的充电部件中，正表面层可以含有电子导电剂。根据本专利技术的第十一方面，在第十方面的充电部件中，电子导电剂可以为金属氧化物。根据本专利技术的第十二方面，在第一方面的充电部件中，正表面层可以含有氧化锡颗粒。根据本专利技术的第十三方面，提供了一种处理盒，其安装在图像形成装置上或从图像形成装置拆卸下来，其包含：电子照相感光体；和第一～第十二方面中任一方面的充电部件，所述充电部件将所述电子照相感光体的正表面充电。根据本专利技术的第十四方面，提供了一种图像形成装置，其包含：电子照相感光体；第一～第十二方面中任一方面的充电部件，所述充电部件将所述电子照相感光体的正表面充电；潜像形成设备，所述潜像形成设备在经充电的所述电子照相感光体的正表面上形成潜像；显影设备，所述显影设备使用含有色调剂的显影剂将形成在所述电子照相感光体的正表面上的所述潜像显影，并在所述电子照相感光体的正表面上形成色调剂图像；和转印设备，所述转印设备将形成在所述电子照相感光体的正表面上的色调剂图像转印到记录介质。第一、第二、第三、第四、第五、第六、第七、第八、第九、第十、第十一或第十二方面的专利技术提供了下述充电部件：与充电部件的外周面上的高度分布的最大频度值的半值宽度超过3μm的情况相比，其具有容易由感光体驱动的性质，并且可减少在感光体由仅施加DC电压的充电部件进行接触充电时微小色线的产生。第十三或第十四方面的专利技术提供了下述处理盒或图像形成装置：与充电部件的外周面上的高度分布的最大频度值的半值宽度超过3μm的情况相比，其具有容易由感光体驱动的性质，并且可减少微小色线的产生。附图说明将基于以下附图对本专利技术的示例性实施方式进行详细说明，其中：图1是显示示例性实施方式的充电部件的实例的示意性构造的图示；图2A是示意性显示分布在示例性实施方式的充电部件的外周面上的凹凸部的实例的图示；图2B显示用于获得“外周面上的高度分布的最大频度值的半值宽度”的近似曲线的实例；图3是显示示例性实施方式的图像形成装置的实例的示意性构造的图示；图4是显示另一示例性实施方式的另一图像形成装置的实例的示意性构造的图示；图5是显示再一示例性实施方式的再一图像形成装置的实例的示意性构造的图示；图6是显示示例性实施方式的处理盒的实例的示意性构造的图示。具体实施方式在下文中，将对本专利技术的示例性实施方式进行说明。对其的说明及实例作为示例性实施方式的实例提供，因此本专利技术的范围并不限于此。在本说明书中，“电子照相感光体”也简称为“感光体”。在本说明书中，“微小色线”指的是出现在半色调图像上的不合意的图像，即，沿与记录介质的输送方向正交的方向延伸并且具有毫米量级的长度的线性图像。充电部件本示例性实施方式的充电部件包含支持部件、设置在所述支持部件上的导电性弹性层和设置在所述导电性弹性层上的正表面层。换言之，本示例性实施方式的充电部件至少包含层积在支持部件上的导电性弹性层和正表面层。然后，周期短于0.1mm的凹凸部和周期为0.1mm以上的凹凸部分布在本示例性实施方式的充电部件的整个外周面上。而且，本示例性实施方式的充电部件满足以下条件(1)和(2)。外周面上的高度分布模式的半值宽度为1μm～3μm。(1)所述周期短于0.1mm的凹凸部的平均高度为5μm～8μm。(2)所述周期为0.1mm以上的凹凸部的平均高度为6μm～30μm。本示例性实施方式的充电部件的形状没有具体限制。例如，本示例性实施方式的充电部件的形状的实例包括图1所示的辊状，以及带状。在下文中，将参照附图对本示例性实施方式的充电部件的构造和充电部件的外周面的几何学诸量进行说明。图1是显示示例性实施方式的充电部件的实例的图示。图1所示的充电部件208包含支持部件30(其为具有圆筒状或柱状的棒状部件(轴))、设置在支持部件30的外周面上的导电性弹性层31和设置在导电性弹性层31的外周面上的正表面层32。图2A是示意性显示分布在示例性实施方式的充电部件的外周面上的凹凸部的实例的图示。图2A显示了在充电部件208的正表面层32和导电性弹性层31沿支持部件30的厚度方向和轴向切割时观察到的形状。充电部件208的外周面由设置在导电性弹性层31上形成的起伏上的正表面层32成形。在本示例性实施方式中，充电部件的外周面的表面纹理使用共聚焦激光显微镜测量。作为测量条件，充电部件的旋转方向(本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种充电部件，其包含：支持部件；设置在所述支持部件上的导电性弹性层；和设置在所述导电性弹性层上的正表面层，其中，周期短于0.1mm的凹凸部和周期为0.1mm以上的凹凸部分布在所述充电部件的整个外周面上，并满足以下条件(1)和(2)：(1)所述周期短于0.1mm的凹凸部的平均高度为5μm～8μm；并且(2)所述周期为0.1mm以上的凹凸部的平均高度为6μm～30μm，并且其中，所述外周面上的高度分布的最大频度值的半值宽度为1μm～3μm。

【技术特征摘要】
2016.03.22 JP 2016-057370;2016.03.22 JP 2016-057371.一种充电部件，其包含：支持部件；设置在所述支持部件上的导电性弹性层；和设置在所述导电性弹性层上的正表面层，其中，周期短于0.1mm的凹凸部和周期为0.1mm以上的凹凸部分布在所述充电部件的整个外周面上，并满足以下条件(1)和(2)：(1)所述周期短于0.1mm的凹凸部的平均高度为5μm～8μm；并且(2)所述周期为0.1mm以上的凹凸部的平均高度为6μm～30μm，并且其中，所述外周面上的高度分布的最大频度值的半值宽度为1μm～3μm。2.如权利要求1所述的充电部件，其中，所述周期短于0.1mm的凹凸部的平均高度为5.5μm～7.5μm。3.如权利要求1所述的充电部件，其中，所述周期短于0.1mm的凹凸部的平均高度为6μm～7μm。4.如权利要求1所述的充电部件，其中，所述周期为0.1mm以上的凹凸部的平均高度为8μm～25μm。5.如权利要求1所述的充电部件，其中，所述周期为0.1mm以上的凹凸部的平均高度为10μm～20μm。6.如权利要求1所述的充电部件，其中，所述周期短于0.1mm的凹凸部的平均周期为5μ...

【专利技术属性】
技术研发人员：林义之，三浦宏之，成田幸介，
申请(专利权)人：富士施乐株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP