光栅及其制作方法、显示基板和显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种光栅及其制作方法、显示基板和显示装置，光栅包括：基底以及形成在所述基底上方的遮光层图案，所述基底包括交替分布的第一视场区域和第二视场区域，所述遮光层图案包括遮光区域和透光区域；在所述第一视场区域内和所述第二视场区域内，所述光栅均包括形成在所述基底上的脊状隆起结构，所述遮光层图案形成在所述脊状隆起结构上；且在所述第一视场区域内，脊状隆起结构的第一侧坡面上形成有透光区域，在所述第二视场区域内，脊状隆起结构的第二侧坡面上形成有透光区域；其中，第一侧与第二侧为相对的两侧。采用本发明专利技术提供的光栅的显示装置具有较小的厚度。

【技术实现步骤摘要】
光栅及其制作方法、显示基板和显示装置
本专利技术属于显示
，特别涉及光栅及其制作方法、显示基板和显示装置。
技术介绍
目前，在显示技术中，双视场显示技术的研究开发成为一个新的热点。所谓双视场显示技术，是指在一个显示屏的两侧(如左右两侧)可看到不同图像的显示技术。现有的双视场显示技术主要是利用在显示面板外侧贴合的光栅实现，如图1所示为现有技术中的一种双视场显示装置的示意图，显示面板包括至少两个显示区域11和12，用于显示不同的画面，在显示面板1前设置遮光图案2，遮光图案2包括交替排列的遮光区域和透光区域，由于遮光图案2的存在，因此，在屏幕的左侧31和右侧32分别仅能看到显示面板的部分显示区域(左侧看到12，右侧看到11)，位于中间的区域33为串扰区，由此可以实现双视场显示。图1中所示的这种双视场显示装置中，为了保证显示效果，需要光栅与显示面板需要保持足够的距离，这样会导致显示装置的整体厚度较大。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种可以降低相应的双视场显示装置厚度的光栅。为了达到上述目的，本专利技术提供了一种光栅，包括：基底以及形成在所述基底上方的遮光层图案，所述基底包括交替分布的第一视场区域和第二视场区域，所述遮光层图案包括遮光区域和透光区域；在所述第一视场区域内和所述第二视场区域内，所述光栅均包括形成在所述基底上的脊状隆起结构，所述遮光层图案形成在所述脊状隆起结构上；且在所述第一视场区域内，脊状隆起结构的第一侧坡面上形成有透光区域，在所述第二视场区域内，脊状隆起结构的第二侧坡面上形成有透光区域；其中，第一侧与第二侧为相对的两侧。优选的，在所述第一视场区域内，脊状隆起结构的第一侧坡面的坡度角大于第二侧坡面的坡度角，在所述第二视场区域内，脊状隆起结构的第二侧坡面的坡度角大于第一侧坡面的坡度角。优选的，在所述第一视场区域内，第一侧坡面的坡度角为60度至85度，第二侧坡面的坡度角为68度至70度；在所述第二视场区域内，第一侧坡面的坡度角为68度至70度，第二侧坡面的坡度角为60度至85度。优选的，所述脊状隆起结构的高度为5至50μm。优选的，在所述第一视场区域内，透光区域沿坡面方向的长度小于所述第一侧坡面的坡面长度；在所述第二视场区域内，透光区域的沿坡面方向的长度小于所述第二侧坡面的坡面长度。优选的，还包括：形成在所述脊状隆起结构以及所述遮光层图案之上的平坦层。本专利技术还提供了一种光栅的制作方法，包括：在基底上形成透明材料层；对所述透明材料层进行图案化，形成脊状隆起结构；在形成了脊状隆起结构的透明基板上形成遮光材料层；对所述遮光材料层进行图案化，在第一区域内的脊状隆起结构的第一侧坡面上形成透光区域；在第二区域内的脊状隆起结构的第二侧坡面上形成透光区域。本专利技术还提供了一种显示基板，其特征在于，包括上述任一项所述的光栅。优选的，还包括形成在所述光栅上的彩色光阻层。优选的，所述彩色光阻层形成在所述脊状隆起结构上的透光区域内。优选的，所述彩色光阻层形成在所述基底上与脊状隆起结构的相反一面上。优选的，当所述光栅包括平坦层时，所述彩色光阻层具体形成在所述平坦层上。本专利技术还提供了一种显示装置，包括上述任一项所述的显示基板。本专利技术提供的光栅中，透光区域形成在脊状隆起结构的斜面上，光栅每一个视场的角度最终由脊状隆起结构的斜面坡度所决定，这样即使光栅距离像素较近，也能够较好的进行双视场显示；从而使得采用本专利技术提供的光栅的显示装置具有较小的厚度。同时，本专利技术的光栅也一改以往平面光栅的设计，提供了一种立体状的光栅。另外，本专利技术的光栅的每一个视场的角度最终由脊状隆起结构的斜面坡度所决定，而在制作过程中，脊状隆起结构的斜面坡度较为容易设计，相应的，脊状隆起结构的制作难度也较低，因此采用本专利技术提供的光栅的多视场显示装置，制作难度较低。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些示例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是现有技术中双视场显示面板的结构示意图图2是本专利技术一实施例提供的一种光栅的结构示意图；图3是本专利技术一实施例提供的一种光栅的结构示意图；图4是图2提供的光栅实现双视场显示的原理示意图；图5为本专利技术一实施例提供的一种光栅的制作方法的流程示意图；图6为图5中步骤S1之后形成的结构的示意图；图7为图5中步骤S2之后形成的结构的示意图；图8为图5中步骤S3之后形成的结构的示意图；图9为图5中步骤S4之后形成的结构的示意图；图10为本专利技术一实施例提供的显示基板的结构示意图；图11为本专利技术一实施例提供的显示基板的结构示意图；图12为本专利技术一实施例提供的显示基板的结构示意图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。本专利技术提供了一种光栅，参见图2和图3，该光栅包括：基底1以及形成在基底1上方的遮光层图案2；其中，基底1包括交替分布的第一视场区域A1和第二视场区域A2；遮光层图案2包括遮光区域和透光区域。在实际应用中，本专利技术实施例中所指的基底1以及脊状隆起结构3都应为透明的结构(比如透明树脂等)，基底1和脊状隆起结构3可以为分别独立形成的两个结构，也可以为一体形成的整体结构。在第一视场区域A1和第二视场区域A2内，还包括形成在基底1上的脊状隆起结构3，遮光层图案2形成在脊状隆起结构3上；且在第一视场区域A1内，在脊状隆起结构3的第一侧坡面(左侧坡面)上形成有透光区域，在第二视场区域A2内，在脊状隆起结构3的第二侧坡面(右侧坡面)上形成有透光区域，在第一视场区域A1和第二视场区域A2中，除透明区域之外的其他区域都为遮光区域(被遮光材料覆盖)。在本专利技术中，第一视场区域A1是指光栅上透过第一画面的区域，相应的，第二视场区域A2是指光栅上透过第二画面的区域，其本身不是为了限定对应区域内的基底1的结构。在具体实施时，这里的每一个第一视场区域A1和每一个第二视场区域A2都可以仅对应于一个子像素，也可以都对应于一个像素。另一方面，每一个显示区域都可以对应于一个脊状隆起结构3，也可以对一个多个脊状隆起结构3。作为优选的实施方案，一个显示区域对应于多个脊状隆起结构3，这样可以使得脊状隆起结构3的高度较低，从而降低光栅的整体厚度。图2和3中示出的是，一个显示区域对应于3个脊状隆起结构3的情况。这里的脊状隆起结构3的截面的形状可以为三角形(参见图2)、梯形(参见图3)或者近似为三角形和梯形的形状(比如半椭圆或者半圆形)。下面结合图2中所示的光栅对本专利技术提供的光栅实现双显示的原理进行说明。如图4所示，对于从第一视场区域入射到脊状隆起结构的各个方向上的光线，仅能通过第一视场区域的透光区域出射，且出射光线中的部分光线受到相邻的脊状隆起结构上的遮光区域的阻挡，最终形成的视场范围为图4中所示的La；相应的，对于从第二视场区域入射到脊状隆起结构的光线，最终形成的视场范围为图4中本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光栅，其特征在于，包括：基底以及形成在所述基底上方的遮光层图案，所述基底包括交替分布的第一视场区域和第二视场区域，所述遮光层图案包括遮光区域和透光区域；在所述第一视场区域内和所述第二视场区域内，所述光栅均包括形成在所述基底上的脊状隆起结构，所述遮光层图案形成在所述脊状隆起结构上；且在所述第一视场区域内，脊状隆起结构的第一侧坡面上形成有透光区域，在所述第二视场区域内，脊状隆起结构的第二侧坡面上形成有透光区域；其中，第一侧与第二侧为相对的两侧。

