一种抗磁抗蓝光保护膜及其制备方法技术

本发明专利技术提供的抗磁抗蓝光保护膜，包括：第一剥离层；复合在所述第一剥离层上的抗磁功能层；所述抗磁功能层由有机硅树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂和环氧树脂中的一种或几种与改性本征型导电高分子树脂、金属纤维、助剂和溶剂制备得到；复合在所述抗磁功能层上的基材层；复合在所述基材层上的抗蓝光功能层；所述抗蓝光功能层由胶黏剂和抗蓝光助剂制备得到；复合在所述抗蓝光功能层上的第二剥离层。本发明专利技术由胶黏剂和抗蓝光助剂得到的抗蓝光功能层具有良好的抗蓝光功能；有机硅树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂和环氧树脂中的一种或几种与改性本征型导电高分子树脂、金属纤维、助剂和溶剂发生协同作用，得到的抗磁功能层具有良好的抗磁功能。

【技术实现步骤摘要】
一种抗磁抗蓝光保护膜及其制备方法
本申请涉及触摸屏(TP)保护
，尤其涉及一种抗磁抗蓝光保护膜及其制备方法。
技术介绍
随着电子科技的飞速发展，越来越多的人使用着电脑、手机、数码相机等电子产品，人们的日常生活更是越来越离不开电子产品，随之而来的视力问题也日益凸显。有新研究表明，蓝光会通过提高视觉细胞对光的敏感度和光氧化反应导致细胞死亡，损害视力。同时，电子产品更高的性能和更快的速度产生的高频化噪声和高频电磁波。而电磁屏蔽材料能够防止高频电磁波干扰，能够抑制噪声源和敏感设备距离较远时通过磁场耦合产生的干扰，因此，兼具抗蓝光抗磁屏蔽膜材料开发显得尤为重要。
技术实现思路
有鉴于此，本申请提供一种抗磁抗蓝光保护膜及其制备方法，本申请提供的抗磁抗蓝光保护膜具有良好的抗磁和抗蓝光的特性同时防冲击效果好。本专利技术提供了一种抗磁抗蓝光保护膜，包括：第一剥离层；复合在所述第一剥离层上的抗磁功能层；所述抗磁功能层由有机硅树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂和环氧树脂中的一种或几种与改性本征型导电高分子树脂、金属纤维、助剂和溶剂制备得到；复合在所述抗磁功能层上的基材层；复合在所述基材层上的抗蓝光功能层；所述本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种抗磁抗蓝光保护膜，其特征在于，包括：第一剥离层；复合在所述第一剥离层上的抗磁功能层；所述抗磁功能层由有机硅树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂和环氧树脂中的一种或几种与改性本征型导电高分子树脂、金属纤维、助剂和溶剂制备得到；复合在所述抗磁功能层上的基材层；复合在所述基材层上的抗蓝光功能层；所述抗蓝光功能层由胶黏剂和抗蓝光助剂制备得到；复合在所述抗蓝光功能层上的第二剥离层。

【技术特征摘要】
1.一种抗磁抗蓝光保护膜，其特征在于，包括：第一剥离层；复合在所述第一剥离层上的抗磁功能层；所述抗磁功能层由有机硅树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂和环氧树脂中的一种或几种与改性本征型导电高分子树脂、金属纤维、助剂和溶剂制备得到；复合在所述抗磁功能层上的基材层；复合在所述基材层上的抗蓝光功能层；所述抗蓝光功能层由胶黏剂和抗蓝光助剂制备得到；复合在所述抗蓝光功能层上的第二剥离层。2.根据权利要求1所述的抗磁抗蓝光保护膜，其特征在于，所述抗磁功能层由如下组分制备得到：3.根据权利要求1或2所述的抗磁抗蓝光保护膜，其特征在于，所述改性本征型导电高分子树脂选自改性聚苯胺、改性聚吡咯和改性聚噻吩中的一种或几种。4.根据权利要求1或2所述的抗磁抗蓝光保护膜，其特征在于，所述金属纤维选自铁、铜和银中的一种或几种；所述金属纤维的粒径为200nm～2μm。5.根据权利要求1所述的抗磁抗蓝光保护膜，其特征在于，所述基材层为热塑性聚氨酯弹性基材；所述基材层的透光率为90％以上。6.根据权利要求1所述的抗磁抗蓝光保护膜，其特征在于，所述抗磁功能层、基材层和抗蓝光功能层的厚度比为(5～50μm)：(25～100μm)...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱文峰，
申请(专利权)人：东莞市纳利光学材料有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44