消泡性提高剂、含有其的消泡剂和水系涂敷组合物制造技术

本发明专利技术的目的在于提供一种消泡性提高剂，仅通过使疏水性化合物含有该消泡性提高剂，便可抑制缩孔并飞跃性地改善消泡性。本发明专利技术为含有式(1)的化合物或式(2)的化合物而成的消泡性提高剂。X为自醇的缩合物除去羟基后的残基，Y为氧原子或1，4‑二氧杂‑2‑氧代亚丁基，OA为氧基亚烷基，Z为‑R、‑C(＝O)‑R、‑C(＝O)‑NH‑R或‑CH2‑CH(‑OH)‑CH2‑R所表示的基团，R为烷基、烯基或芳基，S为自将(甲基)丙烯酸作为必需构成单体的(共)聚合物上除去羧基的氢原子后的残基，M为氢原子、甲基或乙基，a为0～20，b为0～10，c为1～16，d为0～10，e为0～10，f为2～100。{II‑(OA‑)aY‑}bX{‑Y‑(OA‑)aZ}e    (1)

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】消泡性提高剂、含有其的消泡剂和水系涂敷组合物
本专利技术涉及消泡性提高剂、含有其的消泡剂和水系涂敷组合物。
技术介绍
以往，已知：“通过使分散于液状链烷烃中的亲水性硅酸与烷基氯硅烷在除去所生成的氯化氢的条件下进行反应，而包含链烷烃和疏水性硅酸的消泡剂混合物”(专利文献1)、“一种包含疏水性二氧化硅粒子的消泡剂用组合物，其如下而成：通过在不存在催化剂的条件下且真空下、约100～140℃的范围内的温度下使亲水性二氧化硅粒子在非活性液体介质中与疏水剂接触4小时以下，从而使疏水性二氧化硅粒子分散到非活性、疏水性介质，形成包含疏水性二氧化硅粒子的消泡剂用组合物”(专利文献2)等。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开昭62-227414号公报(相对应的外国专利申请；USP4801401A、EP0236893A2)专利文献2：日本特表2003-523816号公报(相对应的国际专利申请；WO00/58213)
技术实现思路
专利技术要解决的课题然而，就专利文献1、2中记载的消泡剂而言，存在消泡性欠缺的问题。因此，本专利技术的目的在于提供一种消泡性提高剂，仅通过使专利文献1、2中记载的消泡剂等(包含疏水性化合物等)含有该消泡性提高剂，便可抑制缩孔(日文：ハジキ)并飞跃性地改善消泡性。用于解决课题的手段本专利技术的消泡性提高剂的特征的要点在于其含有式(1)所表示的化合物(P1)或式(2)所表示的化合物(P2)而成这一点。[化1]{II-(OA-)aY-}bX{-Y-(OA-)aZ}c(1){LOH}dMc-S{-(OA-)aR}f(2)-R(3)-C(＝O)-R(4)-C(＝O)-NH-R(5)-CH2-CH(-OH)-CH2-R(6)X表示自3～8元的醇的缩合物除去羟基后的反应残基，Y表示氧原子或1，4-二氧杂-2-氧代亚丁基{-OC(＝O)CH2O-所表示的二价基团}，OA表示碳数2～4的氧基亚烷基，H表示氢原子，OH表示羟基，Z表示式(3)～(6)中任一者所表示的一价基团，R表示选自碳数7～24的烷基、碳数7～23的烯基或碳数7～15的芳基中的任一种烃基，C表示碳原子，O表示氧原子，N表示氮原子，S表示自将(甲基)丙烯酸作为必需构成单体的(共)聚合物上除去羧基的氢原子后的反应残基，M表示氢原子、甲基或乙基，a表示0～20的整数，b表示0～10的整数，c表示1～16的整数，d表示0～10的整数(其中，b、c和d之和为4～16)，e表示0～10的整数，f表示2～100的整数(其中，e和f之和为2～110)。本专利技术的消泡剂的特征的要点在于其含有上述的消泡性提高剂和疏水性化合物(E)而成这一点。本专利技术的水系涂敷组合物的特征的要点在于其包含水系涂敷材和上述的消泡剂这一点。专利技术效果就本专利技术的消泡性提高剂而言，仅通过使以往的消泡剂等(包含疏水性化合物等)含有该消泡性提高剂，便可有效地防止缩孔，并飞跃性地改善消泡性。本专利技术的消泡剂含有上述的消泡性提高剂，因此使缩孔得到抑制，发挥优良的消泡性。本专利技术的水系涂敷组合物由于包含上述的消泡剂(即，由于含有上述的消泡性提高剂)，因此使缩孔得到抑制，发挥优良的消泡性。因此，涂布本专利技术的水系涂敷组合物而得的涂膜不会因残泡痕迹等而损害外观。具体实施方式<式(1)所表示的化合物(P1)>作为可构成自3～8元的醇的缩合物除去羟基后的反应残基(X)的醇的缩合物(X’)，可列举：3元醇的缩合物(二(三羟甲基)丙烷、二甘油、四甘油、六甘油、十甘油和十六甘油等)、4元醇的缩合物(二季戊四醇和三季戊四醇等)。其中，从消泡性和抑制缩孔的观点出发，优选3～4元的醇的缩合物，进一步优选四甘油、六甘油、十甘油和十六甘油，特别优选六甘油、十甘油。