用于去除光学元件表面污染物的风刀系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种用于去除光学元件表面污染物的风刀系统，包括：风刀；与风刀连接，用于调节所述风刀与光学元件表面之间的角度和位置的风刀位置调节单元；所述风刀位置调节单元上设置有用于风刀工作时减震缓冲单元；用于使风刀在光学元件表面移动工作的移动单元，所述风刀位置调节单元连接在移动单元上。本实用新型专利技术的用于去除光学元件表面污染物的风刀系统能够方便的实现风刀与光学元件的初始位置和角度的调节，并且通过设置减震缓冲单元形成减震缓冲区，风刀工作后其减震缓冲单元自动开始工作，保持风刀吹扫的角度一致性及对固定底座的隔震效应，结构简单且实用性高。

Wind knife system for removing surface contaminants of optical components

The utility model discloses a wind knife system for removal of surface contaminants, optical element includes air knife; connected with the air knife regulating unit for air knife position adjustment between the air knife and the surface of the optical element of the angle and position; the air knife position adjusting unit is provided with a wind knife when the buffer is used to enable the unit; air knife in the mobile unit mobile optical element surface work, the air knife position adjusting unit is connected to the mobile unit. The utility model is used for the removal of contaminants on the surface of air knife system optical element can conveniently adjust air knife and the optical element of the initial position and angle, and by setting the buffer unit forms a buffer zone, the buffer unit start work automatic air knife work, keep the air knife sweeping angle consistency and the fixed base isolation effect, simple structure and high practicability.

