The invention discloses a solution preparation method, transparent conductive film of a metal nitrogen oxide steps: 1) select at least one raw material added to deionized water to form a solution; 2) a substrate cleaning; 3) substrate is placed within the hot plate spraying operation space; 4) will pour into the pressure solution the spray system of material chamber; 5) with a nitrogen atmospheric pressure in the spraying operation space; 6) open the nozzle of high pressure spray system, the solution is evenly sprayed on the substrate; 7) repeat step 6), until the metal nitrogen oxide film thickness to meet the requirements; 8) will remove the dry substrate. Preparation of transparent conductive thin films prepared by this method can not only keep the conductivity and excellent light transmission rate, but also can reduce the production cost, saving energy consumption, and can realize the large-scale roll to roll production, can be used in the field of manufacturing field of display and solar cell electrode, electrode wire and data wire.
【技术实现步骤摘要】
金属氮氧化物透明导电薄膜的溶液制备方法
本专利技术涉及一种金属氮氧化物透明导电薄膜的溶液制备方法,所属
是透明导电薄膜的电子材料与制造技术。
技术介绍
ITO是氧化铟(In2O3)和氧化锡(SnO2)的混合物,ITO薄膜有着良好的特性,比如导电性能良好,可见光透过率高(超过85%),膜层硬度高,膜加工性能好(便于刻蚀)等等,因此在光电领域,ITO电极早已商业化并在液晶显示、OLED显示、太阳能电池等领域中获得广泛应用。但也由于ITO电极制造成本高、不能使用柔性基底、无法“卷对卷”生产等问题迫使研究者寻找替代ITO电极的材料和制造方法。目前比较成熟的金属氧化物替代方案主要是以不含铟的透明导电金属氧化物为主,如氧化锌(ZnO),铝掺杂氧化锌(AZO),镓掺杂氧化锌(GZO),锑掺杂氧化锡(ATO)和氟掺杂氧化锡(FTO)等。虽然这些金属氧化物替代方案不含有稀有金属铟,降低了生产成本,但在导电性和透光率方面还无法完全替代ITO,而且这些金属氧化物材料在制造电极时,依然需要通过真空蒸镀的方式实现,因此与ITO一样,生产过程无法降低生产能耗、也无法使用柔性基底,无法卷 ...
【技术保护点】
金属氮氧化物透明导电薄膜的溶液制备方法,其特征在于,该方法包括如下步骤:1)常温下,在下列六种原材料中至少选择一种,按每100CC水取0.1克‑10克,添加到去离子水中形成溶液:六种原材料为:硫酸锌ZnSO4,醋酸锌Zn(C2H3O2)2,硝酸锌Zn(NO3)2,硝酸铟In(NO3)3,醋酸铟In(C2H3O2)3,硫酸铟In2(SO4)3;2)取一基板清洗;3)将基板放置喷涂作业空间内的热板上,加热到300度‑500度并保持;4)将步骤1)所述的溶液倒进高压喷雾系统的材料室;5)在喷涂作业空间内充满一个大气压的氮气;6)打开高压喷雾系统的喷头,将溶液均匀喷射在基板上,每喷 ...
【技术特征摘要】
1.金属氮氧化物透明导电薄膜的溶液制备方法,其特征在于,该方法包括如下步骤:1)常温下,在下列六种原材料中至少选择一种,按每100CC水取0.1克-10克,添加到去离子水中形成溶液:六种原材料为:硫酸锌ZnSO4,醋酸锌Zn(C2H3O2)2,硝酸锌Zn(NO3)2,硝酸铟In(NO3)3,醋酸铟In(C2H3O2)3,硫酸铟In2(SO4)3;2)取一基板清洗;3)将基板放置喷涂作业空间内的热板上,加热到300度-500度并保持;4)将步骤1)所述的溶液倒进高压喷雾系统的材料室;5)在喷涂作业空间内充满一个大气压的氮气;6)打开高压喷雾系统的喷头,将溶液均匀喷射在基板上,每喷射5nm-20nm暂停10-30秒,让喷涂作业空间内的...
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