一种图案化金属网栅薄膜的制作方法技术

本发明专利技术图案化金属网栅薄膜的制作方法属于光学透明导电薄膜技术领域；该方法首先在衬底上涂覆网栅掩模液，然后自然干燥网栅掩模液，形成网栅掩模结构，再采用激光烧蚀方法，在网栅掩模结构上熔融图案区域，形成图案化网栅掩模结构，接着在图案化网栅掩模结构上沉积金属层，最后采用丙酮或氯仿溶解去除图案化网栅掩模结构，得到图案化金属网栅薄膜；本发明专利技术只需要在形成网栅掩模结构与沉积金属层两个步骤之间，增加采用激光烧蚀方法，在网栅掩模结构上熔融图案区域，形成图案化网栅掩模结构的步骤，即可得到图案化的金属网栅薄膜，因此该方法不仅无需附加材料，降低制作成本，而且不会污染环境，同时降低了工艺复杂性，节省了大量的人力物力。

【技术实现步骤摘要】
一种图案化金属网栅薄膜的制作方法
本专利技术图案化金属网栅薄膜的制作方法属于光学透明导电薄膜

技术介绍
透明导电薄膜广泛运用于触控液晶面板、有机发光二极管、光伏器件、智能玻璃以及光窗电磁屏蔽等领域。目前，比较常见的透明导电薄膜有ITO薄膜和金属网栅薄膜两种。ITO薄膜是在光学基底表面，通过蒸镀或溅射的方法形成一层铟-锡氧化物(ITO)膜等的透明导电材料，由于ITO薄膜存在机械稳定性差、高温下化学稳定性差、脆性以及稀有金属铟价格昂贵等问题，因此ITO薄膜的发展受到了限制；金属网栅薄膜的出现，克服了ITO薄膜的上述问题，这类薄膜是在光学基底表面，通过光刻或纳米压印加工方法制作聚合物掩模结构，然后通过金属气相沉积或刮涂金属浆料对其金属化，再将聚合物掩模结构剥离而形成，然而，这类薄膜出现了基于光刻或纳米压印方法制作金属网栅的工艺过程复杂，对设备依赖性高的新问题。针对金属网栅薄膜工艺过程复杂，对设备依赖性高的新问题，在哈尔滨工业大学申请的专利技术专利《一种电磁屏蔽光学窗的制作方法(201510262998.7)》中公开了一种电磁屏蔽光学窗的加工工艺，也属于金属网栅薄膜制作方法，该方法本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种图案化金属网栅薄膜的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤a、在衬底(11)上采用旋涂法、喷涂法、刮涂法或浸渍提拉法涂覆厚度为1～10μm的网栅掩模液(12)，所述衬底(11)为玻璃、PET、石英、MgF2或ZnS；所述所述网栅掩模液(12)为水性裂纹漆或水性丙烯酸乳液；步骤b、自然干燥网栅掩模液(12)，形成网栅掩模结构(13)；步骤c、采用激光烧蚀方法，在网栅掩模结构(13)上熔融图案区域(14)，形成图案化网栅掩模结构(15)；步骤d、在图案化网栅掩模结构(15)上沉积金属层(16)；步骤e、采用丙酮或氯仿溶解去除图案化网栅掩模结构(15)，得到图案化金属网栅薄膜(17)。

【技术特征摘要】
1.一种图案化金属网栅薄膜的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤a、在衬底(11)上采用旋涂法、喷涂法、刮涂法或浸渍提拉法涂覆厚度为1～10μm的网栅掩模液(12)，所述衬底(11)为玻璃、PET、石英、MgF2或ZnS；所述所述网栅掩模液(12)为水性裂纹漆或水性丙烯酸乳液；步骤b、自然干燥网栅掩模液(12)，形成网栅掩模结构(13)；步骤c、采用激光烧蚀方法，在网栅掩模结构(13)上熔融图案区域(14)，形成图案化网栅掩模结构(15)；步骤d、在图案化网栅掩模结构(15)上沉积金属层(16)；步骤e、采用丙酮或氯仿溶解去除图案化网栅掩模结构(15)，得到图案化金属网栅薄膜(17)。2.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于，步骤c具体为：采用波长为106...

【专利技术属性】
技术研发人员：金光国，
申请(专利权)人：苏州麦田光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32