【技术实现步骤摘要】
用于去除光学元件表面污染物的风刀系统
本技术属于光机设计领域，具体涉及一种用于去除光学元件表面污染物的风刀系统，其是一种用于洁净室内风刀减震及风刀与光学元件表面位置进行调节的装置，能够实现光学元件表面污染物的高效无损清洗。
技术介绍
大型精密装置实验室对光学元件表面洁净度要求较高，例如高功率固体激光装置的建造和运行过程中，不可避免有大量的微小颗粒污染物(100μm以下)残留在光传输管道中，而颗粒污染物会诱导光学元件损伤呈指数型增长，大幅降低装置的运行性能以及输出能力。因此，为了提高高功率固体激光装置的负载能力，必须减少光学元件表面的污染物，维持光学元件表面的洁净度。使用风刀冲扫技术去除光学元件表面的污染物是高功率固体激光装置常见的技术手段，高压气体经过风刀产生高速洁净混合气流，从而使得光学元件表面附着的污染物得到去除。由于光学元件在洁净室内表面的洁净度要求较高，因此其表面污染物去除效率需要达到较高的水平才能够满足。研究表明，当风刀固定在一端时，远离风刀出风口的位置的污染物去除效率低于靠近风刀出风口位置的污染物去除效率，例如，不锈钢颗粒在靠近风刀口的位置其去除效率可达100％，而距离风刀刀口越远，去除效率则呈递减趋势，最低达到87％(参见文献：“In-situsurfacedebrisinspectionandremovalsystemforupward-facingtransportmirrorsoftheNationalIgnitionFacility，”ProcofSPIE.2004,5647:107)。现有风刀的夹持装置一般采用螺栓直接固定，这就不能保证远离风刀位置处污染物的去除效率达到较高要求、光学元件表面洁净度呈较佳状态。尽管某些装置考虑了风刀姿态调节及调节方法，但是其装置也有较多短板，例如风刀工作时是否隔震暂无相关专利技术，且光学元件不能移动的情形目前也没有相关风刀移动调节装置。
技术实现思路
本技术的一个目的是解决至少上述问题和/或缺陷，并提供至少后面将说明的优点。为了实现根据本技术的这些目的和其它优点，提供了一种用于去除光学元件表面污染物的风刀系统，包括：风刀；与风刀连接，用于调节所述风刀与光学元件表面之间的角度和位置的风刀位置调节单元；所述风刀位置调节单元上设置有用于风刀工作时减震缓冲单元；用于使风刀在光学元件表面移动工作的移动单元，所述风刀位置调节单元连接在移动单元上。优选的是，所述风刀位置调节单元包括：固定底座，其两端分别通过减震缓冲单元连接有两个倒置的T形隔板；所述减震缓冲单元包括：将T形隔板的水平面连接在固定底座上的隔板固定螺丝、位于T形隔板水平面上方并套设在隔板固定螺丝上的螺丝套筒和位于T形隔板水平面下方并套设在隔板固定螺丝上的减震弹簧；两个T型固定块，其一端分别与风刀的两端可拆卸连接，另一端通过凹槽转接块与所述T形隔板的垂直面可拆卸连接。优选的是，所述风刀与两个T型固定块的可拆卸连接方式为通过风刀固定螺丝连接。优选的是，所述两个T型固定块的另一端通过凹槽转接块与所述T形隔板的垂直面可拆卸连接的方式为：所述凹槽转接块的一端通过调节螺丝Ⅰ与T型固定块连接；所述凹槽转接块的另一端上设置有通孔，所述T形隔板的垂直面与凹槽转接块通过贯穿在所述通孔内的两个调节螺丝Ⅱ实现连接。优选的是，所述凹槽转接块的通孔的长度为60mm。优选的是，所述移动单元包括：固定在光学元件衬板上的平行的滑轨基座和丝轨基座，所述滑轨基座和丝轨基座之间形成光学元件放置区；所述滑轨基座上连接有滑轨；所述丝轨基座上连接有丝轨；所述滑轨和丝轨上分别设置有滑轨滑块和丝轨滑块；所述丝轨的前端连接有用于控制丝轨滑块移动的减速器和电动控制器；其中，所述风刀位置调节单元的固定底座与所述滑轨滑块和丝轨滑块通过螺栓固定连接。优选的是，所述滑轨和丝轨的末端设置有位移限制块。优选的是，所述丝轨的螺纹间距为2mm。优选的是，所述减速器为减速速率范围0.5～3mm/s的减速器；所述电动控制器为步进平均速率为0.5～3mm/s的电动控制器。优选的是，所述风刀上设置有风刀进风口。本技术至少包括以下有益效果：本技术的用于去除光学元件表面污染物的风刀系统能够方便的实现风刀与光学元件的初始位置和角度的调节，并且通过设置减震缓冲单元形成减震缓冲区，风刀工作后其减震缓冲单元自动开始工作，保持风刀吹扫的角度一致性及对固定底座的隔震效应，结构简单且实用性高。本技术的其它优点、目标和特征将部分通过下面的说明体现，部分还将通过对本技术的研究和实践而为本领域的技术人员所理解。附图说明：图1为本技术所述的风刀位置调节单元的结构示意图；图2为本技术所述的用于去除光学元件表面污染物的风刀系统的结构示意图具体实施方式：下面结合附图对本技术做进一步的详细说明，以令本领域技术人员参照说明书文字能够据以实施。应当理解，本文所使用的诸如“具有”、“包含”以及“包括”术语并不配出一个或多个其它元件或其组合的存在或添加。图1～2示出了本技术的一种用于去除光学元件表面污染物的风刀系统，包括：风刀1；与风刀1连接，用于调节所述风刀1与光学元件90表面之间的角度和位置的风刀位置调节单元20；所述风刀位置调节单元20上设置有用于风刀工作时减震缓冲单元201；用于使风刀1在光学元件90表面移动工作的移动单元130，所述风刀位置调节单元20连接在移动单元130上。在上述技术方案中，利用风刀位置调节单元20对风刀的角度及初始位置进行调节直至最佳角度及位置；通过外部气源经过风刀进气口为风刀提供洁净压缩空气，风刀工作后其减震缓冲单元201开始工作，保持风刀吹扫的角度一致性及对固定底座的隔震效应；通过控制移动单元130使风刀对光学元件90表面进行洁净空气吹扫清洗。在另一种技术方案中，所述风刀位置调节单元20包括：固定底座5，其两端分别通过减震缓冲单元201连接有两个倒置的T形隔板6；所述减震缓冲单元201包括：将T形隔板6的水平面连接在固定底座5上的隔板固定螺丝7、位于T形隔板6水平面上方并套设在隔板固定螺丝7上的螺丝套筒9和位于T形隔板6水平面下方并套设在隔板固定螺丝7上的减震弹簧10；所述螺丝套筒9与隔板固定螺丝7之间连接有垫片8；两个T型固定块4，其一端分别与风刀1的两端可拆卸连接，另一端通过凹槽转接块13与所述T形隔板6的垂直面可拆卸连接；在这种技术方案中，所述减震缓冲单元201通过减震弹簧10起到及对固定底座的隔震效应，并且通过两个T型固定块4与风刀1的可拆卸连接可实现风刀角度的调节，同时通过两个T型固定块4与凹槽转接块13的连接，可实现风刀初始位置的调节。在另一种技术方案中，所述风刀1与两个T型固定块4的可拆卸连接方式为通过风刀固定螺丝3连接，采用螺丝连接，方便风刀的拆卸和更换。在另一种技术方案中，所述两个T型固定块4的另一端通过凹槽转接块13与所述T形隔板6的垂直面可拆卸连接的方式为：所述凹槽转接块13的一端通过调节螺丝Ⅰ11与T型固定块4连接；所述凹槽转接块13的另一端上设置有通孔131，所述T形隔板6的垂直面与凹槽转接块13通过贯穿在所述通孔131内的两个调节螺丝Ⅱ12实现连接，采用这种技术方案，通过调节螺丝Ⅰ11的松紧可以实现T型本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于去除光学元件表面污染物的风刀系统，其特征在于，包括：风刀；与风刀连接，用于调节所述风刀与光学元件表面之间的角度和位置的风刀位置调节单元；所述风刀位置调节单元上设置有用于风刀工作时减震缓冲单元；用于使风刀在光学元件表面移动工作的移动单元，所述风刀位置调节单元连接在移动单元上。

