一种金属线栅偏振片基板及其制备方法技术

本发明专利技术实施例公开了一种金属线栅偏振片基板及其制作方法。本方案中，金属线栅的各金属线设置在衬底基板的一侧表面的各个凹槽内，且多条金属线的表面与衬底基板具有凹槽的一侧表面齐平，使得金属线栅偏振片基板的整个表面平整，与现有技术相比，提高了平整度。并且，在生产工艺中，需要在衬底基板上刻蚀凹槽，与现有技术中进行凸起的金属线栅的刻蚀相比，刻蚀凹槽的工艺更加简单可控，从而使得金属线栅的金属线的均匀性更好。

Metal wire grid polarizing plate substrate and preparation method thereof

The embodiment of the invention discloses a metal wire grid polarizing plate base plate and a manufacturing method thereof. In the scheme, the metal wire metal wire grid is arranged on the side surface of the substrate to each groove in the side surface and a plurality of metal wires and a substrate with a groove flush, makes the whole surface of the metal wire grid polarizer substrate level, compared with the existing technology, improve the flatness. And, in the process, need etching on a substrate by metal wire grooves, convex gate etch compared with the prior art, etching groove more simple and controllable, thereby better uniformity of metal wire metal wire grid.

【技术实现步骤摘要】
一种金属线栅偏振片基板及其制备方法
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种金属线栅偏振片基板及其制备方法。
技术介绍
线性偏振片是显示面板中的一个重要器件，可以将自然光变成线性偏振光，偏振光的偏振方向与线性偏振片的偏振方向一致。现有的一种线性偏振片如图1所示，为金属线栅偏振片(WireGripPolarizer，WGP)的结构，包括衬底基板011，位于衬底基板011上的金属线栅012，覆盖金属线栅012的保护层013。其中，金属线栅012包括由一排平行的金属线121，沿金属线121的方向为透射方向，入射光可分解为振动方向与透射方向平行的光和振动方向与透射方向垂直的光，振动方向与透射方向垂直的光无法透过，振动方向与透射方向平行的光可以透过，因而可以得到沿透射方向偏振的线性偏振光。图1所示的金属线栅偏振片基板的结构中，实际生产工艺中，由于金属线栅012是相对衬底基板凸起的结构，即使覆盖了较厚的保护层013，在偏振片的表面实际仍然会存在凹凸不平的问题，平整度较差。
技术实现思路
本专利技术实施例的目的是提供一种金属线栅偏振片基板及其制作方法，用于解决现有的金属线栅偏振片的表面平整度较差的问题。本专利技术实施例的目的是通过以下技术方案实现的：一种金属线栅偏振片基板，包括：衬底基板和金属线栅；其中，所述金属线栅由平行排列的多条金属线构成，用于使透过的光成为线性偏振光；所述衬底基板的一侧表面具有多个凹槽，所述多条金属线分别设置于所述衬底基板的多个凹槽内，且所述多条金属线的表面与所述衬底基板具有凹槽的一侧表面齐平。较佳地，所述金属线栅的材料为铝、钛或者银。较佳地，所述金属线的线宽的范围是50～200nm；所述金属线的厚度的范围是50～400nm。较佳地，还包括覆盖所述金属线栅的保护层。较佳地，还包括位于所述保护层上的薄膜晶体管TFT阵列。一种如以上任一项所述的金属线栅偏振片基板的制作方法，该方法包括：采用构图工艺在所述衬底基板的一侧表面刻蚀多个凹槽的图形；在所述衬底基板刻蚀有多个凹槽的图形的表面上覆盖一整层金属薄膜；所述金属薄膜的厚度大于所述凹槽的深度；至少将所述金属薄膜凸出于所述衬底基板的表面减薄，以形成设置于所述衬底基板的多个凹槽内的金属线栅的图形；其中，所述金属线栅由平行排列的多条金属线构成；所述多条金属线分别设置于所述衬底基板的多个凹槽内；所述多条金属线的表面与所述衬底基板具有凹槽的一侧表面齐平。较佳地，至少将所述金属薄膜凸出于所述衬底基板的表面减薄，包括：将所述金属薄膜减薄的同时，将所述衬底基板刻蚀有凹槽图形的一侧表面减薄。较佳地，至少将所述金属薄膜凸出于所述衬底基板的表面减薄，包括：利用化学机械研磨技术，至少将所述金属薄膜凸出于所述衬底基板的表面减薄。较佳地，所述采用构图工艺在所述衬底基板的一侧表面刻蚀多个凹槽的图形，包括：在所述衬底基板的一侧表面涂覆光刻胶层，并对所述光刻胶层曝光显影，形成与凹槽的图形对应的图形；利用所述光刻胶层中与凹槽的图形对应的图形和干法刻蚀工艺，对所述衬底基板的一侧表面进行刻蚀，形成多个凹槽的图形。较佳地，在所述衬底基板刻蚀有多个凹槽的图形的表面上覆盖一整层金属薄膜，包括：利用低压化学气相沉积技术，在所述衬底基板刻蚀有多个凹槽的图形的表面上沉积一整层金属薄膜。本专利技术实施例的有益效果如下：本专利技术实施例提供的金属线栅偏振片基板及其制作方法中，金属线栅的各金属线设置在衬底基板的一侧表面的各个凹槽内，且多条金属线的表面与衬底基板具有凹槽的一侧表面齐平，使得金属线栅偏振片基板的整个表面平整，与现有技术相比，提高了平整度。并且，在生产工艺中，需要在衬底基板上刻蚀凹槽，与现有技术中进行凸起的金属线栅的刻蚀相比，刻蚀凹槽的工艺更加简单可控，从而使得金属线栅的金属线的均匀性更好。附图说明图1为现有技术中的一种金属线栅偏振片基板的结构示意图。图2为本专利技术实施例提供的一种金属线栅偏振片基板的结构示意图之一；图3为本专利技术实施例提供的一种衬底基板的凹槽的结构示意图；图4为本专利技术实施例提供的一种金属线栅偏振片基板的俯视图；图5为本专利技术实施例提供的一种金属线栅偏振片基板的结构示意图之二；图6为本专利技术实施例提供的一种金属线栅偏振片基板的制作方法流程图；图7a～图7d为本专利技术实施例提供的一种金属线栅偏振片基板的制作过程中的结构示意图。具体实施方式下面结合附图和实施例对本专利技术提供的一种金属线栅偏振片基板及其制作方法进行更详细地说明。本专利技术实施例提供一种金属线栅偏振片基板，如图2和图3所示，包括：衬底基板021和金属线栅022；其中，金属线栅022由平行排列的多条金属线221构成，用于使透过的光成为线性偏振光；衬底基板021的一侧表面具有多个凹槽211，多条金属线221分别设置于衬底基板021的多个凹槽211内，且多条金属线221的表面与衬底基板021具有凹槽的一侧表面齐平。假设图2中衬底基板021具有凹槽的一侧表面为上表面，从图中可以看出，多条金属线221的上表面与衬底基板021的上表面齐平。图4中示出了衬底基板021的凹槽内设置金属线221的俯视图。本专利技术实施例中，金属线栅的各金属线设置在衬底基板的一侧表面的各个凹槽内，且多条金属线的表面与衬底基板具有凹槽的一侧表面齐平，使得金属线栅偏振片基板的整个表面平整，与现有技术相比，提高了平整度。并且，在生产工艺中，需要在衬底基板上刻蚀凹槽，与现有技术中进行凸起的金属线栅的刻蚀相比，刻蚀凹槽的工艺更加简单可控，从而使得金属线栅的金属线的均匀性更好。具体实施时，较佳地，金属线的线宽的范围是50～200nm；金属线的厚度的范围是50～400nm。较佳地，金属线的线宽为50nm；金属线的厚度为200nm。具体实施时，金属线栅的材料有多种，较佳地，金属线栅的材料为白色的金属。较佳地，金属线栅的材料可以但不限于为铝、钛或者银。具体实施时，较佳地，如图5所示，还包括覆盖金属线栅022的保护层023。由于金属线栅偏振片基板表面非常平整，与上述现有技术的方案相比，覆盖的保护层023的厚度可以较薄，即保护层的厚度可以小于预设厚度，只要能够对金属线栅022起到保护作用即可，本实施例中，不仅节省制程时间，而且覆盖性好，基板表面平坦性好。具体实施时，较佳地，如图5所示，还包括位于保护层023上的薄膜晶体管(ThinFilmTransistor，TFT)阵列024。本实施例中，可以直接在金属线栅偏振片基板上进行TFT阵列024的制作，也就是说，采用同一衬底基板进行金属线栅偏振片和TFT阵列的制作，节省材料。这样，金属线栅偏振片基板的尺寸可以按照需要制备的显示面板的尺寸进行设置。基于同样的专利技术构思，本专利技术实施例还提供一种如以上任意实施例的金属线栅偏振片基板的制作方法，如图6所示，该方法至少包括如下步骤：步骤610、采用构图工艺在衬底基板的一侧表面刻蚀多个凹槽的图形。步骤620、在衬底基板刻蚀有多个凹槽的图形的表面上覆盖一整层金属薄膜；金属薄膜的厚度大于凹槽的深度。步骤630、至少将金属薄膜凸出于衬底基板的表面减薄，以形成设置于衬底基板的多个凹槽内的金属线栅的图形；其中，金属线栅由平行排列的多条金属线构成；多条金属线分别设置于衬底基板的多个凹槽内；多条金属线的表面与衬底基板具有凹槽的一侧表面齐平。本发本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种金属线栅偏振片基板，其特征在于，包括：衬底基板和金属线栅；其中，所述金属线栅由平行排列的多条金属线构成，用于使透过的光成为线性偏振光；所述衬底基板的一侧表面具有多个凹槽，所述多条金属线分别设置于所述衬底基板的多个凹槽内，且所述多条金属线的表面与所述衬底基板具有凹槽的一侧表面齐平。

