电光装置、电光装置的制造方法以及电子设备制造方法及图纸

提供能抑制在透镜层产生应力的电光装置、电光装置的制造方法以及电子设备。电光装置(100)的元件基板(10)具有在一个面(19s)形成有包括凹曲面的多个透镜面(191)的透光性的基板(19)，以及覆盖多个透镜面(191)的透光性的透镜层(140)。在基板(19)的一个面(19s)形成有使配置有多个透镜面(191)的透镜形成区域(10e)凹陷的凹部(195)，在凹部(195)的底部(195a)设有多个透镜面(191)，透镜层(140)以填埋凹部(195)的内侧的方式而设置。透镜层(140)的与基板(19)相反一侧的面(141)构成为在基板(19)的一个面(19s)中与位于凹部(195)外侧的外侧区域(10d)连续的平面，在外侧区域10d未形成透镜层(140)。

Electrooptic device, method of manufacturing electro-optical device, and electronic device

An electro-optical device that can suppress stresses in a lens layer, a method of manufacturing electro-optical devices, and an electronic device. An element substrate (10) of an electro-optical device (100) has a light permeable substrate (19) having a plurality of lens surfaces (191) including a concave curved surface on one surface (19S), and a transparent lens layer (140) that covers a plurality of lens surfaces (191). The substrate (19) of a surface (19S) is formed which is provided with a plurality of lens surface (191) formed the lens (10e) concave depression (195), in the recess (195) of the bottom (195a) is provided with a plurality of lens surfaces (191), lens layer (140) landfill is a concave portion (195) of the set inside. The lens layer (140) and the substrate (19) opposite surface (141) formed in a substrate (19) surface (19S) of the recess (195) outside of the outer region (10d) continuous plane, in the outer region of 10d without the formation of a lens layer (140).

