一种研钵制造技术

技术编号:16073163 阅读:89 留言:0更新日期:2017-08-25 11:59
本实用新型专利技术公开了一种研钵,包括研钵壁和研钵底,研钵壁与水平面垂直,与研钵底形成夹角;研钵底为圆弧形,研钵底底部中心设有底部突起,底部突起表面与研钵底形成平滑曲线。本实用新型专利技术使研磨头与壁面的接触面增大,提高研磨效率,使物料的研磨更为均匀,防止物料的过磨现象,并有效改善研磨时颗粒容易撒出的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种研钵
本技术涉及一种研钵,属于研磨设备领域。
技术介绍
研钵广泛应用于化验室、制药厂、化工实验室的研磨中,但目前市面上所售的研钵,采用单一凹型面设计,使得物料在研磨过程中容易从研钵中撒出,尤其是应用在三头研磨机上,由于研钵结构设计问题,物料撒出更为严重,且容易产生研磨不均匀和过磨现象。本技术的目的是通过对研钵的内壁结构进行改进,以解决现有技术存在的问题。对于研钵的研钵棒,与现有的产品相同,在这里不作具体论述。
技术实现思路
本技术公开了一种研钵,包括研钵壁1和研钵底2,研钵壁1与水平面垂直,高h2为研钵深度H的1/4-1/5,研钵壁1和研钵底2的夹角β为120°~150°;研钵底2为圆弧形,研钵底2底部中心设有底部突起3,底部突起3的夹角α为10°~20°,底部突起3的高度h1为研钵深度H的1/4-1/5,底部突起3表面与研钵底2形成平滑曲线。本技术是根据在研磨过程中磨头运动轨迹,加以拟合设计出符合其运动轨迹的研磨曲面,最大限度地使磨头运动所产生的等作用力面与表面一致,进而使磨头的压力能够更为均匀地分散在研钵的底部,物料的研磨更为均匀;再利用中心凸起设计来避免物料循环运动过程中,在圆心区本文档来自技高网...
一种研钵

【技术保护点】
一种研钵,包括研钵壁(1)和研钵底(2),其特征在于,研钵壁(1)与水平面垂直,与研钵底(2)形成夹角;研钵底(2)为圆弧形,研钵底(2)底部中心设有底部突起(3),底部突起(3)表面与研钵底(2)形成平滑曲线。

【技术特征摘要】
1.一种研钵,包括研钵壁(1)和研钵底(2),其特征在于,研钵壁(1)与水平面垂直,与研钵底(2)形成夹角;研钵底(2)为圆弧形,研钵底(2)底部中心设有底部突起(3),底部突起(3)表面与研钵底(2)形成平滑曲线。2.根据权利要求1所述的研钵,其特征在于,研钵壁(1)高h2为研钵深度H的...

【专利技术属性】
技术研发人员:赵敏捷方建军张琳余力张铁民
申请(专利权)人:昆明理工大学
类型:新型
国别省市:云南,53

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1