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本发明提供能够抑制污渍的产生的基板处理装置。实施方式的基板处理装置具备：处理室(10)，具有作为顶棚起作用的顶棚罩(11)；以及槽(12)，设置在该处理室(10)内，承接从顶棚罩(11)落下的液滴。顶棚罩(11)形成为具有山部和谷部的形状，...
该专利属于芝浦机械电子株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过芝浦机械电子株式会社授权不得商用。

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