【技术实现步骤摘要】
一种研钵
本技术涉及一种研钵,属于研磨设备领域。
技术介绍
研钵广泛应用于化验室、制药厂、化工实验室的研磨中,但目前市面上所售的研钵,采用单一凹型面设计,使得物料在研磨过程中容易从研钵中撒出,尤其是应用在三头研磨机上,由于研钵结构设计问题,物料撒出更为严重,且容易产生研磨不均匀和过磨现象。本技术的目的是通过对研钵的内壁结构进行改进,以解决现有技术存在的问题。对于研钵的研钵棒,与现有的产品相同,在这里不作具体论述。
技术实现思路
本技术公开了一种研钵,包括研钵壁1和研钵底2,研钵壁1与水平面垂直,高h2为研钵深度H的1/4-1/5,研钵壁1和研钵底2的夹角β为120°~150°;研钵底2为圆弧形,研钵底2底部中心设有底部突起3,底部突起3的夹角α为10°~20°,底部突起3的高度h1为研钵深度H的1/4-1/5,底部突起3表面与研钵底2形成平滑曲线。本技术是根据在研磨过程中磨头运动轨迹,加以拟合设计出符合其运动轨迹的研磨曲面,最大限度地使磨头运动所产生的等作用力面与表面一致,进而使磨头的压力能够更为均匀地分散在研钵的底部,物料的研磨更为均匀;再利用中心凸起设计来避免物料循环 ...
【技术保护点】
一种研钵,包括研钵壁(1)和研钵底(2),其特征在于,研钵壁(1)与水平面垂直,与研钵底(2)形成夹角;研钵底(2)为圆弧形,研钵底(2)底部中心设有底部突起(3),底部突起(3)表面与研钵底(2)形成平滑曲线。
【技术特征摘要】
1.一种研钵,包括研钵壁(1)和研钵底(2),其特征在于,研钵壁(1)与水平面垂直,与研钵底(2)形成夹角;研钵底(2)为圆弧形,研钵底(2)底部中心设有底部突起(3),底部突起(3)表面与研钵底(2)形成平滑曲线。2.根据权利要求1所述的研钵,其特征在于,研钵壁(1)高h2为研钵深度H的...
【专利技术属性】
技术研发人员:赵敏捷,方建军,张琳,余力,张铁民,
申请(专利权)人:昆明理工大学,
类型:新型
国别省市:云南,53
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