研磨剂口腔护理组合物制造技术

技术编号:15287896 阅读:127 留言:0更新日期:2017-05-10 12:13
本发明专利技术提供了一种口腔护理组合物,基于所述组合物的总重量,所述组合物包含3至12重量%的焦磷酸钙和10至19重量%的沉淀二氧化硅,其中所述沉淀二氧化硅具有大于85的表膜清洁率。本发明专利技术还提供了一种清洁和/或磨光和/或增白口腔表面的方法,其包括使所述口腔表面与所述口腔护理组合物接触。

Abrasive oral care composition

The invention provides an oral care composition, the total weight of the composition of the precipitated silica based composition comprising 3 to 12 wt.% of calcium pyrophosphate and 10 to 19 wt.%, wherein the precipitated silica is greater than 85 of the rate of surface membrane cleaning. The present invention also provides a method of cleaning and / or polishing and / or whitening the oral surface.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】背景已完善确立了研磨剂在口腔护理组合物中的使用。除清洁牙斑和污渍之外,口腔护理组合物(诸如洁牙剂)中的研磨剂还可以磨光牙釉质的表面。磨光牙釉质具有许多美容益处,包括增加牙齿的亮度和光亮、赋予牙齿光滑的质地、以及通过去除促使污渍附着的裂纹和粗糙表面来减少将来的变色。理想地,研磨剂或研磨剂的组合可提供牙釉质的清洁和磨光。包含焦磷酸钙和二氧化硅的口腔护理组合物是本领域已知的(参见例如WO2008/157197、WO2009/134657和WO2010/068442)。然而,需要提供具有改进的磨光功能从而产生牙齿高光泽度或光亮而不明显增加牙釉质磨损的口腔护理组合物。简要概述本专利技术提供了包含3至12重量%的焦磷酸钙和10至19重量%的沉淀二氧化硅的口腔护理组合物,其中所述沉淀二氧化硅具有大于85的表膜清洁率。当在20%负载下测试时具有大于85的表膜清洁率(PCR)的沉淀二氧化硅在本领域被称为高清洁性二氧化硅。通常,高清洁性二氧化硅还具有5至15μm的平均粒度d50和40至120cm3/100g二氧化硅的吸油值。优选地,组合物包含3至12重量%的焦磷酸钙和10至19重量%的沉淀二氧化硅。更优选地,组合物包含5至10重量%的焦磷酸钙和12至17重量%的沉淀二氧化硅。本专利技术描述了用于清洁和增白牙齿的口腔护理组合物,其由特定量的两种研磨剂的组合组成。具体来说,本专利技术中涵盖的研磨剂组合包含具有大于85的表膜清洁率的沉淀二氧化硅和焦磷酸钙。特定量的焦磷酸钙和高清洁性二氧化硅的组合在牙釉质的磨光方面产生惊人的改进。此外,当洁牙剂配方增加由所述配方提供的磨光时,其不会明显增加牙釉质的磨损。本专利技术的组合物提供改进的磨光,产生合意的牙齿光泽度和/或光亮,同时实现牙齿的清洁和增白。在一个实施方案中,口腔护理组合物还包含易碎二氧化硅。术语易碎二氧化硅是本领域已知的并且是指具有300至500μm的中值粒度的沉淀二氧化硅。市售易碎二氧化硅包括具有450μm的平均粒度的9175“咬碎(crunch)”二氧化硅(HuberEngineeredMaterials)和G“易碎二氧化硅”(Rhodia)。组合物可包含1至6重量%的具有300至500μm的中值粒度的沉淀二氧化硅。优选地,组合物包含2重量%的具有300至500μm的中值粒度的沉淀二氧化硅。优选地,口腔护理组合物还包含防污渍剂(stainpreventionagent)。防污渍剂可选自三聚磷酸钠、焦磷酸四钾、焦磷酸四钠、六偏磷酸钠、gantrezTM聚合物或其任意组合。组合物可包含1至5重量%的三聚磷酸钠和1至5重量%的焦磷酸四钾,例如2至3重量%的三聚磷酸钠和2至3重量%的焦磷酸四钾。优选地,组合物包含氟化物来源。氟化物来源不受特别限定。通常氟化物来源是单氟磷酸盐。口腔护理组合物还可包含表面活性剂。在一个实施方案中,表面活性剂选自月桂基硫酸钠、椰油酰胺丙基甜菜碱及其组合。口腔护理组合物还可包含保湿剂。在一个实施方案中,保湿剂选自甘油、山梨糖醇及其组合。口腔护理组合物还可包含增稠剂。增稠剂可选自聚乙二醇、纤维素衍生物、多糖胶、二氧化硅及其组合。纤维素衍生物可为羧甲基纤维素钠。多糖胶可为黄原胶。口腔护理组合物还可包含一种或多种选自以下的试剂:稀释剂、pH调节剂、泡沫调节剂、甜味剂、矫味剂、色素、防腐剂、抗细菌剂、抗龋齿剂、抗牙垢剂或牙垢控制剂及其混合物。在优选的实施方案中,口腔护理组合物包含下列组分(以重量%计)口腔护理组合物可为洁牙剂或糖果。在其它方面,本专利技术提供一种清洁和/或磨光和/或增白口腔表面的方法,其包括使口腔表面与如上定义的口腔护理组合物接触。在优选的实施方案中,口腔护理组合物是洁牙剂并且所述接触包括用所述口腔护理组合物刷涂牙齿。本专利技术的适用性的其它领域将根据下文提供的详细描述而变得显而易知。应了解尽管指示本专利技术的优选实施方案,但详细描述和特定实施例意图仅出于说明目的,并且不意图限制本专利技术的范围。详细描述以下对优选实施方案的描述在性质上仅是示例性的,并且决不意图限制本专利技术、它的应用或用途。如全篇中所用,范围被用作描述范围内的各个和每个值的简略表达方式。可以选择范围内的任何值作为范围的终点。此外,本文中引用的所有参考文献均以引用的方式整体并入本文。如果本公开中的定义和引用的参考文献的定义出现冲突,以本公开为准。除非另外指出,否则本文和本说明书中其他地方表述的所有百分比和量都应理解为重量百分比。给出的量基于物质的有效重量。本专利技术提供了包含3至12重量%的焦磷酸钙和10至19重量%的沉淀二氧化硅的口腔护理组合物,其中所述沉淀二氧化硅当在20%负载下测试时具有大于85的表膜清洁率。使用表膜清洁率(PCR)表示沉淀二氧化硅的清洁效力。这通常在20%二氧化硅负载下测量。优选地,高清洁性二氧化硅具有大于85的PCR值。沉淀二氧化硅的效力还可根据其研磨特性使用放射性牙本质磨损(RDA)表示。理想地,口腔组合物的RDA值应低于约250以保护牙釉质/牙本质。执行PCR和RDA的方法描述于例如美国专利号5,939,051和6,290,933和″InVitroRemovalofStainWithDentifrice″,G.K.Stookey等,J.DentalResearch,第61卷,第1236-9页,1982年11月。”通常,沉淀二氧化硅具有5至15μm的平均粒度d50和40至120cm3/100g二氧化硅的吸油值。具有5至15μm的平均粒度d50和40至120cm3/100g二氧化硅的吸油值的沉淀二氧化硅的实例包括市售二氧化硅诸如103和105(HuberSilicaAmericas)。组合物可包含2至15重量%的焦磷酸钙和7-20重量%的二氧化硅,优选地3至12重量%的焦磷酸钙和10至19重量%的二氧化硅,优选地5至10重量%的焦磷酸钙和12—17重量%的二氧化硅,优选地8至10重量%的焦磷酸钙和12至14重量%的沉淀二氧化硅;包括介于其间的所有范围和子范围。组合物可包含10重量%的焦磷酸钙,11重量%的焦磷酸钙或12重量%的焦磷酸钙。组合物可包含12重量%的沉淀二氧化硅,13重量%的沉淀二氧化硅,或14重量%的沉淀二氧化硅。基于组合物的总重量,组合物中的研磨剂(包括焦磷酸钙和二氧化硅)的总量可为至多25重量%,优选地至多23重量%,优选地至多22重量%。可通过本领域已知的任意手段测量沉淀二氧化硅颗粒的平均粒度d50。例如,可使用Malvern粒度分析仪,型号MastersizerS,MalvernInstruments,Inc.(Southborough,Massachusetts,USA)测量粒度,其中氦氖气体激光束穿过含有悬浮于水溶液中的研磨剂的透明小池进行投射。撞击颗粒的光线通过与粒度成反比的角度散射。光探测器阵列以几个预定的角度测量光量。然后,针对由通过样品和水性分散剂的折射率所定义的理论颗粒预测的散射模式,通过微型计算机系统处理与所测量的光通量值成比例的电信号,以确定主题研磨剂的粒度分布。沉淀二氧化硅的吸油值可通过本领域技术人员已知的各种手段确定。例如,吸油值可通过每100克二氧化硅的亚麻籽油或邻苯二甲酸二丁酯(DBP)的吸收量来确定。可使用AS本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种口腔护理组合物,基于所述组合物的总重量,所述组合物包含3至12重量%的焦磷酸钙和10至19重量%的沉淀二氧化硅,其中所述沉淀二氧化硅具有大于85的表膜清洁率。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种口腔护理组合物,基于所述组合物的总重量,所述组合物包含3至12重量%的焦磷酸钙和10至19重量%的沉淀二氧化硅,其中所述沉淀二氧化硅具有大于85的表膜清洁率。2.根据权利要求1所述的口腔护理组合物,其中所述沉淀二氧化硅具有5至15μm的平均粒度d50和40至120cm3/100g二氧化硅的吸油值。3.根据权利要求1或权利要求2所述的口腔护理组合物,其中基于所述组合物的总重量,所述组合物包含5至10重量%的焦磷酸钙和12至17重量%的沉淀二氧化硅。4.根据任一前述权利要求所述的口腔护理组合物,其中基于所述组合物的总重量,所述组合物包含8至10重量%的焦磷酸钙和12至14重量%的沉淀二氧化硅。5.根据任一前述权利要求所述的口腔护理组合物,其中所述组合物还包含选自三聚磷酸钠、焦磷酸四钾、焦磷酸四钠、六偏磷酸钠、gantrezTM聚合物或其任意组合的防污渍剂。6.根据权利要求5所述的口腔护理组合物,其中基于所述组合物的总重量,所述防污渍剂包含1至5重量%的三聚磷酸钠和1至5重量%的焦磷酸四钾。7.根据任一前述权利要求所述的口腔护理组合物,其中所述组合物包含氟化物来源。8.根据权利要求7所述的口腔护理组合物,其中所述氟化物来源是选自氟化亚锡、氟化钠、氟化钾、单氟磷酸钠、氟硅酸钠、氟硅酸铵、氟化胺和氟化铵中的至少一种。9.根据权利要求7所述的口腔护理组合物,其中所述氟化物来源是单氟磷酸盐。10.根据权利要求7所述的口腔护理组合物,其中所述氟化物来源是氟化钠。11.如任一前述权利要求所述的口腔护理组合物,其还包含表面活性剂。12.如权利要求11所述的口腔护理组合物,其中所述表面活性剂选自月桂基硫酸钠、椰油酰胺丙基...

【专利技术属性】
技术研发人员:文达·马洛尼苏曼·乔普拉拉胡尔·帕特尔
申请(专利权)人:高露洁棕榄公司
类型:发明
国别省市:美国;US

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