【技术实现步骤摘要】
电光装置、电光装置的制造方法以及电子设备
本专利技术涉及在对于像素电极在俯视观察中重叠的位置形成有透镜的电光装置、电光装置的制造方法，以及具备电光装置的电子设备。
技术介绍
在作为投射型显示装置的灯泡等被使用的电光装置(液晶装置)中，在形成像素电极以及像素开关元件的元件基板和形成公共电极的相对基板之间配置有液晶层。在上述电光装置中，将从元件基板以及相对基板中的一侧入射的光在液晶层调制来显示图像。这时，在元件基板，有助于仅显示到达由配线等围成的透光区域(像素开口区域)的光。在此，提出了光从元件基板侧入射的电光装置中，在对于元件基板的多个像素电极各自俯视观察中重叠的位置形成有多个透镜的构成，根据上述构成，能够显示明亮的图像(参照专利文献1)。并且，即使在光从相对基板侧入射的情况下，相对基板上，如果在对于元件基板的多个像素电极各自俯视观察中重叠的位置形成多个透镜，由于能够对自元件基板射出的光进行平行光化，因此，能够显示品格高的图像。在制造专利文献1中记载的电光装置中，对于比元件基板大型的基板，形成由凹曲面形成的透镜面后，在其整个面形成透镜层，其后，对透镜层的表面进行平坦化，形成透镜。但是，由于以覆盖透镜面的方式形成透镜层，在基板的面内方向厚度的差较大。因此，如果在形成像素开关元件等的工序中进行热处理，则起因于厚度的差而在透镜层产生应力，存在在透镜层产生裂缝的问题点。上述裂缝由于成为透镜层和基板剥离等的原因而不优选。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2015-34860号公报
技术实现思路
鉴于以上问题点，本专利技术的课题在于提供能够抑制在透镜层产生应力的电光装置、电光装置的制造方法，以及电子设备。为了解决上述课题，本专利技术的电光装置的一方式，其特征在于，具有：透光性的基板，在一个面形成有包括凹曲面或凸曲面的多个透镜面；透光性的透镜层，覆盖所述多个透镜面；多个像素电极，设置在相对于所述透镜层与所述基板相反的一侧，并在俯视观察中与所述多个透镜面各自重叠；以及多个像素开关元件，设置在相对于所述透镜层与所述基板相反的一侧，并与所述多个像素电极各自电连接，在所述基板的所述一个面形成有使配置有所述多个透镜面的透镜形成区域凹陷的凹部，在所述凹部的底部设有所述多个透镜面，所述透镜层以填埋所述凹部的内侧的方式而设置，所述透镜层的与所述基板相反一侧的面构成为在所述基板的所述一个面中与位于所述凹部外侧的外侧区域连续的平面。在本方式中，使配置多个透镜面的透镜形成区域凹陷从而在基板的一个面形成凹部，在上述凹部的底部设置多个透镜面。并且，透镜层以填埋凹部的内侧的方式设置。在此，透镜层的与基板相反一侧的面构成为在基板的一个面中与位于与凹部外侧的外侧区域连续的平面，在外侧区域未形成透镜层。因此，由于形成透镜层的区域未限定，即使在形成像素开关元件等的工序中进行热处理，也难以在透镜层产生大的应力。因此，能够抑制透镜层产生裂缝的问题，或由于裂缝导致的透镜层从基板剥离等的问题的产生。在本专利技术的电光装置的其它方式中，能够采用上述多个透镜面中相邻的透镜面至少一部分相连接的方式。在本专利技术中，也可以采用上述多个透镜面中每个透镜面沿整周与位于周围的透镜面连接的方式。根据上述构成，能够使入射至透镜面的光量增大。在此，在相邻的透镜面连接的情况下，透镜层构成为形成在基板的整个面，但在本专利技术中，仅在凹部的内部形成透镜层。因此，即使在形成像素开关元件等的工序中进行热处理，也难以在透镜层产生应力。在本方式中，优选在上述凹部的侧面和上述底部之间形成凹状的曲面。根据上述构成，即使在形成像素开关元件等的工序中进行热处理，位于凹部的侧面和底部之间的透镜层难以集中应力。本专利技术的电光装置的制造方法的一方式，其特征在于，具有：凹部形成工序，在透光性的基板的一个面形成凹部；透镜面形成工序，在所述凹部的底部形成包括凹曲面或凸曲面的多个透镜面；透镜层形成工序，在所述基板的所述一个面以填埋所述凹部的内部的方式形成透光性的透镜层；平坦化工序，从与所述基板相反的一侧对所述透镜层进行平坦化，使所述透镜层的与所述基板相反一侧的面成为在所述基板的所述一个面中与位于所述凹部的外侧的外侧区域连续的平面；以及像素形成工序，在相对于所述透镜层与所述基板相反的一侧，形成在俯视观察中与所述多个透镜面各自重叠的多个像素电极以及与所述多个像素电极各自电连接的多个像素开关元件。在本方式中，优选在上述凹部形成工序中，在上述基板的上述一个面形成有蚀刻掩膜的状态下，在所述一个面进行湿式蚀刻而形成上述凹部。根据上述构成，凹部的侧面和底部之间形成凹状的曲面。因此，即使在形成像素开关元件等的工序中进行热处理，位于凹部的侧面和底部之间的透镜层难以集中应力。