【技术特征摘要】
1.一种金属线栅偏振片基板，其特征在于，包括：衬底基板和金属线栅；其中，所述金属线栅由平行排列的多条金属线构成，用于使透过的光成为线性偏振光；所述衬底基板的一侧表面具有多个凹槽，所述多条金属线分别设置于所述衬底基板的多个凹槽内，且所述多条金属线的表面与所述衬底基板具有凹槽的一侧表面齐平。2.如权利要求1所述的金属线栅偏振片基板，其特征在于，所述金属线栅的材料为铝、钛或者银。3.如权利要求1所述的金属线栅偏振片基板，其特征在于，所述金属线的线宽的范围是50～200nm；所述金属线的厚度的范围是50～400nm。4.如权利要求1～3任一项所述的金属线栅偏振片基板，其特征在于，还包括覆盖所述金属线栅的保护层。5.如权利要求4所述的金属线栅偏振片基板，其特征在于，还包括位于所述保护层上的薄膜晶体管TFT阵列。6.一种如权利要求1～5任一项所述的金属线栅偏振片基板的制作方法，其特征在于，该方法包括：采用构图工艺在所述衬底基板的一侧表面刻蚀多个凹槽的图形；在所述衬底基板刻蚀有多个凹槽的图形的表面上覆盖一整层金属薄膜；所述金属薄膜的厚度大于所述凹槽的深度；至少将所述金属薄膜凸出于所述衬底基板的表面减薄，以形成设置于所述衬底基板的多...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵磊，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11