自动补水式纳米水离子发生装置及方法制造方法及图纸

技术编号:15794163 阅读:100 留言:0更新日期:2017-07-10 07:25
本发明专利技术提供了一种自动补水式纳米水离子发生装置,包括补水装置和纳米水离子发生装置,所述补水装置包括连通器;所述连通器两端分别设置纳米水离子发生装置和补水箱;所述补水箱上设置有自动排液机构。所述自动排液机构为水箱盖;所述补水箱通过水箱盖密封后倒扣在连通器一端形成的水箱槽内;所述水箱盖包括供水密封板、弹簧、盖子密封件和盖子销;所述供水密封板上设置有出水通道;盖子销的上端设置有直径大于出水通道的盖子密封件;所述盖子销上套装弹簧,弹簧的一段抵住盖子销下端的凸起,弹簧的另外一端抵住供水密封板的下侧面;盖子销的下端设置有位置固定的补水棒。纳米水离子发生装置包括分别与高压放电模块电连接的放电电极和对置电极。

【技术实现步骤摘要】
自动补水式纳米水离子发生装置及方法
本专利技术涉及一种自动补水式纳米水离子发生装置及方法,属于空气净化和美容美发领域。
技术介绍
纳米水离子,即带负电的微小水粒子,性能稳定,可传递的范围广,且因为其粒径小,当纳米水离子接触到目标物(如食物、皮肤、头发等)的表面后会渗透到目标物品中,起到抑制细菌、祛除异味、深层清洁、滋润保湿等作用。鉴于具有生物活性、粒径小、性能稳定、呈弱酸性等特点,纳米水离子越来越被人们青睐,尤其在环境优化、护肤美发、疗养养生等领域。目前,既有的纳米水离子发生装置主要存在以下两大不足:(1)一些采用半导体制冷,直接凝结空气中的水蒸气获得水源,但在冬季温湿度较低的气候条件下,很难冷凝制得持续的水源。(2)一些直接采用外界加水的方式,由于供水方式的局限,很难保证放电端获得稳定的水源,导致放电不稳定。本专利技术提供一种自动补水式纳米水离子发生装置能全面解决以上的问题,内设自动补水装置,能保证放电端获得持续稳定的水源。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供一种自动补水式纳米水离子发生装置及方法,利用持续不断的进行水分补给完成持续制造纳米水离子。为解决上述技术问题,本专利技术提供一种自动补水式纳米水离子发生装置,包括补水装置和纳米水离子发生装置,所述补水装置包括连通器;所述连通器两端分别设置纳米水离子发生装置和补水箱;所述补水箱上设置有自动排液机构。作为对一种自动补水式纳米水离子发生装置的改进:所述自动排液机构为水箱盖;所述补水箱通过水箱盖密封后倒扣在连通器一端形成的水箱槽内;所述水箱盖包括供水密封板、弹簧、盖子密封件和盖子销;所述供水密封板上设置有出水通道;所述盖子销的上端设置有直径大于出水通道的盖子密封件;所述盖子销上套装弹簧,所述弹簧的一段抵住盖子销下端的凸起,所述弹簧的另外一端抵住供水密封板的下侧面;所述弹簧的下端设置有位置固定的补水棒。作为对一种自动补水式纳米水离子发生装置的进一步改进:所述纳米水离子发生装置包括分别与高压放电模块电连接的放电电极和对置电极;所述放电电极的外侧面设置有吸水件,其通过固定件固定在连通器另外一端形成的供水槽内;所述固定件低于连通器内液位线所在的水平面。作为对一种自动补水式纳米水离子发生装置的进一步改进:所述供水槽上端设置有挡水盖板;所述放电电极的上端贯穿挡水盖板;所述挡水盖板的位置高于连通器内液位线所在的水平面。作为对一种自动补水式纳米水离子发生装置的进一步改进:所述放电电极和对置电极设置在风道系统内。作为对一种自动补水式纳米水离子发生装置的进一步改进:所述风道系统包括壳体;所述壳体内的下端设置有贯穿壳体侧壁的进风口,所述进风口上设置有风机;所述壳体的上端设置有出风口;所述进风口和出风口之间的空间构成风道;所述补水棒的下端与壳体的底端相互固定。作为对一种自动补水式纳米水离子发生装置的进一步改进:所述对置电极采用环状设计,设置在放电电极的正上方,所述对置电极的圆心在放电电极的中心线上。作为对一种自动补水式纳米水离子发生装置的进一步改进:所述吸水件为吸水性材料制成;所述挡水盖板采用绝缘材料制成;所述放电电极和对置电极均采用导电材料制成。一种自动补水式纳米水离子发生方法:包括补水步骤和纳米水离子发生步骤;所述自动补水步骤如下:内置液体的补水箱以水箱盖密封后,倒置放入水箱槽内;补水棒抵住盖子销的下端,盖子密封件与出水通道的密封状态解除;放电电极通过吸水件吸附供水槽内的水分;随着放电电极制造纳米水离子不断消耗水分,供水槽内的液位线从初始状态开始下降,带动水箱槽内的液位线下降;空气通过水箱槽与补水箱之间的空隙进入,并进入补水箱内,将内置的液体排出;水箱槽的液位线回复到初始状态,盖子密封件与出水通道之间重新完成密封。作为对本专利技术所述的一种自动补水式纳米水离子发生方法的进一步改进:所述纳米水离子发生方法步骤如下:高压放电模块,对放电电极和对置电极之间施加高压电,驱动放电电极放电,放电电极表面的水向着对置电极的方向凸起而形成泰勒锥,随着泰勒锥电荷密度的增加,放电电极尖端的水被分解生成纳米粒径的带电水粒子。本专利技术采用连通器原理,完成自动化的补水,并在放电电极上设置有吸水件,通过虹吸原理完成放电电极的自动吸水功能。进一步的,在实施的时候,一旦连通器中一端的水位下降的时候,另外一端即通过相关设备进行自动化的补水,使其始终保持液位平衡,不间断的实现补水功能。而本专利技术的这种设置有别于现有的机构中的外界被动式加水设置,不通过外界的驱动设备,就能实现自动化的加水,同时保证水位高度恒定,以提供稳定的水源。附图说明下面结合附图对本专利技术的具体实施方式作进一步详细说明。图1是本专利技术的自动补水式纳米水离子发生装置的示意图。图2是图1中补水装置和纳米水离子发生装置的具体结构示意图;图3是图2中供水密封板141的仰视图。具体实施方式实施例1、本专利技术给出一种自动补水式纳米水离子发生装置及方法。该自动补水式纳米水离子发生装置包括风机1、壳体2、连通管3、供水槽4、固定件5、放电电极6、吸水件7、高压放电模块8、挡水盖板9、对置电极10、出风口11、水箱槽12、补水箱13、水箱盖14、补水棒15以及进风口16。如图1和图2所示,壳体2设有进风口16和出风口11,其他部位密闭,因此,在壳体2内形成风道,在进风口16处设置风机1,通过风机1引入外部气体,并从出风口11送出。本专利技术的水箱槽12和供水槽4之间通过连通管3形成连通器,通过连通器效应,保持水箱槽12和供水槽4的水位,并通过在水箱槽12内设置自动排液机构保持水位,以此来确保供水槽4内的水位平衡。该自动排液机构为设置在补水箱13上的水箱盖14;水箱槽12的上端开口,补水箱13的上端加盖水箱盖14后倒置入水箱槽12内。该水箱盖14由供水密封板141、弹簧142、盖子密封件143和盖子销144构成。供水密封板141的侧边设置有与补水箱13上端内侧相吻合的螺纹;供水密封板141中心部位设置有出水通道,该出水通道内设置有盖子销144,盖子销144的上端固定有直径大于出水通道的盖子密封件143,在盖子销144上套装弹簧142,弹簧142的下端抵住盖子销144下端的凸起,弹簧142的上端抵住供水密封板141的下侧面,正常的状态,盖子密封件143通过弹簧142的弹力,保持将出水通道封闭的状态,一旦外力抵消掉弹簧142的弹力之后,弹簧142压缩,此时盖子密封件143向上移动,将出水通道露出,补水箱13内的水在压力的作用下,进入到水箱盖14和水箱槽12底面之间形成的空腔内。补水箱13可从壳体2内取出,补水箱13内的水消耗完毕之后,只要将其取出,重新加入适量水后就可以重复使用。而在盖子销144的下端设置补水棒15,该补水棒15为固定状态,在补水箱13倒置的时候,其补水棒15上端抵住盖子销144的下端,使得出水通道和盖子密封件143之间不再密封,一旦水箱槽12内的液位线下降的时候,空气会通过水箱槽12和补水箱13之间的缝隙进入补水箱13,并挤压补水箱13内的液体,使得水箱槽12内的液位线回复到初始状态,此时,出水通道和盖子密封件143之间重新完成密封。以上所述的放电电极6通过固定件5固定在供水槽4内,该供水槽4上端设置挡水盖板9(为了防止在不正常使用的时候供水槽4内的水溢出)本文档来自技高网...
自动补水式纳米水离子发生装置及方法