【技术特征摘要】
1.一种用于去除光学元件表面污染物的风刀系统，其特征在于，包括：风刀；与风刀连接，用于调节所述风刀与光学元件表面之间的角度和位置的风刀位置调节单元；所述风刀位置调节单元上设置有用于风刀工作时减震缓冲单元；用于使风刀在光学元件表面移动工作的移动单元，所述风刀位置调节单元连接在移动单元上。2.如权利要求1所述的用于去除光学元件表面污染物的风刀系统，其特征在于，所述风刀位置调节单元包括：固定底座，其两端分别通过减震缓冲单元连接有两个倒置的T形隔板；所述减震缓冲单元包括：将T形隔板的水平面连接在固定底座上的隔板固定螺丝、位于T形隔板水平面上方并套设在隔板固定螺丝上的螺丝套筒和位于T形隔板水平面下方并套设在隔板固定螺丝上的减震弹簧；两个T型固定块，其一端分别与风刀的两端可拆卸连接，另一端通过凹槽转接块与所述T形隔板的垂直面可拆卸连接。3.如权利要求2所述的用于去除光学元件表面污染物的风刀系统，其特征在于，所述风刀与两个T型固定块的可拆卸连接方式为通过风刀固定螺丝连接。4.如权利要求2所述的用于去除光学元件表面污染物的风刀系统，其特征在于，所述两个T型固定块的另一端通过凹槽转接块与所述T形隔板的垂直面可拆卸连接的方式为：所述凹槽转接块的一端通过调节螺丝Ⅰ与T型固定块连接；所述凹槽转接块的另一端上设置有通孔...

【专利技术属性】
技术研发人员：牛龙飞，苗心向，吕海兵，周国瑞，马志强，刘青安，刘昊，贾宝申，秦廷海，李可欣，邹睿，唐灿，周海，袁晓东，
申请(专利权)人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心，
类型：新型
国别省市：四川,51