用于处理基板的设备制造技术

一种用液体(4)处理基板(14)的设备(24,24a‑d)，该设备(24,24a‑d)具有输送装置(26)，通过该输送装置可沿输送方向(18)输送基板(14)通过包含液体(4)的容器(28)；该容器(28)包括具有边缘(32,44,54,60,74)的挡板(30,40,52,58,64,70)，基板(14)可以在该边缘上经过，且该边缘的至少一部分相对于基板(14)的传送方向(18)倾斜地延伸。以及，用液体(4)处理基板(14)的设备(24,24a‑d)中使用的挡板(30,40,52,58,64,70)，所述挡板具有至少一个边缘(32，44,54,60,74)，该边缘的至少一部分倾斜地延伸；挡板(30,40,52,58,64,70)在设备(24,24a‑d)中的用途；以及，用于从基板边缘(22)分离液体薄片(38)的方法。

Apparatus for processing substrates

A liquid (4) substrate processing equipment (14) (24,24a d), the equipment (24,24a d) has a conveyor (26), through the conveying device along the conveying direction (18) (14) by transporting the substrate (4) comprises a liquid container (28) of the container; (28) including edge (32,44,54,60,74) of the plate (30,40,52,58,64,70), a substrate (14) can pass on the edge, and at least a portion of the edge of the substrate (14) relative to the conveying direction (18) extend obliquely. And, with a liquid (4) substrate processing equipment (14) (24,24a d) (30,40,52,58,64,70) used in the baffle, the baffle has at least one edge (32, 44,54,60,74), the edge of at least a portion extending obliquely; the baffle (30,40,52,58,64,70) in equipment (24,24a d). The use of; and, from the edge of the substrate (22) for separating the liquid sheet (38) method.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于处理基板的设备本专利技术涉及根据权利要求1的前序部分的装置和根据权利要求11的前序部分的挡板。在许多领域中，特别是在半导体领域，或者更确切地说，在太阳能电池领域中，基板特别是硅片的仅涉及其一侧的处理对于各种应用是必需的。在这样的单面工序中，与被处理的一侧相反的基板侧通常不应该受到处理的影响。在湿法工艺领域，示例性的例子有诸如湿化学边缘绝缘(通过扩散施加到背侧的寄生发射极的单面蚀刻)、抛光(纹理化的基板正面或背面的分别化学平滑化)、诸如金属覆层的电化学沉积的电流处理、或诸如基板边缘的疏水化的其他处理之前进行的单侧预处理步骤。与系统地同基板两侧有关的分批处理相反，单面处理可以以各种方式在线内处理中实现。在从EP17334181B1已知的方法中，通过形成所谓的弯液面，产生了基底下侧与处理液体的完全接触。在另一种已知的方法中，借助将处理液输送到基板下侧的结构化的辊，建立了基板与处理流体的单面接触。在上文和下文中，结合基板进行讨论。这也包括半导体基板，特别是诸如硅晶片的晶片。太阳能电池晶片是用于生产太阳能电池的晶片。对于用液体处理基板，特别是对于湿化学线内单面工艺，上述通过形成弯液面在处理液本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用液体(4)处理基板(14)的设备(24,24a‑d)，其特征在于：‑输送装置(26)，借助该输送装置基板(14)可沿输送方向(18)被输送通过容纳液体(4)的容器(28)；‑挡板(30，40，52，58，64，70)，它具有边缘(32，44，54，60，74)，该边缘(32，44，54，60，74)能够被所述基板(14)经过，该边缘(32，44，54，60，74)的至少一段相对于所述基板(14)的输送方向(18)倾斜。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.12.05 DE 102014118039.91.一种用液体(4)处理基板(14)的设备(24,24a-d)，其特征在于：-输送装置(26)，借助该输送装置基板(14)可沿输送方向(18)被输送通过容纳液体(4)的容器(28)；-挡板(30，40，52，58，64，70)，它具有边缘(32，44，54，60，74)，该边缘(32，44，54，60，74)能够被所述基板(14)经过，该边缘(32，44，54，60，74)的至少一段相对于所述基板(14)的输送方向(18)倾斜。2.根据权利要求1所述的设备(24a)，其特征在于：边缘(44)在至少两条输送道(36)上延伸并且在该至少两条输送道(36)之间具有不一致的边缘轮廓(42)。3.根据前述权利要求之一所述的设备(24b)，其特征在于：边缘(54)在至少两条输送道(36)上延伸并且在该至少两条输送道(36)之间具有一致的边缘轮廓(56)。4.根据前述权利要求之一所述的设备(24c)，其特征在于：边缘(60)具有在每个点处均可求导的边缘轮廓(62)。5.根据前述权利要求中任一项所述的设备(24a)，其特征在于：边缘(44)在至少一条输送道(36)内具有不一致的边缘轮廓(42)。6.根据前述权利要求中任一项所述的装置(24c)，其特征在于：边缘(60)的至少一段包括圆滑的、优选是正弦曲线的边缘轮廓(62)。7.根据前述权利要求中任一项所述的设备(24a-c)，其特征在于：其中边缘(44,54,60)在超过两条输送道的范围上延伸，且优选地在至少三条输送道的范围上延伸，并且特别优选地在所有输送道的范围上延伸。8.根据前述权利要求中任一项所述的设备(24,24a-d)，其特征在于：在所述挡板(30,40,52,58,64,70)的前面和后面设置有输送辊(34)，借助输送辊(34)所述基底(14)被输送通过容纳所述液体(4)的容器(28)。9.根据权利要求8所述的设备(24,24a-d)，其特征在于：边缘(32,44,54,60,74)在一个间隔距离的至少50％且优选地至少75％且特别优选地至少95％的范围上延伸，该间隔距离是从沿着输送方向(18)在挡板(30,40,52,58,6...

【专利技术属性】
技术研发人员：斯蒂芬海因里希·汉森，马库斯·尤赫伦，贝恩德乌韦·桑德，斯蒂芬·亚历克西斯·佩狄亚狄塔基斯，
申请(专利权)人：雷纳技术有限责任公司，
类型：发明
国别省市：德国,DE