光学成像系统技术方案

技术编号:16063433 阅读:40 留言:0更新日期:2017-08-22 16:17
本发明专利技术公开了一种光学成像系统,由物侧至像侧依序包含第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜以及第五透镜。第一透镜至第五透镜中至少一透镜具有正屈折力。第五透镜可具有负屈折力,其两个表面皆为非球面,其中第五透镜的至少一表面具有反曲点。当满足特定条件时,可具备更大的收光以及更佳的光路调节能力,以提升成像质量。

Optical imaging system

The present invention discloses an optical imaging system comprising a first lens, a second lens, a lens, a third lens, a fourth lens and a fifth lens sequentially from the object side to the image side. At least one lens of the first lens to the fifth lens has a positive inflection force. The fifth lens with negative refracting power, the two surfaces are non spherical, wherein at least one surface of the fifth lens has a point of inflection. When a particular condition is met, greater optical gain and better optical path regulation capability can be achieved in order to improve imaging quality.

【技术实现步骤摘要】
光学成像系统
本专利技术涉及一种光学成像系统,且特别是有关于一种应用于电子产品上的小型光学成像系统。
技术介绍
近年来,随着具有摄影功能的可携式电子产品的兴起,光学系统的需求日渐增加。一般光学系统的感光元件不外乎为感光耦合元件(ChargeCoupledDevice;CCD)或互补性氧化金属半导体元件(ComplementaryMetal-OxideSemiconductorSensor;CMOSSensor)两种,且随着半导体制造技术的进步,使得感光元件的像素尺寸缩小,光学系统逐渐往高像素方向发展,因此对成像质量的要求也日益增加。传统搭载于便携设备上的光学系统,多采用三片或四片式透镜结构,然而,由于便携设备不断朝像素提升方向发展,并且终端消费者对大光圈的需求也逐渐增加,例如微光与夜拍功能,现有的光学成像系统已无法满足更高阶的摄影要求。因此,如何有效增加光学成像镜头的进光量,并进一步提高成像的质量,便成为一个相当重要的议题。
技术实现思路
本专利技术针对一种光学成像系统及光学影像撷取镜头,能够利用五个透镜的屈光力、凸面与凹面的组合(本专利技术所述凸面或凹面原则上指各透镜的物侧面或像侧面距本文档来自技高网...
光学成像系统

【技术保护点】
一种光学成像系统,其特征在于,由物侧至像侧依序包含:一第一透镜,具有屈折力;一第二透镜,具有屈折力;一第三透镜,具有屈折力;一第四透镜,具有屈折力;一第五透镜,具有屈折力;以及一成像面;其中,且该第一透镜至该第五透镜中至少两个透镜的至少一表面具有至少一反曲点,该第一透镜至该第五透镜中至少一透镜具有正屈折力,该第一透镜至该第五透镜的焦距分别为f1、f2、f3、f4和f5,该光学成像系统的焦距为f,该光学成像系统的入射瞳直径为HEP,该第一透镜物侧面至该成像面于光轴上的距离为HOS,该第一透镜物侧面至该第五透镜像侧面于光轴上的距离为InTL,该多个透镜中任一透镜的任一表面与光轴的交点为起点,延着该...

