一种低压干燥设备制造技术

本实用新型专利技术提供一种低压干燥设备，包括用于容置待干燥基板的腔室，腔室包括腔室本体，在腔室本体的底壁上设置有多个用于水平支撑待干燥基板的顶指。通过在顶指上设置用于增大支撑面积的支撑部件，增大顶指与待干燥基板的接触面积，减小顶指作用在待干燥基板上的压强，避免待干燥基板发生形变，使光刻胶在待干燥基板上均匀分布，从而改善顶指mura不良。而且，在抽真空装置抽气过程中，也可以避免因待干燥基板发生形变导致的破损，进而提高产品良率。

【技术实现步骤摘要】
一种低压干燥设备
本技术涉及光刻
，特别涉及一种低压干燥设备。
技术介绍
液晶显示技术日趋成熟，液晶显示面板以成为目前市场上各种尺寸显示面板中的主流产品。在液晶显示面板制程中，光刻工艺是基板制作中的关键制程。光刻工艺是在基板表面薄膜上涂布一层光刻胶，光刻胶经过干燥、曝光、显影和烘烤等步骤，形成抗刻蚀的图形，再将基板刻蚀后，使基板表面薄膜形成相应的图形的工艺。在光刻工艺中，通常采用低压干燥设备对光刻胶进行干燥，以去除光刻胶内含有的有机溶剂，使光刻胶固化。现有低压干燥设备，包括能够密封的腔室、抽真空装置和多个呈矩阵排布的顶指，在腔室内，顶指水平支撑待干燥基板。抽真空装置对本体内部抽气，以去除光刻胶内含有的有机溶剂。现有低压干燥设备的顶指与待干燥基板的接触面积较小，使待干燥基板在自身重力的作用下发生较大形变，影响光刻胶在待干燥基板上的均匀分布，从而在顶指对应的位置产生mura不良。而且，在抽真空装置抽气过程中，较大形变的待干燥基板极易破损，降低产品良率。
技术实现思路
本技术针对现有技术中存在的上述不足，提供一种低压干燥设备，用以至少部分解决待干燥基板形变较大的问题。为实现上述目的，本技本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种低压干燥设备，包括用于容置待干燥基板的腔室，所述腔室包括腔室本体，所述腔室本体的底壁上设置有多个用于水平支撑待干燥基板的顶指，其特征在于，所述顶指上设置有用于增大支撑面积的支撑部件。

【技术特征摘要】
1.一种低压干燥设备，包括用于容置待干燥基板的腔室，所述腔室包括腔室本体，所述腔室本体的底壁上设置有多个用于水平支撑待干燥基板的顶指，其特征在于，所述顶指上设置有用于增大支撑面积的支撑部件。2.根据权利要求1所述的低压干燥设备，其特征在于，所述支撑部件设置在位于所述腔室本体的中间位置的顶指上。3.根据权利要求1所述的低压干燥设备，其特征在于，所述支撑部件包括支撑条，所述支撑条设置于所述顶指的顶端。4.根据权利要求3所述的低压干燥设备，其特征在于，所述支撑条为至少两根，且交叉设置于所述顶指的顶端。5.根据权利要求4所述的低压干燥设备，其特征在于，所述各支撑条交叉设置的交叉点与所述各支撑条的中点重合,且相邻的所述支撑条的夹角相同。6.根据权利要求3所述的低压干燥设备，其特征在于，所述支撑条的上表面呈圆弧状。7.根据权利要求1所述的低压干燥设备，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨宇桐，赵永亮，毕鑫，宁智勇，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，重庆京东方光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11