定影构件、定影设备、图像形成设备以及定影构件的制造方法技术

技术编号:16037145 阅读:22 留言:0更新日期:2017-08-19 18:09
本发明专利技术涉及定影构件、定影设备、图像形成设备以及定影构件的制造方法。提供一种包括具有高的耐磨耗性的表面层的定影构件。所述定影构件包括含有聚四氟乙烯(PTFE)和与PTFE相比熔点较低的氟树脂的表面层233。在通过将所述表面层233的样品用差示扫描热量计(DSC)以20℃/分钟的升温速度加热得到的DSC(吸热)曲线中,具有在330℃以上且340℃以下的温度范围内具有峰顶的吸热峰1和在与所述吸热峰1相比较低的温度范围内具有峰顶的吸热峰2,并且基于所述吸热峰1的熔解热量与基于所述吸热峰2的熔解热量的总和ΔH为40J/g以上且55J/g以下。

【技术实现步骤摘要】
定影构件、定影设备、图像形成设备以及定影构件的制造方法
本专利技术涉及包括在用于电子照相图像形成设备的定影设备中的定影构件,以及图像形成设备。
技术介绍
如打印机、复印机和传真机等的电子照相图像形成设备(下文简称为“图像形成设备”)包括设置有膜或辊形式的定影构件的定影设备。已知这些定影构件的一些具有以下构造:包括由耐热性树脂或金属制成的膜或辊形式的基材、形成在基材上的含有耐热性橡胶的弹性层、以及含有具有高的对调色剂的脱模性的氟树脂且形成在弹性层上的表面层(下文在某些情况下称为“氟树脂层”)。日本专利申请特开第H10-142990号公报、第2009-15137号公报和第2011-175218号公报公开了其上设置有表面层的定影构件,所述表面层是通过将聚四氟乙烯(PTFE)和如四氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物(PFA)和四氟乙烯-六氟丙烯共聚物(FEP)等具有与PTFE相比较高的脱模性的其它的氟树脂(differentfluorineresin)的分散液的涂膜的烧制(firing)形成的氟树脂层。随着图像形成设备的打印速度提高,已经需要含有氟树脂的表面层的耐久性进一步改进。认为的是,增加包本文档来自技高网...
定影构件、定影设备、图像形成设备以及定影构件的制造方法

【技术保护点】
一种定影构件,其特征在于,包括含有聚四氟乙烯PTFE和与PTFE相比熔点较低的氟树脂的表面层,其中在通过将所述表面层的样品用差示扫描热量计DSC以20℃/分钟的升温速度加热得到的DSC吸热曲线中,具有在330℃以上且340℃以下的温度范围内具有峰顶的吸热峰1和在与所述吸热峰1相比较低的温度范围内具有峰顶的吸热峰2,并且基于所述吸热峰1的熔解热量与基于所述吸热峰2的熔解热量的总和ΔH为40J/g以上且55J/g以下。

【技术特征摘要】
2015.10.06 JP 2015-1988681.一种定影构件,其特征在于,包括含有聚四氟乙烯PTFE和与PTFE相比熔点较低的氟树脂的表面层,其中在通过将所述表面层的样品用差示扫描热量计DSC以20℃/分钟的升温速度加热得到的DSC吸热曲线中,具有在330℃以上且340℃以下的温度范围内具有峰顶的吸热峰1和在与所述吸热峰1相比较低的温度范围内具有峰顶的吸热峰2,并且基于所述吸热峰1的熔解热量与基于所述吸热峰2的熔解热量的总和ΔH为40J/g以上且55J/g以下。2.根据权利要求1所述的定影构件,其中所述吸热峰1源自所述PTFE。3.根据权利要求1所述的定影构件,其中所述总和ΔH为43J/g以上且55J/g以下。4.根据权利要求1至3任一项所述的定影构件,其中与PTFE相比熔点较低的树脂是四氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物PFA。5.根据权利要求4所述的定影构件,其中所述吸热峰2的峰顶温度是300℃以上且315℃以下。6.根据权利要求1所述的定影构件,其中所述定影构件依次包括基材、弹性层和所述表面层。7.根据权利要求6所述的定影构件,其中所述基材为环形带形式,并且所述弹性层...

【专利技术属性】
技术研发人员:前田松崇
申请(专利权)人:佳能株式会社
类型:发明
国别省市:日本,JP

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1