【技术实现步骤摘要】
基于衍射光栅的位移测量系统及方法
本专利技术涉及半导体光刻机领域,特别涉及一种基于衍射光栅的位移测量系统及方法。
技术介绍
随着集成电路要求器件尺寸不断减小,光刻机作为集成电路中,将掩膜版上的特征图形转移到基底上的设备,对其精度要求也在不断提高,尤其是需要不断提高对光刻机内可动元部件位置的测量精度。光刻机内可动元部件主要是指承载掩膜版的掩膜台以及承载硅片的工件台,在光刻过程中,掩膜台或者工件台皆相对于光刻机的整体框架作位移,测量掩膜台或者工件台相对于光刻机的整体框架的位移量可以实时掌握光刻进度、速度,从而控制光刻过程。现有技术中采用干涉仪测量系统测量可动元部件的位移,将干涉仪测量系统设置在掩膜台或者工件台的每一个侧边,当掩膜台或者工件台相对于整机框架作移动时,干涉仪通过发射的光信号产生的变化测得掩膜台或者工件台相对于整机框架的位移量。但是传统的干涉仪位移测量系统的测量光与参考光暴露在空气中,受到空气扰动的影响较大,已逐渐不能满足日益提高的精度要求。现有技术中描述了一种位移测量系统,包含了两个部件在六个自由度上的相对位移测量功能,其结构包含至少两个衍射光栅、传感器、线偏振器、至少两个强度辐射检测器等,但由于其结构较复杂,占用空间大,因此安装费时费力。因此有必要专利技术一种基于衍射光栅的位移测量系统及方法,能够简化结构,并且提高位移测量系统的测量精度。
技术实现思路
为解决上述问题,本专利技术提出了一种基于衍射光栅的位移测量系统及方法,通过设置光源、棱镜与衍射光栅以及光电探测器,并配置相应的控制系统,由于棱镜固定在能够移动的工作台上,衍射光栅固定在整机框架上,当能 ...
【技术保护点】
一种基于衍射光栅的位移测量系统,其特征在于,依次包括:一光源,用于提供测量光;一棱镜,固定在能够移动的工作台一侧,用于反射所述测量光;一衍射光栅,固定在整机框架上,用于接收被所述棱镜反射后的测量光;一光电探测器,用于接收所述测量光从所述衍射光栅衍射后的衍射光,所述衍射光在所述光电探测器上形成干涉条纹;一非空气传播光路结构,设置在所述衍射光栅和所述光电探测器之间,用于在非空气传播光路中,传播所述衍射光;一控制系统,用于电路连接所述光电探测器,根据光电探测器接收的所述干涉条纹的位置及相位的变化计算所述工作台相对于整机框架的位移。
【技术特征摘要】
1.一种基于衍射光栅的位移测量系统,其特征在于,依次包括:一光源,用于提供测量光;一棱镜,固定在能够移动的工作台一侧,用于反射所述测量光;一衍射光栅,固定在整机框架上,用于接收被所述棱镜反射后的测量光;一光电探测器,用于接收所述测量光从所述衍射光栅衍射后的衍射光,所述衍射光在所述光电探测器上形成干涉条纹;一非空气传播光路结构,设置在所述衍射光栅和所述光电探测器之间,用于在非空气传播光路中,传播所述衍射光;一控制系统,用于电路连接所述光电探测器,根据光电探测器接收的所述干涉条纹的位置及相位的变化计算所述工作台相对于整机框架的位移。2.如权利要求1所述的基于衍射光栅的位移测量系统,其特征在于,所述非空气传播光路结构为密闭包装箱体,用于包裹或者部分包裹所述衍射光栅和所述光电探测器。3.如权利要求2所述的基于衍射光栅的位移测量系统,其特征在于,所述密闭包装箱体内具有真空环境。4.如权利要求2所述的基于衍射光栅的位移测量系统,其特征在于,所述密闭包装箱体内设置有透明光学元件。5.如权利要求1或2或3或4所述的基于衍射光栅的位移测量系统,其特征在于,所述棱镜为反射棱镜。6.如权利要求5所述的基于衍射光栅的位移测量系统,其特征在于,所述测量光被所述反射棱镜反射后形成的光线与所述衍射光栅表面相交。7.如权利要求6所述的基于衍射光栅的位移测量系统,其特征在于,所述测量光被所述反射棱镜反射后形成的光线与所述衍射光栅表面垂直。8.如权利要求5所述的基于衍射光栅的位移测量系统,其特征在于,所述光电探测器位于测量光在所述衍射光栅上衍射的衍射光路上。9.如权利要求8所述的基于衍射光栅的位移测量系统,其特征在于,所述光电探测器的平面与所述衍射光栅表面平行。10.如权利要求5所述的基于衍射光栅的位移测量系统,其特征在于,所述光电探测器为线阵CCD。11.如权利要求1或2或3或4所述的基于衍射光栅的位移测量系统,其特征在于,所述棱镜为分光棱镜。12.如权利要求11所述的基于衍射光栅的位移测量系统,其特征在于,还包括耦合器系统,接收所述测量光从所述衍射光栅衍射的衍射光,和所述测量光被所述分光棱镜折射形成的参考光,并发送给所述光电探测器。13.如权利要求12所述的基于衍射光栅的位移测量系统,其特征在于,所述耦合器系统与所述分光棱镜、所述光电探测器之间分别通过光纤连接。14.如权利要求13所述的基于衍射光栅的位移测量系统,其特征在于,所述耦合器系统分别包括接收所述测量光从所述衍射光栅衍射的衍射光的第一耦合器、接收所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈南曙,
申请(专利权)人:上海微电子装备有限公司,
类型:发明
国别省市:上海,31
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