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本实用新型提供一种低压干燥设备，包括用于容置待干燥基板的腔室，腔室包括腔室本体，在腔室本体的底壁上设置有多个用于水平支撑待干燥基板的顶指。通过在顶指上设置用于增大支撑面积的支撑部件，增大顶指与待干燥基板的接触面积，减小顶指作用在待干燥基板上...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司授权不得商用。