【技术特征摘要】
1.一种光栅，其特征在于，包括：基底以及形成在所述基底上方的遮光层图案，所述基底包括交替分布的第一视场区域和第二视场区域，所述遮光层图案包括遮光区域和透光区域；在所述第一视场区域内和所述第二视场区域内，所述光栅均包括形成在所述基底上的脊状隆起结构，所述遮光层图案形成在所述脊状隆起结构上；且在所述第一视场区域内，脊状隆起结构的第一侧坡面上形成有透光区域，在所述第二视场区域内，脊状隆起结构的第二侧坡面上形成有透光区域；其中，第一侧与第二侧为相对的两侧。2.如权利要求1所述的光栅，其特征在于，在所述第一视场区域内，脊状隆起结构的第一侧坡面的坡度角大于第二侧坡面的坡度角，在所述第二视场区域内，脊状隆起结构的第二侧坡面的坡度角大于第一侧坡面的坡度角。3.如权利要求2所述的光栅，其特征在于，在所述第一视场区域内，第一侧坡面的坡度角为80.7度至85度，第二侧坡面的坡度角为68度至70度；在所述第二视场区域内，第一侧坡面的坡度角为68度至70度，第二侧坡面的坡度角为80.7度至85度。4.如权利要求3所述的光栅，其特征在于，所述脊状隆起结构的高度为5μm至50μm。5.如权利要求1所述的光栅，其特征在于，在所述第一视场区域内，透光区域沿坡面方向的长度小于所述第一侧坡面的坡面长度；在所述第二视场区域内，...

【专利技术属性】
技术研发人员：林家强，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11