一种流体机构制造技术

技术编号:16032877 阅读:40 留言:0更新日期:2017-08-19 14:01
本发明专利技术公开了一种流体机构,包括配流盘,所述配流盘的流体入口所对应的圆心角与所述配流盘的流体出口所对应的圆心角不等,所述配流盘配置的流体设为气体或设为气液两相混合物。本发明专利技术所公开的流体机构传动效率高,能够方便地调整传动方向。

【技术实现步骤摘要】
一种流体机构
本专利技术涉及动力与传动领域,尤其涉及流体机构。
技术介绍
流体机构,例如,斜盘式流体机构、斜轴式流体机构的工质都是液体,由于液体粘度大,所以这类机构的传动效率都很低,不仅如此,如果需要调整旋转方向,要么需要大幅度摆角,要么需要改变外接管,这些都比较复杂。因此,需要专利技术一种新型流体机构。
技术实现思路
为了解决上述问题,本专利技术提出的技术方案如下:本专利技术的流体机构,包括配流盘,所述配流盘的流体入口所对应的圆心角与所述配流盘的流体出口所对应的圆心角不等,所述配流盘配置的流体设为气体或设为气液两相混合物。本专利技术的流体机构,包括配流盘,所述配流盘的流体入口所对应的圆心角大于所述配流盘的流体出口所对应的圆心角,所述配流盘配置的流体设为气体或设为气液两相混合物。本专利技术的流体机构,包括配流盘,所述配流盘的流体出口所对应的圆心角与所述配流盘的流体入口所对应的圆心角的比值设为小于0.9、0.8、0.7、0.6、0.5、0.4、0.3、0.2或小于0.1,所述配流盘配置的流体设为气体或设为气液两相混合物。本专利技术的流体机构,包括配流盘,所述配流盘可转动设置。本专利技术的流体机构,包括配流盘,所述配流盘可转动设置,使所述配流盘按照缸体旋转方向转动,使所述缸体反转。本专利技术的流体机构,包括配流盘,所述配流盘可转动设置,所述配流盘配置的流体设为气体或设为气液两相混合物。本专利技术的流体机构,包括配流盘,所述配流盘可转动设置,使所述配流盘按照缸体旋转方向转动,使所述缸体反转,所述配流盘配置的流体设为气体或设为气液两相混合物。本专利技术的流体机构,包括配流盘,所述配流盘的流体入口所对应的圆心角与所述配流盘的流体出口所对应的圆心角不等,所述配流盘可转动设置。本专利技术的流体机构,包括配流盘,所述配流盘的流体入口所对应的圆心角与所述配流盘的流体出口所对应的圆心角不等,所述配流盘可转动设置,使所述配流盘按照缸体旋转方向转动,使所述缸体反转。本专利技术的流体机构,包括配流盘,所述配流盘的流体入口所对应的圆心角与所述配流盘的流体出口所对应的圆心角不等,所述配流盘可转动设置,所述配流盘配置的流体设为气体或设为气液两相混合物。本专利技术的流体机构,包括配流盘,所述配流盘的流体入口所对应的圆心角与所述配流盘的流体出口所对应的圆心角不等,所述配流盘可转动设置,使所述配流盘按照缸体旋转方向转动,使所述缸体反转,所述配流盘配置的流体设为气体或设为气液两相混合物。本专利技术的流体机构,包括配流盘,所述配流盘分别与气缸体和配流盘配合体配合设置,所述配流盘上的流体入口所对应的圆心角与流体出口所对应的圆心角不等,所述配流盘配合体上至少设置流体流通口A、流体流通口B、流体流通口C三个流体流通口。本专利技术的流体机构,包括配流盘,所述配流盘分别与气缸体和配流盘配合体配合设置,所述配流盘上的流体入口所对应的圆心角与流体出口所对应的圆心角不等,所述配流盘配合体上至少设置流体流通口A、流体流通口B、流体流通口C三个流体流通口,所述配流盘调整转角,所述气缸体调整旋转方向。本专利技术的流体机构,包括配流盘,所述配流盘分别与气缸体和配流盘配合体配合设置,所述配流盘上的流体入口所对应的圆心角与流体出口所对应的圆心角不等,所述配流盘配合体上至少设置流体流通口A、流体流通口B、流体流通口C三个流体流通口;所述配流盘上的流体入口与所述流体流通口A连通,所述配流盘上的流体出口与所述流体流通口B连通,所述气缸体正转,所述配流盘转动,所述配流盘上的流体出口与所述流体流通口A连通,所述配流盘上的流体入口与所述流体流通口C连通,所述配流盘上的流体出口和流体入口的流体流动方向换向,所述气缸体反转。本专利技术的流体机构,包括配流盘,所述配流盘分别与气缸体和配流盘配合体配合设置,所述配流盘上的流体入口所对应的圆心角与流体出口所对应的圆心角不等,所述配流盘配合体上至少设置流体流通口A、流体流通口B、流体流通口C三个流体流通口,所述配流盘配置的流体设为气体或设为气液两相混合物。