【技术特征摘要】
2016.02.16 TW 1051044371.一种光学成像系统,其特征在于,由物侧至像侧依序包含:一第一透镜,具有屈折力;一第二透镜,具有屈折力;一第三透镜,具有屈折力;一第四透镜,具有屈折力;一第五透镜,具有屈折力;以及一成像面;其中,且该第一透镜至该第五透镜中至少两个透镜的至少一表面具有至少一反曲点,该第一透镜至该第五透镜中至少一透镜具有正屈折力,该第一透镜至该第五透镜的焦距分别为f1、f2、f3、f4和f5,该光学成像系统的焦距为f,该光学成像系统的入射瞳直径为HEP,该第一透镜物侧面至该成像面于光轴上的距离为HOS,该第一透镜物侧面至该第五透镜像侧面于光轴上的距离为InTL,该多个透镜中任一透镜的任一表面与光轴的交点为起点,延着该表面的轮廓直到该表面上距离光轴1/2入射瞳直径的垂直高度处的坐标点为终点,前述起点与终点间的轮廓曲线长度为ARE,其满足下列条件:1.0≤f/HEP≤2.2;0.5≤HOS/f≤3.0;以及0.9≤2×(ARE/HEP)≤1.5。2.根据权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,该光学成像系统于该成像面上垂直于光轴具有一最大成像高度HOI,其满足下列关系式:0.5≤HOS/HOI≤1.6。3.根据权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,该光学成像系统的最大可视角度的一半为HAF,其满足下列公式:0deg<HAF≤60deg。4.根据权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,该成像面为一平面或一曲面。5.根据权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,该光学成像系统于结像时的TV畸变为TDT,该光学成像系统于该成像面上垂直于光轴具有一最大成像高度HOI,该光学成像系统的正向子午面光扇的最长工作波长通过该入射瞳边缘并入射在该成像面上0.7HOI处的横向像差以PLTA表示,其正向子午面光扇的最短工作波长通过该入射瞳边缘并入射在该成像面上0.7HOI处的横向像差以PSTA表示,负向子午面光扇的最长工作波长通过该入射瞳边缘并入射在该成像面上0.7HOI处的横向像差以NLTA表示,负向子午面光扇的最短工作波长通过该入射瞳边缘并入射在该成像面上0.7HOI处的横向像差以NSTA表示,弧矢面光扇的最长工作波长通过该入射瞳边缘并入射在该成像面上0.7HOI处的横向像差以SLTA表示,弧矢面光扇的最短工作波长通过该入射瞳边缘并入射在该成像面上0.7HOI处的横向像差以SSTA表示,其满足下列条件:PLTA≤50微米;PSTA≤50微米;NLTA≤50微米;NSTA≤50微米;SLTA≤50微米;以及SSTA≤50微米;│TDT│<150%。6.根据权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,该多个透镜中任一透镜的任一表面的最大有效半径以EHD表示,该多个透镜中任一透镜的任一表面与光轴的交点为起点,延着该表面的轮廓直到该表面的最大有效半径处为终点,前述起点与终点间的轮廓曲线长度为ARS,其满足下列公式:0.9≤ARS/EHD≤2.0。7.根据权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,该第五透镜的物侧表面于光轴上的交点为起点,延着该表面的轮廓直到该表面上距离光轴1/2入射瞳直径的垂直高度处的坐标点为终点,前述起点与终点间的轮廓曲线长度为ARE51,该第五透镜的像侧表面于光轴上的交点为起点,延着该表面的轮廓直到该表面上距离光轴1/2入射瞳直径的垂直高度处的坐标点为终点,前述起点与终点间的轮廓曲线长度为ARE52,第五透镜于光轴上的厚度为TP5,其满足下列条件:0.05≤ARE51/TP5≤15;以及0.05≤ARE52/TP5≤15。8.根据权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,该第四透镜的物侧表面于光轴上的交点为起点,延着该表面的轮廓直到该表面上距离光轴1/2入射瞳直径的垂直高度处的坐标点为终点,前述起点与终点间的轮廓曲线长度为ARE41,该第四透镜的像侧表面于光轴上的交点为起点,延着该表面的轮廓直到该表面上距离光轴1/2入射瞳直径的垂直高度处的坐标点为终点,前述起点与终点间的轮廓曲线长度为ARE42,该第四透镜于光轴上的厚度为TP4,其满足下列条件:0.05≤ARE41/TP4≤15;以及0.05≤ARE42/TP4≤15。9.根据权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,还包括一光圈,并且于该光圈至该成像面的距离为InS,其满足下列公式:0.2≤InS/HOS≤1.1。10.一种光学成像系统,其特征在于,由物侧至像侧依序包含:一第一透镜,具有正屈折力;一第二透镜,具有屈折力;一第三透镜,具有屈折力;一第四透镜,具有正屈折力;一第五透镜,具有屈折力;以及一成像面;其中,且该第一透镜至该第五透镜中至少一透镜的至少一表面具有至少两个反曲点,该第一透镜至该第五透镜的焦距分别为f1、f2、f3、f4和f5,该光学成像系统的焦距为f,该光学成像系统的入射瞳直径为HEP,该第一透镜物侧面至该成像面于光轴上的距离为HOS,该第一透镜物侧面至该第五透镜像侧面于光轴上的距离为InTL,该多个透镜中任一透镜的任一表面与光轴的交点为起点,延着该表面的轮廓直到该表面上距离光轴1/2入射瞳直径的垂直高度处的坐标点为终点,前述起点与终点间的轮廓曲线长度为ARE,其满足下列条件:1.0≤f/HEP≤2.2;0.5≤HOS/f≤3.0;以及0.9≤2×(ARE/HEP)≤1.5。11.根据权利要求10所述的光学成像系统,其特征在于,该光学成像系统于该成像面上垂直于光轴具有一最大成像高度HOI,其满足下列关系式:0.5≤HOS/HOI≤1.6。12.根据权利要求10所述的光学成像系统,其特征在于,该第一透镜至该第三透镜中至少一透...

【专利技术属性】
技术研发人员:赖建勋刘燿维张永明
申请(专利权)人:先进光电科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:中国台湾,71

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