A method for transmitting portable gas field type disinfection device in disinfection place comprises: a housing; a pressurized gas tank is held by the housing; the first channel, the first channel in fluid communication with a pressurized gas tank and configured to pressurize the tank before disinfection gas from the pressurized gas supplied to the gas by the housing sites; keep the drain tank; and the second path, the second channel and the gas discharged from the tank and configured to be in fluid communication after disinfection gas from the exhaust gas tank to supply places. Additional associated devices, systems, and methods are provided.
【技术实现步骤摘要】
用于局部消毒的装置、系统及方法本申请是申请日为2012年9月24日、国家申请号为201210359392.1、专利技术名称为“用于局部消毒的装置、系统及方法”的申请的分案申请。相关申请本申请要求2011年9月22日提交的美国临时专利申请第61/538,124号、2011年11月30日提交的美国临时专利申请第61/564,898号、以及2012年5月23日提交的美国临时专利申请第61/650,625号的优先权,所有申请的公开的全部内容通过引用合并于此。
本申请涉及用于对现场使用式连接点处或附近的部件进行消毒的装置、系统和方法,特别涉及生物加工和生物制造应用。
技术介绍
现今市场对新药的需求连同低迷的经济形势使得生物加工人员重新审视他们的制造系统并且寻求使得制造系统更加灵活、可靠且节省成本的方法。逐渐地,生物制造人员转向一次性无菌加工系统以在控制成本的同时满足或应对紧迫的产品引入时间表。在医药流体药品加工和制造工业中,需要直接流体产品传送路径中的防腐无菌条件以使细菌污染最小化——细菌污染导致在生产的各个阶段处的产品成批污染。在制造单一药品的成本接近十亿美元并且市场投放时间为8年至12年的情况下,生物加工制造者需要使其加工过程中的所有生物负荷污染风险点最小化。通过在各个加工过程连接处引入具有可选的消毒剂水平校验的局部的无阻碍的消毒加工过程,可以解决生物加工制造者的污染风险。已知使用局部蒸汽消毒,而蒸汽消毒被FDA批准。然而,使用蒸汽受到几个缺点的影响。首先,蒸汽生产需要续生成本。此外,关于由地面人员操作蒸汽,存在有热安全问题。另外,需要考虑在消毒后对蒸汽冷凝物进 ...
【技术保护点】
一种气体分散装置,包括:壳体,所述壳体限定沿着轴线的流体流动路径,所述流体流动路径具有相对的第一端部和第二端部,所述第一端部和所述第二端部中的每个端部均构造成操作性地与至少一个流动部件连接;保持在所述壳体中的气体流动构件,所述气体流动构件具有上部部分和下部部分,所述气体流动构件包括供给气体通路,所述供给气体通路从所述上部部分处的气体供给端口延伸至底部部分处的第一气体分散开口和第二气体分散开口,所述气体流动构件还包括第一返回气体通路和第二返回气体通路,每个返回气体通路均从所述底部部分处的返回气体开口延伸至所述上部部分处的返回排出端口;其中,所述气体流动构件能够定位在消毒位置处,而所述气体流动构件下部部分设置在所述流体流动路径中,所述气体分散开口构造成分散从所述气体供给端口接收的加压的消毒前气体,以对与所述流体流动路径的所述第一端部和所述第二端部操作性地连接的流动部件进行消毒,并且,所述返回气体排出端口构造成排出从所述返回气体开口接收的消毒后气体。
【技术特征摘要】
2011.09.22 US 61/538,124;2011.11.30 US 61/564,898;1.一种气体分散装置,包括:壳体,所述壳体限定沿着轴线的流体流动路径,所述流体流动路径具有相对的第一端部和第二端部,所述第一端部和所述第二端部中的每个端部均构造成操作性地与至少一个流动部件连接;保持在所述壳体中的气体流动构件,所述气体流动构件具有上部部分和下部部分,所述气体流动构件包括供给气体通路,所述供给气体通路从所述上部部分处的气体供给端口延伸至底部部分处的第一气体分散开口和第二气体分散开口,所述气体流动构件还包括第一返回气体通路和第二返回气体通路,每个返回气体通路均从所述底部部分处的返回气体开口延伸至所述上部部分处的返回排出端口;其中,所述气体流动构件能够定位在消毒位置处,而所述气体流动构件下部部分设置在所述流体流动路径中,所述气体分散开口构造成分散从所述气体供给端口接收的加压的消毒前气体,以对与所述流体流动路径的所述第一端部和所述第二端部操作性地连接的流动部件进行消毒,并且,所述返回气体排出端口构造成排出从所述返回气体开口接收的消毒后气体。2.根据权利要求1所述的气体分散装置,其中,所述流体流动路径包括腔室以及远离所述腔室延伸的一对导管,每个导管均包括位于其远端部的凸缘,所述凸缘限定所述流体流动路径的所述第一端部和所述第二端部。3.根据权利要求1所述的气体分散装置,还包括至少一个流动部件,所述流动部件与所述流体流动路径的所述第一端部和所述第二端部中的每个端部操作性地连接,其中,所述至少一个流动部件是连接器、配件、流动通路、传感器以及发射器中的至少一个。4.根据权利要求3所述的气体分散装置,其中,在所述消毒位置处,所述分散开口构造成使得从所述气体供给端口接收的气体分散在所述流部件周围和/或通过所述流部件以实现流部件的10-6的无菌保证水平(SAL)。5.根据权利要求1所述的气体分散装置,其中,在所述消毒位置处,所述第一气体分散开口和所述第二气体分散开口与所述轴线大体上对准。6.根据权利要求1所述的气体分散装置,其中,所述气体流动构件能够在所述消毒位置与产品流动位置之间移动,在所述产品流动位置处,所述气体流动构件的所述下部部分从所述流体流动路径退出。7.根据权利要求6所述的气体分散装置,其中,在所述产品流动位置处,所述流体流动路径构造成接收流动通过所述流体流动路径的生物加工流体,并且,所述气体流动构件的所述下部部分包括构造成密封所述流体流动路径的密封件。8.根据权利要求6所述的气体分散装置,还包括用以将所述装置锁定在所述产品流动位置处的锁定机构。9.根据权利要求6所述的气体分散装置,还包括被保持在所述壳体中的剪切栓以及所述壳体上的至少一个剪切切割器接近端口,其中,所述至少一个剪切切割器接近端口构造成接收贯穿其中的剪切切割器以切割所述剪切栓,并且,当所述剪切栓被切割时,所述气体流动构件从所述消毒位置移动至所述产品流动位置。10.根据权利要求1所述的气体分散装置,其中,所述装置是一次性使用的。11.一种用于对过程连接件或接合件进行消毒的系统,包括:(a)定位在所述过程连接件或接合件处的气体分散装置,所述气体分散装置包括:限定流体流动路径的壳体;以及保持在所述壳体中的气体流动构件,所述气体流动构件具有设置在流体流动路径中的上部部分和下部部分,所述气体流动构件包括从所述上部部分处的气体供给端口延伸至所述下部部分处的至少一个气体分散开口的供给气体通路,所述气体流动构件还包括从所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:哈尔姆·施特拉特曼,海因茨·迪姆勒,雷·M·弗雷,
申请(专利权)人:比尔克特孔特罗马蒂克公司,比尔克特韦尔克有限公司,
类型:发明
国别省市:美国,US
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