本专利技术的流体机构,包括配流盘,所述配流盘分别与气缸体和配流盘配合体配合设置,所述配流盘上的流体入口所对应的圆心角与流体出口所对应的圆心角不等,所述配流盘配合体上至少设置流体流通口A、流体流通口B、流体流通口C三个流体流通口,所述配流盘调整转角,所述气缸体调整旋转方向,所述配流盘配置的流体设为气体或设为气液两相混合物。本专利技术的流体机构,包括配流盘,所述配流盘分别与气缸体和配流盘配合体配合设置,所述配流盘上的流体入口所对应的圆心角与流体出口所对应的圆心角不等,所述配流盘配合体上至少设置流体流通口A、流体流通口B、流体流通口C三个流体流通口;所述配流盘上的流体入口与所述流体流通口A连通,所述配流盘上的流体出口与所述流体流通口B连通,所述气缸体正转,所述配流盘转动,所述配流盘上的流体出口与所述流体流通口A连通,所述配流盘上的流体入口与所述流体流通口C连通,所述配流盘上的流体出口和流体入口的流体流动方向换向,所述气缸体反转,所述配流盘配置的流体设为气体或设为气液两相混合物。进一步选择性地,所述流体机构的回路内的底压设为大于等于0.1MPa、0.2MPa、0.3MPa、0.4MPa、0.5MPa、0.6MPa、0.7MPa、0.8MPa、0.9MPa、1.0MPa、1.5MPa、2.0MPa、2.5MPa、3.0MPa、3.5MPa、4.0MPa、4.5MPa、5.0MPa、5.5MPa、6.0MPa、6.5MPa、7.0MPa、7.5MPa、8.0MPa、8.5MPa、9.0MPa、9.5MPa或大于等于10.0MPa。进一步选择性地,所述流体机构的回路内的工质的绝热指数小于等于1.60、1.58、1.56、1.54、1.52、1.50、1.48、1.46、1.44、1.42、1.4、1.38、1.36、1.34、1.32、1.30、1.28、1.26、1.24、1.22、1.20、1.18、1.16、1.14、1.12、1.10、1.08、1.06、1.04或小于等于1.02。本专利技术中,“正转”、“反转”的所谓“正”、“反”仅是为了区分不同的旋转方向。本专利技术中涉及到的压力,例如所述底压,均为表压压强。本专利技术中,在某一部件名称后加所谓的“A”、“B”等字母仅是为了区分两个或几个名称相同的部件。本专利技术中,应根据动力和传动领域的公知技术,在必要的地方设置必要的部件、单元或系统等。本专利技术的有益效果如下:本专利技术所公开的流体机构传动效率高,能够方便地调整传动方向。具体实施方式本专利技术公开了一种流体机构,包括配流盘,使所述配流盘的流体入口所对应的圆心角与所述配流盘的流体出口所对应的圆心角不等,且使所述配流盘配置的流体设为气体或设为气液两相混合物。本专利技术所述流体机构可选择性地选择设为任何具有配流盘的流体机构。下面结合具体实施例对本专利技术的所述流体机构做进一步说明:实施例1一种流体机构,包括配流盘,所述配流盘的流体入口所对应的圆心角大于所述配流盘的流体出口所对应的圆心角,所述配流盘配置的流体设为气体或设为气液两相混合物。作为可变换的实施方式,本专利技术实施例1还可进一步选择性地选择使所述配流盘的流体出口所对应的圆心角的大小与所述配流盘的流体入口所对应的圆心角的大小的比值设为小于0.9、0本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种流体机构,包括配流盘,其特征在于:所述配流盘的流体入口所对应的圆心角与所述配流盘的流体出口所对应的圆心角不等,所述配流盘配置的流体设为气体或设为气液两相混合物。

【技术特征摘要】
2015.12.14 CN 20151092730701.一种流体机构,包括配流盘,其特征在于:所述配流盘的流体入口所对应的圆心角与所述配流盘的流体出口所对应的圆心角不等,所述配流盘配置的流体设为气体或设为气液两相混合物。2.一种流体机构,包括配流盘,其特征在于:所述配流盘的流体入口所对应的圆心角大于所述配流盘的流体出口所对应的圆心角,所述配流盘配置的流体设为气体或设为气液两相混合物。3.一种流体机构,包括配流盘,其特征在于:所述配流盘的流体出口所对应的圆心角与所述配流盘的流体入口所对应的圆心角的比值设为小于0.9、0.8、0.7、0.6、0.5、0.4、0.3、0.2或小于0.1,所述配流盘配置的流体设为气体或设为气液两相混合物。4.一种流体机构,包括配流盘,其特征在于:所述配流盘可转动设置。5.一种流体机构,包括配流盘,其特征在于:所述配流盘可转动设置,使所述配流盘按...

【专利技术属性】
技术研发人员:靳北彪
申请(专利权)人:熵零技术逻辑工程院集团股份有限公司
类型:发明
国别省市:北京,11

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