一种高纯石英砂酸洗装置制造方法及图纸

技术编号:15715171 阅读:279 留言:0更新日期:2017-06-28 11:36
本实用新型专利技术涉及一种高纯石英砂酸洗装置,包括罐体和超声雾化装置,罐体左上方设有进料口,右下方设有出料口;罐体下方酸液室设有进酸口和出酸口,用于循环排出含有杂质的酸液;罐体内部安装有耐强酸腐蚀的滤板,用于石英砂的放置,滤板上分布有大小均匀的滤孔;所述超声雾化装置包括超声波加湿器、功率控制钮、压电晶片、偶合水、PVC薄膜,所述功率控制钮可根据物料的特点进行功率的调节。本实用新型专利技术结构简单,操作简便,雾化后的酸洗液对石英砂进行动态浸洗,提高了酸洗效果和工作效率;并且该酸洗装置不需要对石英砂完全浸没,减小了酸液的消耗量,节约成本;同时,避免了搅拌过程罐壁磨损带来的杂质脱落而引起的二次污染。

High purity quartz sand pickling device

The utility model relates to a high purity quartz sand washing device, which comprises a tank body and an ultrasonic atomization device, the upper left inlet, right below the material outlet; the lower chamber is provided with an acid acid inlet and an acid outlet, for circulating discharge impurity containing acid; a filter plate corrosion resistance the installation of the tank body, used for the placement of quartz sand filter, pore size distribution and uniform filter plate; the ultrasonic atomizing device comprises an ultrasonic humidifier, power control, piezoelectric coupling, water, PVC film, the power control knob can be adjusted according to the material characteristics of the power. The utility model has the advantages of simple structure, convenient operation, pickling liquid atomization after dynamic immersion of quartz sand, improve the pickling effect and work efficiency; and the pickling device does not need to completely immersed quartz sand, reduces the consumption of acid liquid saving cost; at the same time, to avoid the mixing process of tank wall wear caused by impurities fall two times pollution caused by.

