用于制造偏光膜的方法和系统技术方案

一种用于制造偏光膜的方法，包括对于一偏光膜前驱物进行一染色处理以及一交联处理。该交联处理，包括使偏光膜前驱物通过一交联槽中的槽液、以及通过投入一沉淀剂调整该槽液。沉淀剂包括一阴离子和一金属阳离子的化合物。在将沉淀剂投入槽液之后，沉淀剂的金属阳离子与槽液中的一酸碱值调整剂的一阴离子反应形成析出化合物。沉淀剂的选择满足反应形成的析出化合物的溶解度小于沉淀剂的该化合物的溶解度的条件。

【技术实现步骤摘要】
用于制造偏光膜的方法和系统
本专利技术是有关用于制造偏光膜的方法和系统，且特别是有关涉及交联槽中的槽液的调整的制造偏光膜的方法和系统。
技术介绍
偏光板为一种广泛应用于液晶显示器的光学组件。随着液晶显示器的发展，对于液晶显示器连带着其中的元件的质量要求越来越高。偏光板通常是通过在偏光膜上贴合保护膜而形成。其中，偏光膜可通过使可挠性的偏光膜前驱物通过多个处理槽而得。处理槽的槽液条件会对偏光膜的质量产生影响，因此，须以适当的方式将槽液的变化控制在一定范围内。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种用于制造偏光膜的方法和系统，以解决现有技术中处理槽的槽液会对偏光膜的质量产生不良影响的缺陷。为实现上述目的，本专利技术提供一种用于制造偏光膜的方法。此种方法包括对于一偏光膜前驱物进行一染色处理及一交联处理，以形成一偏光膜。交联处理包括使偏光膜前驱物通过一交联槽中的槽液、以及通过投入一沉淀剂调整槽液。沉淀剂包括一阴离子和一金属阳离子的化合物。在将沉淀剂投入槽液之后，沉淀剂的金属阳离子与槽液中的一酸碱值调整剂的一阴离子反应形成析出化合物。沉淀剂的选择满足反应形成的析出化合物的溶解度小于沉淀剂的化合物本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于制造偏光膜的方法，其特征在于，包括：对于一偏光膜前驱物进行一染色处理及一交联处理，以形成一偏光膜，其中，该交联处理包括：使该偏光膜前驱物通过一交联槽中的槽液；以及通过投入一沉淀剂调整该槽液，该沉淀剂包括一阴离子和一金属阳离子的化合物，其中，在将该沉淀剂投入该槽液之后，该沉淀剂的该金属阳离子与该槽液中的一酸碱值调整剂的一阴离子反应形成一析出化合物，且其中，该沉淀剂的选择满足下列条件：反应形成的该析出化合物的溶解度小于该沉淀剂的该化合物的溶解度。

【技术特征摘要】
2017.05.23 TW 1061169791.一种用于制造偏光膜的方法，其特征在于，包括：对于一偏光膜前驱物进行一染色处理及一交联处理，以形成一偏光膜，其中，该交联处理包括：使该偏光膜前驱物通过一交联槽中的槽液；以及通过投入一沉淀剂调整该槽液，该沉淀剂包括一阴离子和一金属阳离子的化合物，其中，在将该沉淀剂投入该槽液之后，该沉淀剂的该金属阳离子与该槽液中的一酸碱值调整剂的一阴离子反应形成一析出化合物，且其中，该沉淀剂的选择满足下列条件：反应形成的该析出化合物的溶解度小于该沉淀剂的该化合物的溶解度。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，该沉淀剂的选择还满足至少下列任一条件：该沉淀剂的该阴离子对于该槽液中的一光学调整剂具有还原性；反应形成的该析出化合物对于该槽液中的该偏光膜前驱物的一析出物具有絮凝性；反应形成的该析出化合物的溶解度为20mg/100gH2O以下；以及该沉淀剂的该金属阳离子于该槽液中的残留量介于1ppm～65ppm之间。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，该沉淀剂的该金属阳离子为1A族～5A族金属的阳离子或过渡金属的阳离子；且/或该沉淀剂的该阴离子选自于由卤素离子、碳酸根、碘酸根、溴酸根、氢氧根、硝酸根、亚硝酸根、硫酸根、磷酸根、过氯酸根、次氯酸根和有机酸根所组成的群组；且/或该沉淀剂的该化合物选自于由醋酸铅、氢氧化锶、醋酸锶、氢氧化钡、醋酸钡、甲酸钡和草酸钡所组成的群组；且/或该沉淀剂的投入量为相对于每100克的该槽液为1克～2克。4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，该有机酸根选自于由甲酸根和草酸根所组成的群组。5.根据权利要求1所述的方法，还包括下列处理其中至少一者：在该染色处理之前，对于该偏光膜前驱物进行一膨润处理；对于该偏光膜前...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭建生，徐维廷，王世豪，
申请(专利权)人：住华科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾,71