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本实用新型公开了一种用于去除光学元件表面污染物的风刀系统,包括:风刀;与风刀连接,用于调节所述风刀与光学元件表面之间的角度和位置的风刀位置调节单元;所述风刀位置调节单元上设置有用于风刀工作时减震缓冲单元;用于使风刀在光学元件表面移动工作的移...该专利属于中国工程物理研究院激光聚变研究中心所有,仅供学习研究参考,未经过中国工程物理研究院激光聚变研究中心授权不得商用。
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本实用新型公开了一种用于去除光学元件表面污染物的风刀系统,包括:风刀;与风刀连接,用于调节所述风刀与光学元件表面之间的角度和位置的风刀位置调节单元;所述风刀位置调节单元上设置有用于风刀工作时减震缓冲单元;用于使风刀在光学元件表面移动工作的移...