基板处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供能够抑制污渍的产生的基板处理装置。实施方式的基板处理装置具备：处理室(10)，具有作为顶棚起作用的顶棚罩(11)；以及槽(12)，设置在该处理室(10)内，承接从顶棚罩(11)落下的液滴。顶棚罩(11)形成为具有山部和谷部的形状，顶棚罩(11)的谷部沿着一个方向延伸，槽(12)被设置为沿着谷部的延伸方向延伸。

【技术实现步骤摘要】
基板处理装置
本专利技术的实施方式涉及一种基板处理装置。
技术介绍
在液晶显示装置等的制造工序中，使用基板处理装置。该基板处理装置为，在处理室内向基板供给处理液(例如，药液、清洗液等)，对基板的被处理面进行处理。在基板处理装置的处理室的顶棚上有时会附着处理液的液滴。当附着于该顶棚的液滴从顶棚落下而附着于基板时，在基板干燥后，在基板上会形成污渍。并且，由于附着于顶棚的液滴含有附着于顶棚的垃圾等，因此容易产生上述污渍。成为该污渍的部位，在基板被制品化为液晶显示装置时会残留于液晶画面，该液晶显示装置成为不合格品。因此，为了避免上述污渍的产生，而采用如下方法：使顶棚倾斜，使附着于顶棚的液滴不向基板侧落下，而向处理室的端部回收。然而，即便使顶棚倾斜，基板变得越大，则顶棚的大小越变得越大。因此，附着于顶棚的液滴，在沿着顶棚到达处理室的端部之前，容易与其他液滴汇合，并通过重力(自重)而向基板侧落下。由此，即使简单地使顶棚倾斜，液滴有时也会在到达处理室的端部之前落下并附着于基板，因此会产生污渍。
技术实现思路
本专利技术要解决的课题在于，提供能够抑制污渍的产生的基板处理装置。本专利技术的实施方式的基板处本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板处理装置，其特征在于，具备：处理室，具有顶棚；以及槽，设置于上述处理室内，承接从上述顶棚落下的液滴，上述顶棚形成为具有山部和谷部的形状，上述顶棚的谷部沿着一个方向延伸，上述槽被设置为，沿着上述谷部的延伸方向延伸。

【技术特征摘要】
2016.01.29 JP 2016-016604;2016.12.14 JP 2016-242691.一种基板处理装置，其特征在于，具备：处理室，具有顶棚；以及槽，设置于上述处理室内，承接从上述顶棚落下的液滴，上述顶棚形成为具有山部和谷部的形状，上述顶棚的谷部沿着一个方向延伸，上述槽被设置为，沿着上述谷部的延伸方向延伸。2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，上述槽由多个槽构成，上述多个槽被设置为，层叠为瓦状而...

【专利技术属性】
技术研发人员：坂下健司，矶明典，
申请(专利权)人：芝浦机械电子株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP