涂覆制品、电沉积浴及相关系统技术方案

本文描述涂覆制品、电沉积浴及相关系统。所述制品可包括基材及在其上形成的包含银的涂层。在一些实施方案中，所述涂层包含银基合金，例如银‑钨合金。所述涂层可呈现合意的性质及特征，例如耐久性(例如，磨损)、硬度、耐腐蚀性及高导电性，这在例如电应用及/或电子应用中可为有益的。在一些情况下，所述涂层可使用电沉积方法施加。

Coated articles, electrodeposition baths, and related systems

This article describes coated products, electrodeposition baths, and related systems. The article may include a base material and a coating comprising silver thereon formed thereon. In some embodiments, the coating containing silver alloy, such as silver tungsten alloy. The coating may exhibit desirable properties and characteristics such as durability (e.g., wear), hardness, corrosion resistance, and high electrical conductivity, which may be useful in electrical applications and / or electronic applications. In some cases, the coating may be applied by an electrodeposition method.

【技术实现步骤摘要】
涂覆制品、电沉积浴及相关系统
概括来说，本专利技术涉及涂覆制品、电沉积浴及相关系统。在一些实施方案中，涂层是金属性的并且电沉积而成。
技术介绍
许多类型的涂层可施加于基材上。电沉积是沉积此类涂层的常见技术。电沉积通常涉及向置于电沉积浴中的基材施加电压，以便使浴中的金属离子物质还原而以金属或金属合金涂层的形式沉积于基材上。电压可使用电源在阳极与阴极之间施加。阳极或阴极中的至少一者可作为待涂覆的基材。在一些电沉积方法中，电压可作为复合波形施加，例如在脉冲沉积、交流电沉积或反向脉冲沉积中。贵金属及贵金属合金涂层可使用例如电沉积等方法沉积。在一些应用中，涂层会由于重复摩擦表面而至少部分磨损。所述效应可能是不希望的，尤其当至少部分施加涂层以便改善导电性时，因为这种效应可增加涂层的电阻。
技术实现思路
本专利技术提供涂覆制品、电沉积浴及制品。在一个方面中，提供浴。浴包含银离子物质、钨及/或钼离子物质以及氢氧化钠，其中，浴适合用于电沉积方法。在另一个方面中，提供浴。浴包含银离子物质、钨及/或钼离子物质以及选自2,2-联吡啶及3-甲酰基-1-(3-磺酸根丙基)吡啶鎓的增亮剂。在一个方面中，提供电沉积系统本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种浴，其包含：银离子物质；钨及/或钼离子物质；及氢氧化钠，其中，所述浴适合用于电沉积方法。

【技术特征摘要】
2011.09.14 US 13/232,261;2011.09.14 US 13/232,2911.一种浴，其包含：银离子物质；钨及/或钼离子物质；及氢氧化钠，其中，所述浴适合用于电沉积方法。2.根据权利要求50所述的浴，其中，所述浴的pH小于约8.0。3.根据权利要求50所述的浴，其中，所述浴的...

【专利技术属性】
技术研发人员：娜兹拉·戴德范德，约翰·杜索，乔纳森·C·特伦克尔，艾伦·C·伦德，约翰·克海伦，克里斯托弗·A·舒，
申请(专利权)人：克斯塔里克公司，
类型：发明
国别省市：美国,US