布局修正方法及系统技术方案
Layout correction method and system
Embodiments of the present invention provide a method for performing a layout correction by at least one processor. Including: layout correction method of allocation of a specific layout part of the layout of the circuit unit through the analysis of at least one processor, to determine the specific layout of the first part and the second part of the specific layout from a specific layout part; through at least one processor determines the first specific layout part and the second part is the specific layout coupled to the first signal level; and when the first specific layout part and the second part of the specific layout is coupled to the first signal level, by means of at least one processor will be the first specific layout part and the second part is the first merger with the specific layout layout part.
【技术实现步骤摘要】
布局修正方法及系统
本专利技术实施例总体涉及半导体领域，更具体地，涉及集成电路布局修正方法及系统。
技术介绍
随着特征尺寸的不断缩小和芯片功能的不断扩展，半导体芯片中的中间制程(MEOL)的临界间距也减小。为了制造这种小临界间距，制造期间需要大量的光掩模或更加简单的掩模。此外，当芯片中的电路单元的布局面积缩小时，电特性，诸如电路单元中的元件的电阻在制造之后很有可能偏离于期望的特性。面积缩小也导致电路单元在电迁移效应(EM,Electromigration,)免疫力方面性能劣化。
技术实现思路
根据本专利技术的一个方面，提供了一种由至少一个处理器执行的布局修正方法，所述布局修正方法包括：通过所述至少一个处理器分析电路单元布局的多个具体布局部分的分配，以从所述多个具体布局部分确定第一具体布局部分和第二具体布局部分；通过所述至少一个处理器确定所述第一具体布局部分和所述第二具体布局部分是否耦合至第一信号等级；以及当所述第一具体布局部分和所述第二具体布局部分耦合至所述第一信号等级时，通过所述至少一个处理器将所述第一具体布局部分和所述第二具体布局部分合并为第一合并的布局部分。根据...
【技术保护点】
一种由至少一个处理器执行的布局修正方法，所述布局修正方法包括：通过所述至少一个处理器分析电路单元布局的多个具体布局部分的分配，以从所述多个具体布局部分确定第一具体布局部分和第二具体布局部分；通过所述至少一个处理器确定所述第一具体布局部分和所述第二具体布局部分是否耦合至第一信号等级；以及当所述第一具体布局部分和所述第二具体布局部分耦合至所述第一信号等级时，通过所述至少一个处理器将所述第一具体布局部分和所述第二具体布局部分合并为第一合并的布局部分。
【技术特征摘要】
2015.11.16 US 14/942,9271.一种由至少一个处理器执行的布局修正方法，所述布局修正方法包括：通过所述至少一个处理器分析电路单元布局的多个具体布局部分的分配，以从所述多个具体布局部分确定第一具体布局部分和第...
【专利技术属性】
技术研发人员：萧锦涛，赖志明，杨惠婷，赖瑞尧，陈志良，陈俊光，刘如淦，陈燕铭，杨超源，温宗尧，
申请(专利权)人：台湾积体电路制造股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾,71
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