【技术实现步骤摘要】
一种高纯石英砂酸洗装置
本技术涉及一种石英砂提纯清洗设备,具体涉及一种高纯石英砂酸洗装置。
技术介绍
高纯石英砂是指SiO2含量高于99.99%的石英粉体,是作为石英坩埚和石英玻璃的主要原料。同时,其高档产品也广泛应用于大规模和超大规模集成电路、光纤、太阳能电池、激光、航天等行业中,随着这些高科技行业的迅速发展,对石英砂的生产,特别是纯度的提高提出了更高的要求。近几年,高纯石英砂的制备技术依然被美国、德国等垄断,并且限制了技术和出口,我国一些企业在石英砂的提纯和规模化开采依然处于艰难的探索阶段。目前,国内生产高纯石英砂的主要工艺为:破碎-磨矿-磁选-浮选-酸浸-强磁选-去离子水洗涤-过滤-烘干等。其中石英砂酸洗主要通过常温静态浸泡和加热搅拌清洗。常温静态浸泡是一种静态清洗过程,去杂速度慢,残留杂质多,不能有效地达到清洗效果;加热搅拌清洗虽然能够提升酸洗效果,但是酸洗过程中易磨损容器壁,杂质脱落容易造成二次污染,也缩短了设备的实用寿命。同时,二者都需要酸浸,酸液消耗量大,导致成本较高,也不利于环保。
技术实现思路
为了解决上述清洗提纯效果差,成本较高,不利于环保等问题,提供了一种可以明显改善产品质量、提高生产效率的高纯石英砂酸洗装置。本技术所采用的技术方案是:一种高纯石英砂酸洗装置,包括罐体,罐体左上方开有进料口,罐体内部设有滤板,与滤板平行右侧设有出料口,罐体中滤板以下部分为酸液室,酸液室左侧上方设有进酸口,右侧下方设有出酸口,罐体底部为PVC薄膜,PVC薄膜和压电晶片形成密闭空间,内部装有偶合水,压电晶片和超声波加湿器相连,超声波加湿器上设有功率控制钮。进一步的,所述进料口和出料口孔径为30-50cm,进酸口和出酸口孔径为25-35cm。进一步的,所述滤板位于罐体三分之一高度处,滤板上均匀分布有孔径为0.1-0.4mm的滤孔。本技术的有益效果如下:(1)本技术结构简单,操作方便,在密封条件下,超声雾化装置产生的雾化酸洗液对石英砂进行了动态浸洗,酸液能够快速清洗表面杂质。同时,雾化酸液在冲力作用下能够渗透到石英砂内部,达到加速分解石英砂内部的金属和其它杂质,下落的雾化酸液与上升的雾化酸液形成对流工作状态,可对石英砂进行二次冲洗,有效地提升了清洗效果,提高生产效率,节约成本。(2)本技术采用超声雾化清洗,避免了搅拌过程中搅拌叶片和物料对罐壁的磨损,从而避免了因磨损杂质脱落而引起的二次污染。超声雾化装置的功率连续可调,可以兼容不同粒度的石英砂处理需求。(3)本技术不需要对样品进行酸浸过程,雾化酸液对滤板上的石英砂动态浸洗,下落的酸液也对石英砂进行了二次冲洗,石英砂表面和内部的杂质随酸液下落,通过出酸口对酸液进行后处理。在避免酸液中杂质对石英砂二次污染的同时,极大减少了酸液消耗量,减轻了环保压力,降低生产成本。附图说明图1为本技术的结构简图。其中:(1)是超声雾化装置;(101)是超声波加湿器;(102)是功率控制钮;(103)是压电晶片;(104)是偶合水;(105)是PVC薄膜;(2)是进酸口;(3)是出酸口;(4)是滤板;(5)是出料口;(6)是进料口;(7)是罐体;(8)是石英砂;(9)是雾化酸液;(10)是酸液室。具体实施方式下面结合附图对本技术进一步说明:参见图1,一种高纯石英砂清洗装置,它设有一个罐体7,罐体7左上方开有进料口6,罐体7内部设有滤板4,与滤板4平行右侧设有出料口5,罐体7中滤板4以下部分为酸液室10,酸液室10左侧上方设有进酸口2,右侧下方设有出酸口3,罐体7底部为PVC薄膜105,PVC薄膜105和压电晶片103形成密闭空间,内部装有偶合水104,压电晶片103和超声波加湿器101相连,超声波加湿器101上设有功率控制钮102。工作时,首先将料斗中的石英砂从进料口6输送到滤板4上,输送完毕后密封进料口6,防止酸洗液汽化进入大气造成环境污染;打开进酸口2使储液室的酸洗液进入酸液室10内,完成后关闭进酸口2;其后,启动电源开关,通过功率控制钮102控制工作功率;酸洗液通过超声波加湿器101、压电晶片103、偶合水104和PVC薄膜105的共同作用,形成向上喷出的雾化酸液9;然后,雾化酸液9对滤板4上的石英砂8进行动态清洗,到达顶部的雾化酸液9下落对石英砂8达到二次清洗的效果,石英砂8内部和表面的杂质随着酸液下落进入酸液室;上述酸洗过程周而复始运动数周后,关闭超声雾化装置电源。打开出酸口3,使含杂质的酸液排入与出酸口3相连的废液室;打开出料口5,使清洗后的石英砂8排出,进入下一道工序,完成酸洗过程。以上说明,仅是本技术的较佳实例,并非对本技术作任何形式上的限制,凡是依据本技术的技术实质对以上实例所作的修改、等同变化与修饰,均仍属于本技术技术方案的范围。本文档来自技高网...
一种高纯石英砂酸洗装置

【技术保护点】
一种高纯石英砂酸洗装置,其特征在于:它设有一个罐体(7),罐体(7)左上方开有进料口(6),罐体(7)内部设有滤板(4),与滤板(4)平行右侧设有出料口(5),罐体(7)中滤板(4)以下部分为酸液室(10),酸液室(10)左侧上方设有进酸口(2),右侧下方设有出酸口(3),罐体(7)底部为PVC薄膜(105),PVC薄膜(105)和压电晶片(103)形成密闭空间,内部装有偶合水(104),压电晶片(103)和超声波加湿器(101)相连,超声波加湿器(101)上设有功率控制钮(102)。

【技术特征摘要】
2016.08.11 CN 20162086705381.一种高纯石英砂酸洗装置,其特征在于:它设有一个罐体(7),罐体(7)左上方开有进料口(6),罐体(7)内部设有滤板(4),与滤板(4)平行右侧设有出料口(5),罐体(7)中滤板(4)以下部分为酸液室(10),酸液室(10)左侧上方设有进酸口(2),右侧下方设有出酸口(3),罐体(7)底部为PVC薄膜(105),PVC薄膜(105)和压电晶...

【专利技术属性】
技术研发人员:张德超朱德洪李永平
申请(专利权)人:四川晶天地新材料科技有限公司
类型:新型
国别省市:四川,51

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