一种高精度极小尺寸自支撑铍薄膜的制备方法技术
Method for preparing high precision and minimum size self-supporting beryllium film
The invention discloses a preparation method of a high precision small size self supporting beryllium film, comprises the following steps: in the copper block surface of high precision machining steps; fine grinding surface roughness of copper steps to the nanometer scale; in the face of copper steps deposition of aluminum film in thin film deposited on the surface of aluminum beryllium; thin film; the removal of aluminum thin film substrate using NaOH solution, high precision small size self supporting beryllium film; the invention greatly improves the dimensional accuracy of self-supporting beryllium film with extremely small size, precision can reach 1 m; from the support surface and the beryllium film is smooth, no blisters, regular shape, good quality.
【技术实现步骤摘要】
一种高精度极小尺寸自支撑铍薄膜的制备方法
本专利技术涉及自支撑铍薄膜
，更具体地说，本专利技术涉及一种高精度极小尺寸自支撑铍薄膜的制备方法。
技术介绍
铍(Be)是稀有金属之一，与其它低序数金属材料相比，具有密度低、熔点高、强度及弹性模量高、比热容大、X射线透过率极高、可调控热中子散射等特点，其独特的物理化学性质使其在核工业、航空航天、冶金工业及高科技领域具有重要的应用价值。自支撑铍薄膜是指无衬底支撑而独立存在的铍薄膜，本专利技术的“高精度极小尺寸自支撑铍薄膜”，除非特别说明，是指外形（圆形或方形）尺寸小于1mm，一般介于数十至数百μm，尺寸精度达1μm，厚度为1μm~10μm的精密自支撑铍薄膜。高精度极小尺寸自支撑铍薄膜常用于激光物理实验中的状态方程靶、某些精密仪器上的X射线滤片等，该靶或滤片对于自支撑铍薄膜的外形尺寸精度要求极高，常规自支撑薄膜制备方法无法满足要求。目前已经报道了大尺度自支撑铍薄膜的制备方法，一般采用一定尺寸的掩膜作为自支撑铍薄膜外形，掩膜的尺寸精度一般不高，同时在沉积薄膜时由于掩膜厚度所造成的阴影效应，最终导致自支撑铍薄膜的尺寸与掩膜尺...
【技术保护点】
一种高精度极小尺寸自支撑铍薄膜的制备方法，其特征在于，依次包括以下步骤： (a) 在铜块体表面加工出高精度的台阶；(b) 精细研磨铜台阶端面粗糙度至纳米量级；(c) 在铜台阶端面蒸发沉积铝薄膜；(d) 在铝薄膜表面沉积铍薄膜；(e) 采用NaOH溶液反应去除铝薄膜衬底，得到高精度极小尺寸自支撑铍薄膜。
【技术特征摘要】
1.一种高精度极小尺寸自支撑铍薄膜的制备方法，其特征在于，依次包括以下步骤：(a)在铜块体表面加工出高精度的台阶；(b)精细研磨铜台阶端面粗糙度至纳米量级；(c)在铜台阶端面蒸发沉积铝薄膜；(d)在铝薄膜表面沉积铍薄膜；(e)采用NaOH溶液反应去除铝薄膜衬底，得到高精度极小尺寸自支撑铍薄膜。2.根据权利要求1所述高精度极小尺寸自支撑铍薄膜的制备方法，其特征在于：步骤(a)所述的铜块体为纯铜材料，所述铜块体的尺寸介于10mm×10mm×10mm~15mm×15mm×15mm，高精度的台阶采用精密数控加工，台阶高度1mm~2mm，台阶外形尺寸小于1mm，所述台阶精度控制在1μm。3.根据权利要求1所述高精度极小尺寸自支撑铍薄膜的制备方法，其特征在于：步骤(b)所述的精细研磨采用高效精密抛光机进行。4.根据权利要求3所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：李恺，吴卫东，罗炳池，罗江山，张吉强，谭秀兰，李文琦，金雷，何玉丹，
申请(专利权)人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心，
类型：发明
国别省市：四川,51
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