流体压力缸制造技术

本发明专利技术涉及流体压力缸。该流体压力缸(10)以以下方式被构造，活塞单元(18)以轴向方向可位移的方式容纳在形成为矩形截面形状的缸筒(12)中。活塞单元(18)具有：基部本体(50)，该基部本体(50)具有连接至活塞杆(20)的前端(86)；耐磨环(52)，该耐磨环(52)将基部本体(50)容纳在其中并且在其中包含磁体(70)；和活塞衬垫(54)，该活塞衬垫(54)邻近于耐磨环(52)。活塞单元(18)整体保持在活塞杆(20)的一端。耐磨环(52)和活塞衬垫(54)形成为对应于缸筒(12)矩形截面形状的矩形截面形状并且设置为相对于活塞杆(20)可旋转。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】流体压力缸
本专利技术涉及一种流体压力缸(流体缸)，用于在提供加压流体操作下在轴向方向位移活塞。
技术介绍
通常，作为意指用于运输工件等，使用了一种具有活塞的流体压力缸，该活塞在提供压力流体的操作下被位移。例如，日本专利公开号No.06-235405公开了一种该类型的流体压力缸。该流体压力缸包括筒状体缸筒、设置在缸筒一端的气缸盖和以可位移方式设置在缸筒内部的活塞。进一步地，活塞和缸筒中每一个的垂直于轴线的截面具有非圆形的形状。在此结构中，相比于使用圆形截面的活塞的情况，增加了压力接收表面面积和输出的推力。进一步地，日本专利公开号No.2011-508127(PCT)公开了一种气缸装置，其包括具有正方形截面的活塞。气缸装置包括对应于活塞截面形状的同样具有正方形截面的气缸壳体。密封构件通过活塞外部边缘部分的凹槽被设置。密封构件接触气缸内壁表面以执行密封操作。
技术实现思路
在如日本专利公开号No.06-235405和日本专利公开号No.2011-508127(PCT)中公开的具有非圆形活塞的流体压力缸，有获得在在轴向方向上进一步减少纵向尺寸的需求。本专利技术的主要目的是提供一种流体压力缸，其中可以增加推力并且减小纵向尺寸。为了实现上述目的，本专利技术提供了流体压力缸，包括：筒状体缸筒，该筒状体缸筒包括内部的缸室；一对附接于缸筒两端的盖构件；以可位移方式沿着缸室设置的活塞；和联接至活塞的活塞杆。活塞和缸筒中每一个形成为具有矩形形状的截面，活塞包括耐磨环，其被构造成在缸筒内壁表面滑动，和磁体，其设置在耐磨环上。在本专利技术中，流体压力缸的活塞和缸筒中每一个具有矩形形状截面。活塞包括耐磨环，其在缸筒内壁表面滑动，和磁体，其设置在耐磨环上。在上述结构中，相比耐磨环和磁体在活塞外周表面在轴向方向排列成一直线的流体压力缸，可以减少活塞位移的轴向方向上的尺寸。因此，通过设置活塞具有矩形形状截面以实现大的压力接收表面面积，可以获得大的推力，并且减少包括活塞的流体压力缸的纵向尺寸。上述目的、特征和优点将由以下参考附图描述的实施例容易地被理解。附图说明图1是根据本专利技术的第一实施例的流体压力缸的总体截面图；图2是由从图1中流体压力缸的杆盖观看的流体压力缸的前视图；图3是显示环绕着图1中流体压力缸的活塞单元的放大截面视图；图4A是从盖罩观看的流体压力缸的前视图；图4B是流体压力缸的前视图，显示改变了相对于端盖嵌塞缸筒的方法的修改例；图5是显示图1中流体压力缸的活塞杆和活塞单元的外观的立体图；图6是图5中所示的活塞单元的分解立体图；图7是沿着图1中线VII-VII的截面视图；图8是活塞衬垫的前视图；图9是环绕图3中活塞衬垫的外部边缘部分的区域的放大截面视图；图10是环绕盖罩的区域的放大截面视图，该视图显示一个修改例，其中