【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】接触并且引导介质的介质碰撞预防表面
技术介绍
打印系统包括打印头和介质控制构件。打印头在沿着打印空间中的介质路径放置的介质上提供打印流体。介质控制构件沿着介质路径引导介质。附图说明在以下描述中描述了非限制性示例、参考附于其的图来阅读非限制性示例,并且非限制性示例不限制权利要求的范围。主要为了方便和展示的清晰起见来选择在图中所图示的组件和特征的尺度,并且组件和特征的尺度不一定是按比例的。参考附图:图1是根据示例图示介质碰撞预防装置的框图。图2是根据示例图示介质碰撞预防装置的透视图。图3A和3B是根据示例图示出介质控制构件和联接到打印头的图2的介质碰撞预防装置的侧视图。图4是根据示例图示图3A的介质控制构件和联接到打印头的介质碰撞预防装置的底视图。图5是根据示例图示打印头的框图。图6A和6B是根据示例图示分别在打印位置和维护位置时的排障器和图5的打印头的侧视图。图7是根据示例图示排障器和图6A的打印头的底视图。图8是根据示例的减少介质碰撞的方法。具体实施方式诸如页面宽度阵列打印机的打印系统包括介质控制构件和打印头。打印头可以是打印杆、打印头组件、以及喷墨打印头等。介质控制构 ...
【技术保护点】
一种能与打印头一起使用的介质碰撞预防装置,所述介质碰撞预防装置包括:间插构件,所述间插构件联接到具有围绕所述打印头的喷嘴表面的遮板并且在打印位置和维护位置之间可移动的所述打印头,所述间插构件包括遮板符合表面、介质控制符合表面、以及介质碰撞预防表面;所述遮板符合表面被定位为接近所述遮板并且面对所述遮板;所述介质控制符合表面被定位为:在所述打印位置时接近介质控制构件并且面对所述介质控制构件,并且在所述维护位置时远离所述介质控制构件;并且在所述打印位置时,所述介质碰撞预防表面周期性地接触所述介质并且将所述介质引导到所述介质控制构件。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种能与打印头一起使用的介质碰撞预防装置,所述介质碰撞预防装置包括:间插构件,所述间插构件联接到具有围绕所述打印头的喷嘴表面的遮板并且在打印位置和维护位置之间可移动的所述打印头,所述间插构件包括遮板符合表面、介质控制符合表面、以及介质碰撞预防表面;所述遮板符合表面被定位为接近所述遮板并且面对所述遮板;所述介质控制符合表面被定位为:在所述打印位置时接近介质控制构件并且面对所述介质控制构件,并且在所述维护位置时远离所述介质控制构件;并且在所述打印位置时,所述介质碰撞预防表面周期性地接触所述介质并且将所述介质引导到所述介质控制构件。2.根据权利要求1所述的介质碰撞预防装置,其中,所述间插构件位于介质输送方向上所述遮板的下游。3.根据权利要求1所述的介质碰撞预防装置,其中,所述遮板符合表面的形状与位于所述遮板符合表面对面的所述遮板的表面的形状相符合,并且所述介质控制符合表面的形状与位于所述介质控制符合表面对面的所述介质控制构件的表面的形状相符合。4.根据权利要求3所述的介质碰撞预防装置,其中,所述遮板符合表面的形状是弯曲的。5.根据权利要求3所述的介质碰撞预防装置,其中,所述介质控制符合表面的形状包括用于接收所述介质控制构件的表面的多个突起、并且与所述介质控制构件的表面的多个突起相对应的多个凹进。6.根据权利要求1所述的介质碰撞预防装置,其中,所述介质碰撞预防表面基本上是平面的并且与所述喷嘴表面基本平行。7.根据权利要求1所述的介质碰撞预防装置,其中,所述介质碰撞预防表面被布置为与所述喷嘴表面对准,并且与所述喷嘴表面基本处于同一平面中。8.一种在打印位置和维护位置之间可移动并且能与排障器一起使用的打印头,所述打印头包括:外壳,所述外壳包括喷嘴表面和围绕所述喷嘴表面的扩展遮板;所述扩展遮板包括介质控制符合表面和介质碰撞预防表面;所述介质控制符合表面与所述排障器的表面相符合,以在所述打印位置时将所述扩展遮板定位为:靠近所述排障器并且与所述排障器相对,并且在所述维护位置时远离所述排障器;并且所述介质碰撞预防表面包括平面区域,以周期性地接触介质并且将所述介质引导到所述排障器,所述介质碰撞预防表面被设置为:在所述打...
【专利技术属性】
技术研发人员:大卫·奥尔申,托马斯·W·鲁,罗伯特·赖斯,阿兰·芝多,托德·M·格施,雷蒙德·C·谢尔曼,罗伯特·拉切布鲁,亨特·D·坎特雷尔,
申请(专利权)人:惠普发展公司有限责任合伙企业,
类型:发明
国别省市:美国,US
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