清洗装置制造方法及图纸

清洗装置(1)具有：加热单元(5)，其对基板(W)的清洗面进行加热；清洗单元(6)，其向基板(W)的清洗面供给臭氧水而对清洗面进行清洗；以及控制单元(7)，其对清洗面的加热和清洗液的供给进行控制，以使得在对基板(W)的清洗面进行了加热之后对清洗面进行清洗。

Cleaning device

The cleaning device (1) has a heating unit (5), the substrate (W) surface cleaning and heating; cleaning unit (6), the substrate (W) cleaning the surface ozone water supply for cleaning the cleaning surface; and a control unit (7), control the supply of clean surface heating and cleaning liquid, so that the substrate (W) after cleaning the surface of heating on the surface cleaning cleaning.

【技术实现步骤摘要】
清洗装置
本专利技术涉及向清洗对象物的清洗面供给清洗液而对清洗面进行清洗的清洗装置，涉及提高清洗液的清洗效果的技术。
技术介绍
以往，公知有如下的清洗装置：向清洗对象物的清洗面供给清洗液而对清洗面进行清洗。这样的清洗装置例如在半导体、液晶面板等平板显示器的制造工序中在将抗蚀剂剥离(溶解)的处理中使用(例如参照专利文献1)。以往，在将抗蚀剂剥离(溶解)的处理中，使用药液作为清洗水，但近年来，从对环境的影响等观点出发，要求降低药液的使用量，开始使用臭氧来取而代之。臭氧具有将有机物溶解的能力，能够将作为有机物的抗蚀剂去除。通常情况下，使臭氧溶解于纯水等而作为臭氧水供给至基板。然而，由于臭氧不溶入高温状态(例如，在大气压下为60℃以上)的纯水，因此准备高浓度且高温的臭氧水是非常困难的。因此，在以往的清洗装置中，通常在常温下使用作为清洗液的臭氧水。专利文献1：日本特开平4-179225号公报然而，近年来，多数情况下使用被注入了高浓度离子的抗蚀剂，在以往的清洗装置中，将这样的抗蚀剂剥离是很困难的。并且，近年来，为了提高吞吐量而要求抗蚀剂的去除速率的进一步的提高。因此，要求清洗装置的清洗效果的进一步的提高，例如优选清洗液(臭氧水)的反应速度较快的高温下的清洗处理(抗蚀剂剥离处理)的实现。
技术实现思路
本专利技术是鉴于上述的课题而完成的，其目的在于，提供能够通过高温的清洗液来提高清洗效果的清洗装置。用于解决课题的手段本专利技术的清洗装置具有：加热单元，其对清洗对象物的清洗面进行加热；清洗单元，其向所述清洗对象物的清洗面供给清洗液而对所述清洗面进行清洗；以及控制单元，其对所述清洗面的加热和所述清洗液的供给进行控制，以使得在对所述清洗面进行了加热之后对所述清洗面进行清洗。根据该结构，通过控制单元对清洗面的加热和清洗液的供给进行控制，在通过加热单元对清洗面进行了加热之后，通过清洗单元对清洗面进行清洗。由此，通过加热后的清洗面对供给至清洗面的清洗液进行加热，通过高温的清洗液来提高清洗效果。并且，在本专利技术的清洗装置中，也可以是，所述清洗液是通过使规定的物质溶解于溶剂而形成的，所述清洗单元以比所述物质不溶解于所述溶剂的临界温度低的温度将所述清洗液供给至所述清洗面，所述加热单元将所述清洗面加热到比所述临界温度高的温度。根据该结构，通过加热单元将清洗面加热到比临界温度(物质不溶解于溶剂的温度)高的温度。清洗液虽然被清洗单元以比临界温度低的温度供给至清洗面，但在供给至清洗面之后，由加热后的清洗面加热到比临界温度高的温度。这样，通过加热后的清洗面将供给至清洗面的清洗液加热到比临界温度高的温度，能够得到通常情况下(比临界温度低的温度的清洗液)无法得到的较高的清洗效果。并且，也可以是，本专利技术的清洗装置具有流体帘单元，该流体帘单元产生对所述清洗面的周围进行覆盖的流体帘。根据该结构，通过流体帘对清洗面的周围进行覆盖，能够防止供给至清洗面的清洗液等逸出到清洗面的周围，提高清洗液的清洗效果。并且，也可以是，本专利技术的清洗装置具有：臂部件，其设置有所述加热单元和所述清洗单元；以及驱动单元，其使所述臂部件摆动或者平行移动，以使得所述加热单元和所述清洗单元在所述清洗面上往复运动。根据该结构，通过驱动单元使臂部件摆动或者平行移动，设置于臂部件的加热单元和清洗单元一同在清洗面上往复运动。由此，对于清洗面的整体，能够在通过加热单元对清洗面进行加热之后，通过清洗单元对清洗面进行清洗。并且，在本专利技术的清洗装置中，也可以是，所述驱动单元使所述臂部件摆动或者平行移动，以使得所述清洗单元在所述加热单元所移动的移动路线上移动。