光栅及其制作方法、显示基板和显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种光栅及其制作方法、显示基板和显示装置，光栅包括：基底以及形成在所述基底上方的遮光层图案，所述基底包括交替分布的第一视场区域和第二视场区域，所述遮光层图案包括遮光区域和透光区域；在所述第一视场区域内和所述第二视场区域内，所述光栅均包括形成在所述基底上的脊状隆起结构，所述遮光层图案形成在所述脊状隆起结构上；且在所述第一视场区域内，脊状隆起结构的第一侧坡面上形成有透光区域，在所述第二视场区域内，脊状隆起结构的第二侧坡面上形成有透光区域；其中，第一侧与第二侧为相对的两侧。采用本发明专利技术提供的光栅的显示装置具有较小的厚度。

【技术实现步骤摘要】
光栅及其制作方法、显示基板和显示装置
本专利技术属于显示
，特别涉及光栅及其制作方法、显示基板和显示装置。
技术介绍
目前，在显示技术中，双视场显示技术的研究开发成为一个新的热点。所谓双视场显示技术，是指在一个显示屏的两侧(如左右两侧)可看到不同图像的显示技术。现有的双视场显示技术主要是利用在显示面板外侧贴合的光栅实现，如图1所示为现有技术中的一种双视场显示装置的示意图，显示面板包括至少两个显示区域11和12，用于显示不同的画面，在显示面板1前设置遮光图案2，遮光图案2包括交替排列的遮光区域和透光区域，由于遮光图案2的存在，因此，在屏幕的左侧31和右侧32分别仅能看到显示面板的部分显示区域(左侧看到12，右侧看到11)，位于中间的区域33为串扰区，由此可以实现双视场显示。图1中所示的这种双视场显示装置中，为了保证显示效果，需要光栅与显示面板需要保持足够的距离，这样会导致显示装置的整体厚度较大。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种可以降低相应的双视场显示装置厚度的光栅。为了达到上述目的，本专利技术提供了一种光栅，包括：基底以及形成在所述基底上方的遮光层图案，所述基底包括交替分布本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光栅，其特征在于，包括：基底以及形成在所述基底上方的遮光层图案，所述基底包括交替分布的第一视场区域和第二视场区域，所述遮光层图案包括遮光区域和透光区域；在所述第一视场区域内和所述第二视场区域内，所述光栅均包括形成在所述基底上的脊状隆起结构，所述遮光层图案形成在所述脊状隆起结构上；且在所述第一视场区域内，脊状隆起结构的第一侧坡面上形成有透光区域，在所述第二视场区域内，脊状隆起结构的第二侧坡面上形成有透光区域；其中，第一侧与第二侧为相对的两侧。

【技术特征摘要】
1.一种光栅，其特征在于，包括：基底以及形成在所述基底上方的遮光层图案，所述基底包括交替分布的第一视场区域和第二视场区域，所述遮光层图案包括遮光区域和透光区域；在所述第一视场区域内和所述第二视场区域内，所述光栅均包括形成在所述基底上的脊状隆起结构，所述遮光层图案形成在所述脊状隆起结构上；且在所述第一视场区域内，脊状隆起结构的第一侧坡面上形成有透光区域，在所述第二视场区域内，脊状隆起结构的第二侧坡面上形成有透光区域；其中，第一侧与第二侧为相对的两侧。2.如权利要求1所述的光栅，其特征在于，在所述第一视场区域内，脊状隆起结构的第一侧坡面的坡度角大于第二侧坡面的坡度角，在所述第二视场区域内，脊状隆起结构的第二侧坡面的坡度角大于第一侧坡面的坡度角。3.如权利要求2所述的光栅，其特征在于，在所述第一视场区域内，第一侧坡面的坡度角为80.7度至85度，第二侧坡面的坡度角为68度至70度；在所述第二视场区域内，第一侧坡面的坡度角为68度至70度，第二侧坡面的坡度角为80.7度至85度。4.如权利要求3所述的光栅，其特征在于，所述脊状隆起结构的高度为5μm至50μm。5.如权利要求1所述的光栅，其特征在于，在所述第一视场区域内，透光区域沿坡面方向的长度小于所述第一侧坡面的坡面长度；在所述第二视场区域内，...

【专利技术属性】
技术研发人员：林家强，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11