可构成反应残基(X)的3～8元的醇的缩合物(X’)的羟值(mgKOH/g)优选为500～1600，进一步优选为600～1500，特别优选为850～1400。需要说明的是，羟值按照JISK0070-1992的“7.1中和滴定法”(要点：在试样中加入乙酰化试剂，在甘油浴中进行加热，放冷后，作为指示剂而加入酚酞溶液，用氢氧化钾乙醇溶液进行滴定，求出羟值。)来测定。可以由羟值和醇的分子量算出醇的缩合物(X’)的缩合数。作为碳数2～4的氧基亚烷基(OA)，包括氧基亚乙基、氧基亚丙基及氧基亚丁基。其中，从抑制缩孔的观点出发，优选氧基亚乙基、以及氧基亚乙基与氧基亚丙基的混合。在OA内包含多种氧基亚烷基的情况下，这些氧基亚烷基的结合顺序(嵌段状、无规状及它们的组合)及含有比例并无限制，但优选包含嵌段状或嵌段状与无规状的组合，进一步优选包含嵌段状。在氧基亚烷基包含氧基亚乙基的情况下，氧基亚乙基的含有比例(摩尔％)基于氧基亚烷基的总摩尔数而优选为10～90或100，进一步优选为20～75或100，特别优选为50～65或100。a优选为0～20的整数，进一步优选为4～8的整数。若为该范围，则消泡性和缩孔抑制性变得更加良好。b优选为0～10的整数，进一步优选为0～2的整数。若为该范围，则消泡性和缩孔抑制性变得更加良好。c优选为1～16的整数，进一步优选为4～12的整数。若为该范围，则消泡性和缩孔抑制性变得更加良好。d优选为0～10的整数，进一步优选为0～2的整数。若为该范围，则消泡性和缩孔抑制性变得更加良好。b、c和d之和优选为4～16的整数，进一步优选为4～12的整数。若为该范围，则消泡性和缩孔抑制性变得更加良好。在选自碳数7～24的烷基、碳数7～23的烯基或碳数7～15的芳基中的任一种烃基(R)中，作为碳数7～24的烷基，可列举：庚基、2-乙基庚基、辛基、壬基、癸基、十一烷基、十二烷基、十三烷基、十四烷基、十七烷基、异十七烷基、十八烷基、二十烷基、二十一烷基、二十三烷基及二十四烷基等。在烃基(R)中，作为碳数7～23的烯基，可列举：庚烯基、2-乙基庚烯基、辛烯基、壬烯基、癸烯基、十一碳烯基、十三碳烯基、十七碳烯基、十八碳烯基、异十七碳烯基、二十九碳烯基、二十一碳烯基和二十三碳烯基等。在烃基(R)中，作为碳数7～15的芳基，可列举：苄基、2-苯基乙基、4-苯基丁基、7-苯基庚基和9-苯基壬基等。这些烃基(R)中，优选辛基、壬基、癸基、十一烷基、十二烷基、十三烷、十五烷基、十八烷基、十八碳烯基和2-苯基乙基。式(1)所表示的化合物(P1)可以通过公知的方法(环氧烷加成反应、酯化反应、氨基甲酸酯反应和环氧开环反应等)而容易地得到。例如，化合物(P1)可以通过使聚氧亚烷基化合物(P1’)(Y为氧原子)与羧酸、异氰酸酯或α-烯烃环氧化物的化学反应而容易地得到，其中，所述聚氧亚烷基化合物通过使3～8元的醇的缩合物(X’)与碳数2～4的环氧烷进行加成反应而得到。另外，可以通过3～8元的醇的缩合物(X’)与聚氧亚烷基烷基醚乙酸{R-(OA)aO-CH2CO2H}或聚氧亚烷基烯基醚乙酸{R-(OA)aO-CH2CO2H}的化学反应而容易地得到(Y为1，4-二氧杂-2-氧代亚丁基)。构成反应残基(X)的3～8元的醇的化合物(X’)可以从市场容易地获得，例如，可列举：聚甘油#310(聚甘油、羟值1070mgKOH/g：阪本药品工业株式会社)、聚甘油#500(聚甘油、羟值970mgKOH/g：阪本药品工业株式会社本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种消泡性提高剂，其特征在于，含有式(1)所表示的化合物(P1)或式(2)所表示的化合物(P2)而成，

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.02.28 JP 2015-0397061.一种消泡性提高剂，其特征在于，含有式(1)所表示的化合物(P1)或式(2)所表示的化合物(P2)而成，-R(3)-C(＝O)-R(4)-C(＝O)-NH-R(5)-CH2-CH(-OH)-CH2-R(6)其中，X表示自3～8元的醇的缩合物除去羟基后的反应残基，Y表示氧原子或1，4-二氧杂-2-氧代亚丁基即-OC(＝O)CH2O-所表示的二价基团，OA表示碳数2～4的氧基亚烷基，H表示氢原子，OH表示羟基，Z表示式(3)～(6)中任一者所表示的一价基团，R表示选自碳数7～24的烷基、碳数7～23的烯基或碳数7～15的芳基中的任一种烃基，C表示碳原子...

【专利技术属性】
技术研发人员：北村匠，岛林克臣，
申请(专利权)人：圣诺普科有限公司，
类型：发明
国别省市：日本,JP