根据该结构，通过驱动单元使臂部件摆动或者平行移动，清洗单元在加热单元所移动的移动路线上移动。通过以这种方式使清洗单元移动，而能够在通过加热单元对清洗面进行加热之后，通过清洗单元对清洗面进行清洗。并且，在本专利技术的清洗装置中，也可以是，在所述清洗单元移动的移动路线上配置有所述加热单元。根据该结构，在清洗单元移动的移动路线上配置有加热单元。通过以这种方式配置加热单元，而能够在通过加热单元对清洗面进行加热之后，通过清洗单元对清洗面进行清洗。专利技术效果根据本专利技术，能够通过加热后的清洗面对供给至清洗面的清洗液进行加热，能够通过高温的清洗液来提高清洗效果。附图说明图1是本专利技术的第一实施方式中的清洗装置的结构的说明图。图2是本专利技术的第二实施方式中的清洗装置的结构的说明图。图3是本专利技术的第二实施方式中的清洗装置的变形例的说明图。图4是本专利技术的第三实施方式中的清洗装置的结构的说明图。图5是本专利技术的第四实施方式中的清洗装置的结构的说明图。图6是本专利技术的第五实施方式中的清洗装置的结构的说明图。图7是本专利技术的第六实施方式中的清洗装置的结构的说明图。图8是本专利技术的第七实施方式中的清洗装置的结构的说明图。具体实施方式以下，关于本专利技术实施方式的清洗装置，使用附图进行说明。在本实施方式中，例示出在半导体、液晶面板等平板显示器的制造工序中的抗蚀剂剥离处理、CMP装置的基板清洗处理等所使用的清洗装置的情况。(第一实施方式)参照附图对本专利技术的第一实施方式的清洗装置的结构进行说明。图1是表示本实施方式的清洗装置的结构的说明图。如图1所示，清洗装置1具有旋转工作台2、加热单元3以及清洗单元4。在旋转工作台2载置有作为清洗对象物的基板W。一边通过旋转工作台2使基板W旋转一边进行基板W的清洗处理。加热单元3具有加热喷嘴5，该加热喷嘴5喷射对基板W的清洗面进行加热的水蒸气。清洗单元4具有清洗喷嘴6，该清洗喷嘴6向基板W的清洗面供给作为清洗液的臭氧水而对清洗面进行清洗。加热单元3和清洗单元4与控制单元7连接。控制单元7对清洗面的加热和臭氧水的供给进行控制，以使得在对清洗面进行加热之后对清洗面进行清洗。在本实施方式中，控制单元7对从加热喷嘴5喷射水蒸气的时机和从清洗喷嘴6供给臭氧水的时机进行控制，以使得在对清洗面进行加热之后对清洗面进行清洗。即，当开始进行基板W的清洗处理时，对清洗面的加热和臭氧水的供给的时机进行控制，以使得首先从加热喷嘴5喷射水蒸气，然后从清洗喷嘴6供给臭氧水。并且，在本实施方式中，清洗装置1具有流体帘单元8，该流体帘单元8产生对基板W的清洗面的周围进行覆盖的流体帘C。流体帘C是例如水帘、气帘。通过该流体帘C，能够防止从加热喷嘴5喷射的水蒸气、从清洗喷嘴6供给的臭氧水逸出到基板W的清洗面的周围(外侧)。加热单元3、清洗单元4以及流体帘单元8设置于臂部件9。通过使臭氧溶解于纯水而形成作为清洗液的臭氧水。臭氧几乎不溶入比规定的临界温度(在大气压下为60℃)高温的纯水。在本实施方式中，清洗单元4以比该临界温度低的温度将臭氧水供给至清洗面。因此，能够向清洗面供给臭氧充分溶入的高浓度的臭氧水。并且，加热单元3将清洗面加热到比该临界温度高的温度。例如，通过从加热喷嘴5向清洗面喷射比临界温度高温的水蒸气(例如，150℃的水蒸气)，而将清洗面加热到比临界温度高的温度。通过清洗面将向清洗面供给的臭氧水加热到比临界温度高的温度。另外，也可以从加热喷嘴5喷射比临界温度高温的热水(例如，80℃的热水)。在本实施方式中，对于载置在旋转工作台2的基板W的中心部，从加热喷嘴5喷射水蒸气，从清洗喷嘴6供给臭氧水。在该情况本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种清洗装置，其特征在于，具有：加热单元，该加热单元对清洗对象物的清洗面进行加热；清洗单元，该清洗单元向所述清洗对象物的清洗面供给清洗液而对所述清洗面进行清洗；以及控制单元，该控制单元对所述清洗面的加热和所述清洗液的供给进行控制，以使得在对所述清洗面进行了加热之后对所述清洗面进行清洗。

【技术特征摘要】
2016.01.07 JP 2016-0017511.一种清洗装置，其特征在于，具有：加热单元，该加热单元对清洗对象物的清洗面进行加热；清洗单元，该清洗单元向所述清洗对象物的清洗面供给清洗液而对所述清洗面进行清洗；以及控制单元，该控制单元对所述清洗面的加热和所述清洗液的供给进行控制，以使得在对所述清洗面进行了加热之后对所述清洗面进行清洗。2.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗液是通过使规定的物质溶解于溶剂而形成的，所述清洗单元以比所述物质不溶解于所述溶剂的临界温度低的温度将所述清洗液供给至所述清洗面，所述加热单元将所述清洗面加热...

【专利技术属性】
技术研发人员：小泽卓，横山俊夫，户川哲二，
申请(专利权)人：株式会社荏原制作所，
类型：发明
国别省市：日本,JP