光栅基板及其制作方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及显示技术领域，公开了一种光栅基板制作方法，包括以下步骤：在衬底基板上形成梳状、不透明的触控电极的阵列，且使阵列中第一触控电极通过第一导电桥连接在一起；形成绝缘间隔层，使其覆盖所述第一导电桥；在所述绝缘间隔层上形成第二导电桥将阵列中的第二触控电极连接在一起。还公开了一种光栅基板及显示装置。本发明专利技术通过将触控电极制作成不透明的梳状电极的图形，既能作为触控电极又能作为3D光栅，同时实现了触摸和3D功能。

【技术实现步骤摘要】
光栅基板及其制作方法、显示装置
本专利技术涉及显示
，特别涉及一种光栅基板及其制作方法、显示装置。
技术介绍
触摸屏作为一种最新的电脑输入设备，它是目前最简单、方便、自然的一种人机交互方式。它赋予了多媒体以崭新的面貌，是极富吸引力的全新多媒体交互设备。触摸屏中通过形成阵列的若干第一触控电极和第二触控电极连接不同的信号来检测触摸点。视差屏障法是一种无须佩戴3D眼镜的裸眼3D显示，包括一台显示器和放置于显示器前面的黑白狭缝光栅组成。只要光栅遮光条纹和透光条纹的宽度合适，光栅的放置高度正确，光栅上的遮光条纹能为观看者的左眼遮挡掉右眼像素列发出的光，同时为观看者的右眼遮挡掉左眼像素列所发出的光，从而实现3D显示。但现有技术中没有触摸式3D屏，因此实现触摸式3D屏是亟待解决的问题。
技术实现思路
(一)要解决的技术问题本专利技术要解决的技术问题是：如何同时实现触摸和3D功能的显示屏。(二)技术方案为解决上述技术问题，本专利技术提供了一种光栅基板制作方法，包括以下步骤：在衬底基板上形成梳状、不透明的触控电极的阵列，且使阵列中第一触控电极通过第一导电桥连接在一起；形成绝缘间隔层，使其覆盖所述第一导电桥；在所述绝缘间隔层上形成第二导电桥将阵列中的第二触控电极连接在一起。其中，在衬底基板上形成梳状、不透明的触控电极的阵列，且使阵列中第一触控电极通过第一导电桥连接在一起的步骤具体包括：在衬底基板上形成梳状、不透明的触控电极的阵列的同时形成所述第一导电桥，以连接所述第一触控电极。其中，形成绝缘间隔层，使其覆盖所述第一导电桥的步骤具体包括：形成绝缘间隔层覆盖所述第二导电桥与第一导电桥重叠的区域。其中，使每个梳状的触控电极中，用于连接梳齿的连接条位于所述光栅基板黑矩阵对应的区域。其中，形成第二导电桥后，还包括形成保护层。其中，所述衬底基板为彩膜基板。本专利技术还提供了一种光栅基板制作方法，包括以下步骤：在衬底基板上的预定位置形成第二导电桥；形成绝缘间隔层，使其覆盖所述第二导电桥；形成梳状、不透明的触控电极的阵列，且使阵列中第一触控电极通过第一导电桥连接在一起，所述第二导电桥将阵列中的第二触控电极连接在一起，使所述第一导电桥和所述第二导电桥之间间隔所述绝缘间隔层。其中，形成绝缘间隔层，使其覆盖所述第二导电桥的步骤具体包括：形成绝缘间隔层覆盖所述第一导电桥与第二导电桥重叠的区域。其中，形成梳状、不透明的触控电极的阵列，且使阵列中第一触控电极通过第一导电桥连接在一起，所述第二导电桥将阵列中的第二触控电极连接在一起的步骤具体包括：在衬底基板上形成梳状、不透明的触控电极的阵列的同时形成所述第一导电桥，以连接所述第一触控电极，并使所述第二导电桥将所述第二触控电极连接在一起。其中，使每个梳状的触控电极中，用于连接梳齿的连接条位于所述光栅基板黑矩阵对应的区域。其中，形成梳状、不透明的触控电极的阵列后，还包括形成保护层。其中，所述衬底基板为彩膜基板。本专利技术还提供了一种光栅基板，包括：形成在衬底基板上的若干第一导电桥、第二导电桥、不透明的第一触控电极和第二触控电极，所述第一触控电极通过第一导电桥连接，所述第二触控电极通过第二导电桥连接，所述每个第一触控电极和第二触控电极均为梳状电极。其中，每个梳状的触控电极中，用于连接梳齿的连接条位于所述光栅基板黑矩阵对应的区域。其中，所述衬底基板为彩膜基板。本专利技术还提供了一种显示装置，包括上述任一项所述的光栅基板。(三)有益效果本专利技术通过将触控电极制作成不透明的梳状电极的图形，既能作为触控电极又能作为3D光栅，同时实现了触摸和3D功能。附图说明图1是本专利技术实施例的一种光栅基板制作方法中形成触控电极和第一导电桥的结构示意图；图2是在图1的基础上形成绝缘层间隔的示意图；图3是形成光栅基板结构示意图。具体实施方式下面结合附图和实施例，对本专利技术的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本专利技术，但不用来限制本专利技术的范围。实施例1本实施例提供的光栅基板制作方法，包括以下步骤：步骤一，在衬底基板上形成梳状、不透明的触控电极的阵列，且使阵列中第一触控电极通过第一导电桥连接在一起。步骤二，形成绝缘间隔层覆盖所述第一导电桥，以间隔第一导电桥和即将形成的第二导电桥。步骤三，在所述绝缘间隔层上形成第二导电桥将阵列中的第二触控电极连接在一起。其中，不透明的触控电极可以是金属电极。本专利技术通过将触控电极制作成不透明的梳状电极的图形，既能作为触控电极又能作为3D光栅，同时实现了触摸和3D功能。具体步骤如图1～3所示(只是出了其中四个触控电极)。步骤一中，如图1所示，为了节省制作工序，第一导电桥3采用与触控电极相同的材料，这样在衬底基板上形成梳状、且不透明的触控电极(包括第一触控电极1和第二触控电极2)的阵列的同时形成第一导电桥3连接第一触控电极1的图形。形成第一导电桥3和触控电极的图形具体可以采用构图工艺(构图工艺通常包括光刻胶涂敷、曝光、显影、刻蚀、光刻胶剥离等工艺)的方式制作。如图2所示，步骤二中覆盖第一导电桥3的绝缘间隔层4可以覆盖整个衬底基板(覆盖整个衬底基板时在绝缘间隔层对应第二触控电极与第二导电桥相连的区域形成过孔即可)，也可只覆盖第一导电桥的区域，或只覆盖即将形成的第二导电桥与第一导电桥重叠的区域。最终形成的光栅基板如图3所示，本实施例中，只覆盖了即将形成的第二导电桥与第一导电桥重叠的区域，以节省材料。具体制作时，可先形成一层光刻胶，接着去除待形成绝缘间隔层4区域的光刻胶，然后形成一层绝缘间隔材料，最后去除光刻胶，覆盖在光刻胶上的绝缘间隔材料一同被去除，最终形成绝缘间隔层4。步骤三中，具体制作时，可先形成一层光刻胶，接着去除待形成第二导电桥区域的光刻胶，然后形成一层导电材料(如金属)，最后去除光刻胶，覆盖在光刻胶上的导电材料一同被去除，最终形成第二导电桥5，使第二导电桥5连接第二触控电极2。为了不影响显示效果，进一步地，使每个梳状图形的触控电极中，用于连接梳齿的连接条(如图3中虚线框部分所示)位于光栅基板黑矩阵对应的区域。进一步地，在形成第二导电桥5后还包括形成保护层，以保护光栅基板。进一步地，衬底基板可以是彩膜基板(CF)，即可以做在CF背面，这样不需要额外制作光栅以及进行额外的光栅对位，从而避免对位偏差。当然，对于单片玻璃式(OneGlassSolution，OGS)方案，也可以做在保护层(Cover)里面。实施例2本实施例提供的光栅基板制作方法，包括以下步骤：步骤一，在衬底基板上的预定位置形成第二导电桥。步骤二，形成绝缘间隔层，使其覆盖所述第二导电桥。步骤三，形成梳状、不透明的触控电极的阵列，且使阵列中第一触控电极通过第一导电桥连接在一起，所述第二导电桥将阵列中的第二触控电极连接在一起，使所述第一导电桥和所述第二导电桥之间间隔所述绝缘间隔层。步骤一中，具体制作时，可先形成一层光刻胶，接着去除待形成第二导电桥区域的光刻胶，然后形成一层导电材料(如金属)，最后去除光刻胶，覆盖在光刻胶上的导电材料一同被去除，最终形成第二导电桥；或者先形成一层导电材料，再采用构图工艺(构图工艺通常包括光刻胶涂敷、曝光、显影、刻蚀、光刻胶剥离等工艺)的方式制作。步骤二中，覆盖第二导电桥的绝缘间隔层可以覆盖整个衬底基板(覆盖整个衬底基板时在绝本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光栅基板制作方法，其特征在于，包括以下步骤：在衬底基板上形成梳状、不透明的触控电极的阵列，且使阵列中第一触控电极通过第一导电桥连接在一起；形成绝缘间隔层，使其覆盖所述第一导电桥；在所述绝缘间隔层上形成第二导电桥将阵列中的第二触控电极连接在一起。