【技术保护点】
一种自动补水式纳米水离子发生装置,包括补水装置和纳米水离子发生装置,其特征在于:所述补水装置包括连通器;所述连通器两端分别设置纳米水离子发生装置和补水箱(13);所述补水箱(13)上设置有自动排液机构。

【技术特征摘要】
1.一种自动补水式纳米水离子发生装置,包括补水装置和纳米水离子发生装置,其特征在于:所述补水装置包括连通器;所述连通器两端分别设置纳米水离子发生装置和补水箱(13);所述补水箱(13)上设置有自动排液机构。2.按照权利要求1所述的一种自动补水式纳米水离子发生装置,其特征在于:所述自动排液机构为水箱盖(14);所述补水箱(13)通过水箱盖(14)密封后倒扣在连通器一端形成的水箱槽(12)内;所述水箱盖(14)包括供水密封板(141)、弹簧(142)、盖子密封件(143)和盖子销(144);所述供水密封板(141)上设置有出水通道;所述盖子销(144)的上端设置有直径大于出水通道的盖子密封件(143);所述盖子销(144)上套装弹簧(142),所述弹簧(142)的一段抵住盖子销(144)下端的凸起,所述弹簧(142)的另外一端抵住供水密封板(141)的下侧面;所述盖子销(144)的下端设置有位置固定的补水棒(15)。3.按照权利要求2所述的一种自动补水式纳米水离子发生装置,其特征在于:所述纳米水离子发生装置包括分别与高压放电模块(8)电连接的放电电极(6)和对置电极(10);所述放电电极(6)的外侧面设置有吸水件(7),其通过固定件(5)固定在连通器另外一端形成的供水槽(4)内;所述固定件(5)低于连通器内液位线所在的水平面。4.按照权利要求3所述的一种自动补水式纳米水离子发生装置,其特征在于:所述供水槽(4)上端设置有挡水盖板(9);所述放电电极(6)的上端贯穿挡水盖板(9);所述挡水盖板(9)的位置高于连通器内液位线所在的水平面。5.按照权利要求4所述的一种自动补水式纳米水离子发生装置,其特征在于:所述放电电极(6)和对置电极(10)设置在风道系统内。6.按照权利要求5所述的一种自动补水式纳米水离子发生装置,其特征在于:所述风道系统包括壳体(2);所述壳体(2)内设置有贯穿壳体(2)侧壁的...

【专利技术属性】
技术研发人员:唐峰姜峰周琪陈海波
申请(专利权)人:杭州大湛机电科技有限公司
类型:发明
国别省市:浙江,33

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