非球面变焦系统及照明光学系统技术方案

本发明专利技术提供了一种非球面变焦系统及照明光学系统，属于光刻照明技术领域。该非球面变焦系统包括：沿第一方向依次同光轴设置的第一透镜组、第二透镜组和第三透镜组。第一透镜组、第二透镜组和第三透镜组中至少一个透镜具有非球面。第一透镜组包括依次设置的第一正透镜、第二正透镜和第一负透镜。第二透镜组包括依次设置的第三正透镜和第四正透镜，第三正透镜和第四正透镜能够沿光轴移动以调节系统的焦距。第三透镜组包括依次设置的第二负透镜和第五正透镜。该非球面变焦系统能够有效地提高成像质量及能量透过率。

【技术实现步骤摘要】
非球面变焦系统及照明光学系统
本专利技术涉及光刻照明
，具体而言，涉及一种非球面变焦系统及照明光学系统。
技术介绍
上世纪70年代出现的集成电路在诞生之初主要用作信息处理器件，从出现至今的短短几十年的时间里，受到社会信息化进程的强烈牵引。集成电路先后经历了小规模、超大规模直至极大规模等几个发展阶段。极大规模集成电路已经成为高
发展的基石，从卫星、火箭等航空航天领域，到雷达、激光制导导弹国防领域，以及人们日常生活的各个领域都离不开极大规模集成电路。它不仅是主要的信息处理器件，同时也发展成为信息存储的重要载体之一。而体现信息存储能力的动态随机存储器的存储容量与集成电路芯片最小特征线宽息息相关，因此，减小集成电路最小线宽尺寸是提高存储能力的重要手段。加工制造集成电路的设备很多，光刻机是目前技术最成熟的设备。光刻机的核心部件是投影曝光光学系统，该系统最重要的组成部分是照明系统和投影物镜系统。照明系统主要功能是为掩模面提供均匀照明、控制曝光剂量和实现照明模式。随着微电子技术的发展，我国对线宽尺寸在纳米量级的光刻设备有很大需求，研发高NA浸没式光刻机对国防安全、科技进步来说都具有重要本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种非球面变焦系统，其特征在于，包括：沿第一方向依次同光轴设置的第一透镜组、第二透镜组和第三透镜组，所述第一透镜组、第二透镜组和第三透镜组中至少一个透镜具有非球面；所述第一透镜组，包括沿所述第一方向依次设置的第一正透镜、第二正透镜和第一负透镜；所述第二透镜组，包括沿所述第一方向依次设置的第三正透镜和第四正透镜，所述第三正透镜和所述第四正透镜能够沿所述光轴移动以调节所述系统的焦距；所述第三透镜组，包括沿所述第一方向依次设置的第二负透镜和第五正透镜；入射的光束依次经所述第一正透镜、所述第二正透镜、所述第一负透镜、所述第三正透镜、所述第四正透镜、所述第二负透镜以及所述第五正透镜出射。

【技术特征摘要】
1.一种非球面变焦系统，其特征在于，包括：沿第一方向依次同光轴设置的第一透镜组、第二透镜组和第三透镜组，所述第一透镜组、第二透镜组和第三透镜组中至少一个透镜具有非球面；所述第一透镜组，包括沿所述第一方向依次设置的第一正透镜、第二正透镜和第一负透镜；所述第二透镜组，包括沿所述第一方向依次设置的第三正透镜和第四正透镜，所述第三正透镜和所述第四正透镜能够沿所述光轴移动以调节所述系统的焦距；所述第三透镜组，包括沿所述第一方向依次设置的第二负透镜和第五正透镜；入射的光束依次经所述第一正透镜、所述第二正透镜、所述第一负透镜、所述第三正透镜、所述第四正透镜、所述第二负透镜以及所述第五正透镜出射。2.根据权利要求1所述的非球面变焦系统，其特征在于，所述第二正透镜的第二表面、所述第一负透镜的第二表面以及所述第二负透镜的第二表面均为凹面，且所述凹面均为非球面。3.根据权利要求1所述的非球面变焦系统，其特征在于，还包括：反射镜，所述反射镜位于所述第五正透镜的第一方向，由所述第五正透镜出射的光束被所述反射镜反射后成像。4.根据权利要求1所述的非球面变焦系统，其特征在于，还包括：光阑，所述光阑设置于所述第一正透镜的第二...

【专利技术属性】
技术研发人员：李美萱，王美娇，阚晓婷，刘喆，李晓奇，于玥，赵迎，
申请(专利权)人：长春理工大学光电信息学院，
类型：发明
国别省市：吉林,22