【技术特征摘要】
1.一种光栅基板制作方法，其特征在于，包括以下步骤：在衬底基板上形成梳状、不透明的触控电极的阵列，且使阵列中第一触控电极通过第一导电桥连接在一起；使每个梳状的触控电极中，用于连接梳齿的连接条位于所述光栅基板黑矩阵对应的区域；形成绝缘间隔层，使其覆盖所述第一导电桥；在所述绝缘间隔层上形成第二导电桥将阵列中的第二触控电极连接在一起。2.如权利要求1所述的光栅基板制作方法，其特征在于，在衬底基板上形成梳状、不透明的触控电极的阵列，且使阵列中第一触控电极通过第一导电桥连接在一起的步骤具体包括：在衬底基板上形成梳状、不透明的触控电极的阵列的同时形成所述第一导电桥，以连接所述第一触控电极。3.如权利要求1所述的光栅基板制作方法，其特征在于，形成绝缘间隔层，使其覆盖所述第一导电桥的步骤具体包括：形成绝缘间隔层覆盖所述第二导电桥与第一导电桥重叠的区域。4.如权利要求1所述的光栅基板制作方法，其特征在于，形成第二导电桥后，还包括形成保护层。5.如权利要求1～4中任一项所述的光栅基板制作方法，其特征在于，所述衬底基板为彩膜基板。6.一种光栅基板制作方法，其特征在于，包括以下步骤：在衬底基板上的预定位置形成第二导电桥；形成绝缘间隔层，使其覆盖所述第二导电桥；形成梳状、不透明的触控电极的阵列，且使阵列中第一触控电极通过第一导电桥连接在一起，所述第二导电桥将阵列中的第二触控电极连接在一起，使所述第一导电桥和所述第二导电桥之间间隔所述绝缘间隔...

【专利技术属性】
技术研发人员：李宏伟，李凡，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11