应用于本专利技术的电光装置用于各种电子设备。在本专利技术中，电子设备中，投射型显示装置使用电光装置的情况下，在投射型显示装置设置有射出供给到上述电光装置的光的光源部，以及投射通过上述电光装置调制的光的投射光学系统。附图说明图1是应用于本专利技术的电光装置的俯视图。图2是应用于本专利技术的电光装置的截面图。图3是应用于本专利技术的电光装置中相邻的多个像素的俯视图。图4是应用于本专利技术的电光装置的F-F’截面图。图5是示意性地示出应用于本专利技术的电光装置的透镜的截面构成的说明图。图6是示出应用于本专利技术的电光装置的透镜与遮光层的平面的位置关系的说明图。图7是应用于本专利技术的电光装置的元件基板的制造中使用的母基板的说明图。图8是示出应用于本专利技术的电光装置的元件基板的制造方法的工序截面图。图9是使用应用于本专利技术的电光装置的投射型显示装置(电子设备)的概略构成图。符号说明3a扫描线、6a数据线、9像素电极、9a像素电极、9b虚拟像素电极、10像素基板、10a显示区域、10b周边区域、10c虚拟像素区域、10d外侧区域、10e透镜形成区域、14透镜、19基板、19s一个面、20相对基板、21公共电极、27遮光层、29基板、30像素开关元件、80电光层、100电光装置、110投射型显示装置、140透镜层、141面、190母基板、190s一个面、191透镜面、195凹部、195a底部、195b侧面、195c曲面、ST1凹部形成工序、ST1a掩膜形成工序、ST1b蚀刻工序、ST2透镜面形成工序、ST2a掩膜形成工序、ST2b蚀刻工序、ST3透镜层形成工序、ST4平坦化工序具体实施方式参照附图，对本专利技术的实施方式进行说明。此外，在以下的说明中参照的图中，由于使各层或各部位为在附图上能够识别程度的大小，因此，各层或各部位各自的比例尺不同。另外，在以下的说明中，说明形成在元件基板的层时，上层侧或表面侧表示与基板所在侧的相反侧(相对基板所在侧)，下层侧表示基板所在侧。电光装置的构成图1是应用于本专利技术的电光装置100的俯视图。图2是应用于本专利技术的电光装置100的截面图。如图1所示，在电光装置100中，元件基板10和相对基板20隔着预定的间隙而通过密封材料107贴合，元件基板10与相对基板20相对。密封材料107以沿着相对基板20的外缘的方式设置为框状，在元件基板10和相对基板20之间通过密封材料107围成的区域配置液晶层等的电光层80。因此，电光装置100作为液晶装置而构成。密封材料107是具备光固化性的粘合剂，或者具备光固化性本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电光装置，其特征在于，具有：透光性的基板，在一个面形成有包括凹曲面或凸曲面的多个透镜面；透光性的透镜层，覆盖所述多个透镜面；多个像素电极，设置在相对于所述透镜层与所述基板相反的一侧，并在俯视观察中与所述多个透镜面各自重叠；以及多个像素开关元件，设置在相对于所述透镜层与所述基板相反的一侧，并与所述多个像素电极各自电连接，在所述基板的所述一个面形成有使配置有所述多个透镜面的透镜形成区域凹陷的凹部，在所述凹部的底部设有所述多个透镜面，所述透镜层以填埋所述凹部的内侧的方式而设置，所述透镜层的与所述基板相反一侧的面构成为在所述基板的所述一个面中与位于所述凹部外侧的外侧区域连续的平面。

【技术特征摘要】
2015.09.17 JP 2015-1837431.一种电光装置，其特征在于，具有：透光性的基板，在一个面形成有包括凹曲面或凸曲面的多个透镜面；透光性的透镜层，覆盖所述多个透镜面；多个像素电极，设置在相对于所述透镜层与所述基板相反的一侧，并在俯视观察中与所述多个透镜面各自重叠；以及多个像素开关元件，设置在相对于所述透镜层与所述基板相反的一侧，并与所述多个像素电极各自电连接，在所述基板的所述一个面形成有使配置有所述多个透镜面的透镜形成区域凹陷的凹部，在所述凹部的底部设有所述多个透镜面，所述透镜层以填埋所述凹部的内侧的方式而设置，所述透镜层的与所述基板相反一侧的面构成为在所述基板的所述一个面中与位于所述凹部外侧的外侧区域连续的平面。2.根据权利要求1所述的电光装置，其特征在于，所述多个透镜面中相邻的透镜面至少一部分相连接。3.根据权利要求2所述的电光装置，其特征在于，所述多个透镜面中每个透镜面沿整周与位于周围的透镜面连接。4.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：伊藤智，
申请(专利权)人：精工爱普生株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP