一种提高大口径菲涅耳波带片衍射效率的方法技术
【技术实现步骤摘要】
一种提高大口径菲涅耳波带片衍射效率的方法
本专利技术属于空间光学系统先进制造
，涉及一种提高大口径菲涅耳波带片衍射效率的方法。
技术介绍
根据制作工艺不同，衍射元件可分为振幅型和位相型两类。振幅型衍射元件的衍射效率很低，仅有10％左右。而位相型衍射元件的衍射效率能达到40％以上，可克服振幅型衍射元件衍射效率较低的问题，因而较振幅型衍射元件具有更大的应用前景。为进一步提高衍射效率，可把2台阶光栅结构制作成多台阶光栅形式。理论分析表明，台阶数越多，光栅理论衍射效率越高，如四台阶的理论衍射效率可达到81％，八台阶可达到95％。但是随着台阶数增多，制作难度相应增加。位相型元件一般首先使用光刻工艺加工掩模，再通过刻蚀的方法进行图案转移。对于多台阶元件，需要进行多次套刻和刻蚀加工才能完成。当光栅周期确定时，光刻工艺能够加工的最小线宽决定了所能加工的台阶数。基于菲涅尔波带片的衍射成像元件属于大口径变周期圆光栅元件。从中心区域向边缘的光栅周期逐渐变小。光栅周期也可以用线宽来表述。由于光刻工艺的限制，线宽很小的波带片边缘区域最多只能加工成4台阶结构，因此传统上一般将菲涅尔波带...
【技术保护点】
一种提高大口径菲涅耳波带片衍射效率的方法，其特征在于，包括如下步骤步骤一、根据菲涅耳波带片上区域i的设计线宽L
【技术特征摘要】
1.一种提高大口径菲涅耳波带片衍射效率的方法，其特征在于，包括如下步骤步骤一、根据菲涅耳波带片上区域i的设计线宽Li和光刻机加工的最小线宽l0确定区域i对应的台阶数2n：即2n≤Li/l0≤2n+1；步骤二、在石英玻璃基板上制备光刻胶掩模结构；步骤三、进行第一次离子束刻蚀，在对应台阶数为2的区域加工出2台阶结构；步骤四、清洗光刻胶，进行第一次套刻加工；步骤五、进行第二次离子束刻蚀，在对应台阶数为4的区域加工出4台阶结构；步骤六、清洗光刻胶，进行第二次套刻加工；步骤七、进行第三次离子束刻蚀，在...
【专利技术属性】
技术研发人员：张志宇，薛栋林，张学军，郑立功，张峰，
申请(专利权)人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，
类型：发明
国别省市：吉林,22
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