由盖罩嵌塞的嵌塞部分被盖部分进一步嵌塞；图11A是根据修改例的活塞衬垫的前视图；图11B是沿着图11A中线XIB-XIB的截面视图；图12是根据本专利技术的第二实施例的流体压力缸的总体截面图；图13是显示环绕着图12中流体压力缸的盖罩的区域的放大截面视图；图14是显示图13中所示的盖罩从缸筒拆卸状态的局部的分解立体图；图15A是显示根据第一修改例的止动环的外观的立体图；图15B是显示根据第二修改例的止动环的外观的立体图；图15C是包括多个平板和紧固螺栓的止动装置的分解立体图；图15D是在盖罩被图15C中的止动装置止动的状态下，显示环绕盖罩的区域的放大截面视图；图16是显示根据本专利技术的第三实施例的流体压力缸的总体截面图；图17是显示环绕着图16中流体压力缸的杆盖区域的放大截面视图；和图18是显示图17中所示的杆盖从缸筒拆卸状态的局部的分解立体图。具体实施方式在图1中，参考数字10表示根据本专利技术的第一实施例的流体压力缸。如图1所示，流体压力缸包括具有矩形形状截面的缸筒12，附接于缸筒12的一端的盖罩(盖构件)14，附接于缸筒12的另一端的杆盖(盖构件)16，以可位移方式设置在缸筒12内部的活塞单元(活塞)18，和联接至活塞单元18的活塞杆20。缸筒12是例如由金属材料组成的筒状体，并且以不变的截面积在轴向方向(由箭头A和B标明)延伸。缸室22形成在缸筒12中。活塞单元18位于缸室22中。进一步地，如图2所示，传感器附接轨道24设置在缸筒12外部。传感器附接轨道24用于附加检测传感器(未示出)。传感器附接轨道24具有向远离缸筒12的方向开口的大致U型形状。传感器附接轨道24在缸筒12轴向方向上(箭头A和B标明的)具有预定长度。传感器附接轨道24附接到邻近具有矩形形状截面的缸筒12的角部的位置。进一步地，检测传感器(未示出)固定地附接于传感器附接轨道24，用于在轴向方向上检测活塞单元18的位置。如图1所示，例如，盖罩14由金属材料制成，具有基本上矩形形状的截面。具有预定深度的连接孔26形成在盖罩14中心。连接孔26在(箭头A标明的方向上)面向缸筒12。第一阻尼器28通过形成在盖罩14的一端的凹槽环绕着连接孔26的外周侧而附接到盖罩14。例如，第一阻尼器28由弹性材料组成，并且具有环形形状。第一阻尼器28的一端从盖罩14的端部朝向缸筒12(在箭头A标明方向)略微突出。第一流体端口30形成在盖罩14的侧表面。加压流体通过第一流体端口30供给/输出。第一流体端口30连接至连接孔26。因此，在加压流体从加压流体供应源(未示出)提供至第一流体端口后，加压流体流入连接孔26。进一步地，在盖罩14的一侧表面上、在与第一流体端口30相比更接近于缸筒12(在箭头A标明方向)的一端，沿着外周表面设置向内下凹的环形的第一接合凹槽32。然后，缸筒12的一端被向内(朝向盖罩14)按压，并且变形为填隙或者嵌塞部分12a以与第一接合凹槽32接合。因此，缸筒12的一端和盖罩14通过嵌塞部分12a联接在一起。进一步地，设置在盖罩14的侧表面上的密封构件34a接触缸筒12内表面。因此，防止加压流体通过盖罩14和缸筒12之间的间隔被泄漏。在这方面，例如，如图3所示，缸筒12的嵌塞部分12a从缸筒12的轴向方向(箭头A和B标明)以45°至90°范围内的倾斜角θ向内弯曲。垂直于缸筒12轴线的嵌塞部分12a的开口尺寸D被确定比缸筒12的外部尺寸D'小3％至10％。换言之，开口尺寸以如下方式判定，嵌塞部分12a朝向缸筒12的深度到达开口尺寸D变为比缸筒12的外部尺寸D'小3％至10％的位置。