透明导电体、液晶显示装置和透明导电体的制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术的目的在于提供一种透明导电体，其可以容易地以均匀的厚度形成导电层，并且在生产率及制造成本的方面优异。本发明专利技术的透明导电体是在经研磨处理的玻璃基材的至少一个面依次层积有粘合层、偏振层和导电层的透明导电体，导电层使用包含导电性高分子的涂布组合物来形成，表面电阻率为102Ω/□～105Ω/□。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及透明导电体、液晶显示装置和透明导电体的制造方法。
技术介绍
以往，智能手机等中所用的显示器件为在玻璃基材上依次层积有粘合层、导电层和偏振层的层结构。其中，为了防止在显示器件附近产生的电磁波干扰引起的显示器件的工作不良，导电层使用ITO(氧化铟锡)等材料形成。近年来，通过利用化学研磨或机械研磨等手段对玻璃基材进行研磨处理，从而显示器件的进一步薄型化/轻量化不断推进。另一方面，通过进行研磨处理，有时在玻璃基材表面产生凹痕等损伤。在产生了凹痕等损伤的玻璃基材上设置ITO层的情况下，由于玻璃基材与ITO层的折射率差大，因而形成容易看到损伤的状态，其结果，显示品质有时会降低。一般来说，工业上为了将显示品质维持为一定水平，产生了损伤的玻璃基材被废弃，但会产生生产率(成品率)降低、或生产成本增大的问题。另外，经研磨处理后的玻璃基材的厚度变得不均匀，因此在以该状态设置ITO层时，膜厚的面内偏差增大，其结果是在实现显示装置的性能进一步提高方面成为阻碍。此外，通常在设置ITO层的情况下进行溅射，会产生下述问题：由于溅射时要施加热负荷，因而基材限定于耐热性的基材；溅射需要大型的装置，因而制造成本高。针对这种问题，例如尝试了通过在玻璃基材与透明导电膜之间层积折射率调节层而使损伤难以被看到(例如，专利文献1)，但由于需要另行设置折射率调节层，因而制造成本的降低还留有余地。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2013-114086号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题本专利技术的目的在于提供一种透明导电体，其可以容易地以均匀的厚度形成导电层，并且在生产率及制造成本的方面优异。用于解决课题的手段本专利技术人为了解决上述课题进行了深入的研究，结果发现，通过将导电层中所用的材料由以往使用的ITO替换为包含导电性高分子的涂布组合物，并且将使用涂布组合物形成的导电层设置于偏振层上而不是玻璃基材上，从而可容易地形成厚度均匀的导电层，同时可解决生产率及制造成本的问题，由此完成了本专利技术。即，本专利技术的透明导电体的特征在于，其为在经研磨处理的玻璃基材的至少一个面依次层积有粘合层、偏振层和导电层的透明导电体，导电层使用包含导电性高分子的涂布组合物来形成，表面电阻率为102Ω/□～105Ω/□。对于本专利技术的透明导电体而言，导电层的铅笔硬度优选为H以上。对于本专利技术的透明导电体而言，导电层在80℃、相对湿度85％的环境中保持1000小时后的表面电阻率优选为保持前的表面电阻率的5倍以下。对于本专利技术的透明导电体而言，涂布组合物优选进一步包含选自由烷氧基硅烷低聚物、(甲基)丙烯酸酯和三聚氰胺树脂组成的组中的至少一种作为粘结剂。对于本专利技术的透明导电体而言，涂布组合物优选进一步包含下述化合物作为导电性提高剂，该化合物的沸点为100℃以上并且在分子内具有至少1个亚磺酰基、至少1个酰胺基或至少2个羟基。对于本专利技术的透明导电体而言，涂布组合物优选进一步包含具有被2个羟基所取代的内酯环的化合物和/或具有2个以上酚羟基的化合物作为水溶性抗氧化剂。本专利技术的液晶显示装置的特征在于，其具备本专利技术的透明导电体。本专利技术的液晶显示装置优选为IPS(平面转换)方式液晶显示装置。本专利技术的透明导电体的制造方法的特征在于，(i)在经研磨处理的玻璃基材的至少一个面上形成粘合层和偏振层后，使用包含导电性高分子的涂布组合物进一步形成导电层；或者，(ii)使用包含导电性高分子的涂布组合物在偏振层上形成导电层后，籍由粘合层使形成有导电层的面的相反面粘接至经研磨处理的玻璃基材。本专利技术的涂布组合物的特征在于，其用于形成本专利技术的透明导电体中的导电层。专利技术的效果根据本专利技术，可以得到一种透明导电体，其可以容易地以均匀的厚度形成导电层，并且在生产率及制造成本的方面优异。除此以外，通过在偏振层上设置导电层，还可以得到下述效果：屏蔽电磁波干扰的同时，防止偏振层上附着灰尘或组装显示器件时等偏振层产生损伤。具体实施方式<<透明导电体>>本专利技术的透明导电体的特征在于，其为在经研磨处理的玻璃基材的至少一个面依次层积有粘合层、偏振层和导电层的透明导电体，导电层使用包含导电性高分子的涂布组合物(下文中也简称为涂布组合物)来形成，表面电阻率为102Ω/□～105Ω/□。<玻璃基材>作为玻璃基材的材料，没有特别限定，可以使用市售的材料。作为市售的材料，可以举出例如无碱玻璃等，特别优选铝硅酸盐玻璃和铝硼硅酸盐玻璃。作为玻璃基材的研磨处理，没有特别限定，可以使用化学研磨或机械研磨等该领域中通常所用的手段。作为化学研磨的方法，没有特别限定，可以举出例如下述方法等：将市售的玻璃基材浸渍到蚀刻液中，通过化学反应将表面溶解。另外，作为与化学研磨同时进行机械研磨的方法，没有特别限定，可以举出例如使用氧化铈的化学机械研磨(CMP)等。对玻璃基材的表面的算术平均粗糙度(Ra)没有特别限定，优选为20nm以下、更优选为15nm以下、进一步优选为10nm以下。若算术平均粗糙度(Ra)超过20nm，则有时无法维持透明性。对算术平均粗糙度(Ra)的下限没有特别限定，例如为0.7nm。需要说明的是，本专利技术中，算术平均粗糙度(Ra)是指利用原子力显微镜(AFM)所测得的值。对研磨处理后的玻璃基材的厚度没有特别限定，优选为10μm～10000μm、更优选为25μm～5000μm。另外，玻璃基材的全光线透过率只要为60％以上就没有特别限定，优选为70％以上、更优选为80％以上。对玻璃基材的雾度没有特别限定，优选为3％以下、更优选为1％以下。需要说明的是，对雾度的下限没有特别限定，例如为0.01％。<粘合层>粘合层使用含有粘合剂的粘合剂组合物来形成。作为粘合剂，没有特别限定，可以使用以往公知的粘合剂，具体可以举出例如将各种(甲基)丙烯酸酯单体均聚或共聚而得到的(甲基)丙烯酸系树脂、乙烯/乙酸乙烯酯共聚系树脂、具有二甲基硅氧烷骨架的硅酮橡胶等硅系树脂、将多元醇和多异氰酸酯加聚而得到的聚氨酯系树脂、天然橡胶、苯乙烯-异戊二烯-苯乙烯嵌段共聚物(SIS嵌段共聚物)、苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物(SBS嵌段共聚物)、苯乙烯-乙烯·丁烯-苯乙烯嵌段共聚物(SEBS嵌段共聚物)、丁苯橡胶、聚丁二烯、聚异戊二烯、聚异丁烯、丁基橡胶、氯丁二烯橡胶等橡胶系树脂等。其中，优选化学稳定性特别优异、化学结构设计的自由度高、粘合力的调整容易的(甲基)丙烯酸系树脂、硅系树脂、聚氨酯系树脂。此外，从透明性特别优异的方面出发，优选(甲基)丙烯酸系树脂和聚氨酯系树脂。作为粘合层的形成方法，可以使用现有公知的方法，可以举出例如下述方法：将含有粘合剂的粘合剂组合物涂布至玻璃基材上并进行交联或加热干燥的方法；将经交联或加热干燥的粘合层转印至玻璃基材上的方法；等等。需要说明的是，除了粘合剂以外，粘合剂组合物还可以含有交联剂。作为涂布粘合剂组合物的方法，可以使用现有公知的方法，具体可以使用例如辊涂法、凹版涂布法、逆向涂布法、辊刷法、喷涂法、气刀涂布法等。<偏振层>作为偏振层，只要至少具备偏振膜就没有特别限定，可以使用例如偏振板等。偏振板是用于液晶显示装置(LCD)、电致发光显示装置(ELD)等图像显示装置的部件，通常使本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种透明导电体，其为在经研磨处理的玻璃基材的至少一个面依次层积有粘合层、偏振层和导电层的透明导电体，导电层使用包含导电性高分子的涂布组合物来形成，表面电阻率为102Ω/□～105Ω/□。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.08.08 JP 2014-163009;2015.04.23 JP 2015-088591.一种透明导电体，其为在经研磨处理的玻璃基材的至少一个面依次层积有粘合层、偏振层和导电层的透明导电体，导电层使用包含导电性高分子的涂布组合物来形成，表面电阻率为102Ω/□～105Ω/□。2.如权利要求1所述的透明导电体，其中，导电层的铅笔硬度为H以上。3.如权利要求1或2所述的透明导电体，其中，导电层在80℃、相对湿度85％的环境中保持1000小时后的表面电阻率为保持前的表面电阻率的5倍以下。4.如权利要求1～3中任一项所述的透明导电体，其中，涂布组合物进一步包含选自由烷氧基硅烷低聚物、(甲基)丙烯酸酯和三聚氰胺树脂组成的组中的至少一种作为粘结剂。5.如权利要求1～4中任一项所述的透明导电体，其中，涂布组...

【专利技术属性】
技术研发人员：大堀达也，久留岛康功，常田义真，
申请(专利权)人：长濑化成株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP