一种摩擦配向装置制造方法及图纸

技术编号:15378051 阅读:51 留言:0更新日期:2017-05-18 21:45
本实用新型专利技术提供一种摩擦配向装置,包括:滚轴支架,滚轴支架上设有第一吸附件和第二吸附件,机台的框架上设有弹性机构,弹性结构的一端与框架相连,弹性结构的另一端设有第一电磁块;配向台面,配向台面上方放置待配向的基板,配向台面的上设有第二电磁块;滑动机构,配向台面沿滑动机构移动,配向台面的移动方向与弹性机构的延伸方向一致;第一吸附件和第二吸附件具有导磁性,第一电磁块与第一吸附件的位置相对应,第二电磁块的位置与第二吸附件的位置相对应。该摩擦配向装置能够减少设备异常,提升产品良率。

Friction aligning device

The utility model provides a rubbing device, including roller bracket, roller bracket is provided with a first suction attachment and second suction accessories, machine frame is provided with an elastic body connected with one end of elastic structure and frame, the other end is provided with a first electromagnetic elastic structure; alignment table, substrate alignment is placed above the table to be matched to the alignment table is provided with second electromagnetic block; the sliding mechanism, alignment mechanism moves along the sliding table, with direction table and elastic mechanism extending direction; the first suction attachment and second suction with magnetic attachment, corresponding to the first magnetic block and the first suction attachment position. Second position with second electromagnetic suction block corresponding attachment position. The friction aligning device can reduce the equipment abnormality and improve the yield of the product.

【技术实现步骤摘要】
一种摩擦配向装置
本技术涉及显示装置制造领域,尤其涉及一种摩擦配向装置。
技术介绍
在液晶显示面板的制造技术中,通常通过配向制程使液晶分子依特定的方向排列,以利于液晶显示面板的动作控制。在配向制程中,首先要将配向液涂布于液晶显示面板的上下基板的内侧,形成配向膜,接着进行摩擦(Rubbing)制程,配向滚轴(Roller)在配向膜表面上进行滚动,配向膜表面会因配向滚轴上的摩擦布(RubbingClothes)的毛羽(Pile)摩擦而被刷出沿一定方向排列的沟槽,从而配向膜上的液晶分子沿着沟槽方向配向而达到定向效果。目前摩擦配向设备的配向滚轴的上下机都是半自动设计的,配向滚轴需要人工抬起来放在支架上,然后设备再自动将配向滚轴取上机台。进行摩擦配向工作时,配向台面与支架吸附,设备将配向滚轴取上机台并位于待配向的基板上方。配向台面与支架吸附时必须紧密结合,但现有的设备固定方式下,支架有一定的可移动间隙,不能保证每次吸附成功,影响液晶显示面板的配向效果。
技术实现思路
本技术的目的包括提供一种摩擦配向装置,该摩擦配向装置具有更好的工作稳定性,能够减少设备异常,提升产品良率。具体地,本技术提供一种摩擦配向装置,所述摩擦配向装置包括:滚轴支架,所述滚轴支架上设有第一吸附件和第二吸附件,机台的框架上设有弹性机构,所述弹性结构的一端与所述框架相连,所述弹性结构的另一端设有第一电磁块;配向台面,所述配向台面上方放置待配向的基板,所述配向台面的上设有第二电磁块;滑动机构,所述配向台面沿所述滑动机构移动,所述配向台面的移动方向与所述弹性机构的延伸方向一致;所述第一吸附件和所述第二吸附件具有导磁性,所述第一电磁块与所述第一吸附件的位置相对应,所述第二电磁块的位置与所述第二吸附件的位置相对应。进一步地,所述滚轴支架包括两根竖板和连接两根所述竖板中部的横板,所述横板的延伸面与所述配向台面的移动方向相垂直,所述第一吸附件和所述第二吸附件设置在所述横板相对的两个面上,所述竖板的上端具有半圆开口,用于安放滚轴。进一步地,所述摩擦配向装置还包括两个轴承座,每个所述轴承座上设有滚轴固定件。进一步地,所述摩擦配向装置还包括旋转台面,所述旋转台面位于所述配向台面和所述滑动机构的下侧,两个所述轴承座设置于所述旋转台面上并呈对称分布。进一步地,所述弹性机构为一个或多个,每个所述弹性机构连接一个所述第一电磁块。进一步地,所述弹性机构为弹簧。进一步地,所述滑动机构为两根平行的导轨。进一步地,所述摩擦配向装置还包括驱动设备,所述驱动设备驱动所述配向台面沿所述滑动机构移动。进一步地,所述摩擦配向装置还包括供电设备,所述供电设备可对所述第一电磁块和所述第二电磁块供电。进一步地,所述第一吸附件和所述第二吸附件为金属板材结构,所述第一吸附件和所述第二吸附件的材料为铁、镍、钴中的一种。本技术的摩擦配向装置在滚轴支架上设置第一吸附件和第二吸附件,机台上还设置有一弹性机构,一端连接机台框架,另一端设置有第一电磁块,配向台面上设置有第二电磁块,通过电磁块与吸附件的吸附与放开,实现摩擦配向装置的更好的运行。利用弹性机构的固定,可以使配向平台与滚轴支架接触充分,减少设备异常,提升产品良率。上述说明仅是本技术技术方案的概述,为了能够更清楚了解本技术的技术手段,而可依照说明书的内容予以实施,并且为了让本技术的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂,以下特举较佳实施例,并配合附图,详细说明如下。附图说明图1为本技术实施例的摩擦配向装置的俯视图。图2为本技术实施例的摩擦配向装置的侧视图。图3为本技术实施例的摩擦配向装置的滚轴支架的结构示意图。具体实施方式为更进一步阐述本技术为达成预定目的所采取的技术手段及功效,以下结合附图及较佳实施例,对依据本技术提出的一种摩擦配向装置的具体实施方式、方法、步骤、结构、特征及功效,详细说明如后。有关本技术的前述及其他
技术实现思路
、特点及功效,在以下配合参考图式的较佳实施例详细说明中将可清楚的呈现。通过具体实施方式的说明,当可对本技术为达成预定目的所采取的技术手段及功效得以更加深入且具体的了解,然而所附图式仅是提供参考与说明之用,并非用来对本技术加以限制。图1为本技术实施例的摩擦配向装置的俯视图。图2为本技术实施例的摩擦配向装置的侧视图。图3为本技术实施例的摩擦配向装置的滚轴支架的结构示意图。本技术实施例的摩擦配向装置包括位于机台1上的配向台面4、滑动机构2、滚轴支架3。配向台面4上方放置待配向的基板。滑动机构2设置在配向台面4下方,配向台面4可沿滑动机构2进行移动。在本技术实施例中,滑动机构2可为两根平行的导轨,配向台面4沿导轨进行移动。本技术实施例的摩擦配向装置还包括驱动设备,可驱动配向台面4沿导轨移动。滚轴支架3包括两根竖板31和连接两根竖板31中部的横板32,两根竖板31的上端均具有半圆开口,用于安放滚轴6。滚轴支架3通过竖板31可沿滑动机构2进行移动,滚轴支架3的移动也由驱动设备控制。具体地,配向台面4及滚轴支架3的竖板31在与滑动机构2的接触位置可设有可滑动部件。其中,滚轴支架3的横板32的延伸面与导轨相垂直,即横板32的延伸面与配向台面4的移动方向相垂直。滚轴支架3的横板32上设有第一吸附件33,第一吸附件33为金属板材结构,第一吸附件33具有导磁性,具体地,第一吸附件的材料可以为铁、镍、钴中的一种。在机台1的框架上设有弹性机构36,弹性机构36的延伸方向与滚轴支架3的横板32的延伸面相垂直,与导轨的延伸方向一致。弹性结构36一端与机台1的框架相连,另一端设有第一电磁块35。第一电磁块35的位置与第一吸附件33的位置相对应。第一电磁块35通电时,滚轴支架3通过第一吸附件33与弹性机构36连接。该弹性机构36具有高强度,能够支撑住滚轴支架3。具体地,弹性机构36为弹簧。滚轴支架3的横板32上在第一吸附件的相对侧还设有第二吸附件34,第二吸附件34为金属板材结构,第二吸附件34具有导磁性,具体地,第二吸附件的材料可以为铁、镍、钴中的一种。配向台面4的与导轨垂直的侧面上设有第二电磁块41,第二电磁块41的位置与第二吸附件34的位置相对应。本技术实施例的摩擦配向装置还包括供电设备,可对第一电磁块35和第二电磁块41供电,使其具有可控制的磁吸附能力。在本技术其他实施例中,弹性机构36可以为一个或多个,每个弹性机构36连接一个第一电磁块35。第一吸附件33可以为一个或多个,每个第一吸附件33可以与一个第一电磁块35对应吸附,也可多个第一电磁块35吸附一个第一吸附件33,对此不做限制。同理,第二电磁块41和第二吸附件34可以为一个或多个,每个第二吸附件34可以与一个第二电磁块41对应吸附,也可多个第二电磁块41吸附一个第二吸附件34。本技术实施例的摩擦配向装置的机台1上还设置有旋转台面5,旋转台面5位于配向台面4和滑动机构2的下侧,本技术实施例的摩擦配向装置还包括两个轴承座71,两个轴承座71在旋转台面5上垂直设置,两个轴承座71于旋转台面5上呈对称分布,每个轴承座上设有滚轴固定件72,两个滚轴固定件72配合使用使滚轴6固定在轴承座71上,其本文档来自技高网
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一种摩擦配向装置

【技术保护点】
一种摩擦配向装置,其特征在于,所述摩擦配向装置包括:滚轴支架,所述滚轴支架上设有第一吸附件和第二吸附件,机台的框架上设有弹性机构,所述弹性结构的一端与所述框架相连,所述弹性结构的另一端设有第一电磁块;配向台面,所述配向台面上方放置待配向的基板,所述配向台面的上设有第二电磁块;滑动机构,所述配向台面沿所述滑动机构移动所述配向台面的移动方向与所述弹性机构的延伸方向一致;所述第一吸附件和所述第二吸附件具有导磁性,所述第一电磁块与所述第一吸附件的位置相对应,所述第二电磁块的位置与所述第二吸附件的位置相对应。

【技术特征摘要】
1.一种摩擦配向装置,其特征在于,所述摩擦配向装置包括:滚轴支架,所述滚轴支架上设有第一吸附件和第二吸附件,机台的框架上设有弹性机构,所述弹性结构的一端与所述框架相连,所述弹性结构的另一端设有第一电磁块;配向台面,所述配向台面上方放置待配向的基板,所述配向台面的上设有第二电磁块;滑动机构,所述配向台面沿所述滑动机构移动所述配向台面的移动方向与所述弹性机构的延伸方向一致;所述第一吸附件和所述第二吸附件具有导磁性,所述第一电磁块与所述第一吸附件的位置相对应,所述第二电磁块的位置与所述第二吸附件的位置相对应。2.根据权利要求1所述的摩擦配向装置,其特征在于,所述滚轴支架包括两根竖板和连接两根所述竖板中部的横板,所述横板的延伸面与所述配向台面的移动方向相垂直,所述第一吸附件和所述第二吸附件设置在所述横板相对的两个面上,所述竖板的上端具有半圆开口,用于安放滚轴。3.根据权利要求1所述的摩擦配向装置,其特征在于,所述摩擦配向装置还包括两个轴承座,每个所述轴承座上设有滚轴固...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈化平
申请(专利权)人:昆山龙腾光电有限公司
类型:新型
国别省市:江苏,32

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