进一步地，嵌塞部分12a通过滚动嵌塞形成为覆盖盖罩14的整个外圆周(见图4A)。嵌塞部分12a并不是必须形成为覆盖缸筒12的整个圆周的环形形状。例如，在图4B中所示的嵌塞部分12a'的情形下，嵌塞部分12a在截面中可以具有基本上直线形状，并且相对盖罩14的第一接合凹槽32a以嵌塞部分12a仅仅与具有矩形形状截面的缸筒12的四边接合的方式被嵌塞。在盖罩14、杆盖16由金属材料制成，并且具有基本矩形形状截面的情况下。杆孔36在轴向方向(由箭头A和B标明)穿过杆盖16的中心。杆衬垫38和衬套40通过相应的环形槽设置在杆孔36的内周表面。当活塞杆20被插入杆孔36，杆衬垫38在活塞杆20的外周表面上滑动。因此，防止加压流体通过杆盖16和活塞杆20之间的间隔被泄漏。衬套40以活塞杆20在轴向方向上(通本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种流体压力缸(10，100，150)，其特征在于，包括：筒状的缸筒(12)，所述缸筒(12)包括内部缸室(22)；一对盖构件(14，16，102，152)，所述一对盖构件被附接于所述缸筒(12)的两端；活塞(18)，所述活塞(18)以可移位的方式沿着所述缸室(22)被设置；和活塞杆(20)，所述活塞杆(20)被联接至所述活塞(18)，其中所述活塞(18)和所述缸筒(12)中的每一个都形成为具有矩形形状的截面；所述活塞(18)包括耐磨环(52)，所述耐磨环(52)被构造成在所述缸筒(12)的内壁表面上滑动；并且磁体(70)被设置在所述耐磨环(52)中。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.10.02 JP 2014-2037401.一种流体压力缸(10，100，150)，其特征在于，包括：筒状的缸筒(12)，所述缸筒(12)包括内部缸室(22)；一对盖构件(14，16，102，152)，所述一对盖构件被附接于所述缸筒(12)的两端；活塞(18)，所述活塞(18)以可移位的方式沿着所述缸室(22)被设置；和活塞杆(20)，所述活塞杆(20)被联接至所述活塞(18)，其中所述活塞(18)和所述缸筒(12)中的每一个都形成为具有矩形形状的截面；所述活塞(18)包括耐磨环(52)，所述耐磨环(52)被构造成在所述缸筒(12)的内壁表面上滑动；并且磁体(70)被设置在所述耐磨环(52)中。2.如权利要求1所述的流体压力缸，其特征在于，所述磁体(70)被设置在所述耐磨环(52)的角部，所述耐磨环(52)具有矩形形状的截面。3.如权利要求1所述的流体压力缸，其特征在于，所述活塞(18)设置有具有矩形形状截面的片状物形式的活塞衬垫(54，92)，并且所述活塞衬垫(54，92)被设置为邻近于所述耐磨环(52)。4.如权利要求3所述的流体压力缸，其特征在于，滑润剂保持单元(76)被设置在所述活塞衬垫(54，92)的外部边缘部分，并且所述滑润剂保持单元(76)处于在所述活塞衬垫(54，92)的厚度方向下凹的凹槽的形式。5.如权利要求4所述的流体压力缸，其特征在于，所述滑润剂保持单元(76)具有沿着所述外部边缘部分形成的环形形状。6.如权利要求1所述的流体压力缸，其特征在于，传感器附接轨道(24)被设置在邻近于所述缸筒...

【专利技术属性】
技术研发人员：工藤政行，铃木康永，根本慎一郎，山田淳，宫里英考，水谷雄，田村健，川上雅彦，
申请(专利权)人：SMC株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP